述的光學(xué)特性取得裝置，取得所述攝像裝置的光學(xué)特 性， 位置取得部，在考慮由所述光學(xué)特性取得裝置取得的所述攝像裝置的光學(xué)特性的前提 下，從所述測(cè)定圖像中取得所述多個(gè)記號(hào)的位置。8. -種位置測(cè)定裝置，用于測(cè)定關(guān)注區(qū)域的位置，該關(guān)注區(qū)域被包含于拍攝對(duì)象物而 得的圖像中，其特征在于，具有： 攝像裝置，拍攝對(duì)象物，取得包含矩形、圓形或者橢圓形的關(guān)注區(qū)域的圖像， 其他的圖像存儲(chǔ)部，存儲(chǔ)所述圖像， 其他的運(yùn)算部，在所述其他的圖像存儲(chǔ)部中存儲(chǔ)的所述圖像中，所述關(guān)注區(qū)域的剖面 輪廓是禮帽形的，利用可偏微分的模型函數(shù)，對(duì)所述關(guān)注區(qū)域的像素值分布進(jìn)行模型化，通 過最優(yōu)化法來取得所述模型函數(shù)中包含的多個(gè)系數(shù)， 如權(quán)利要求1~6中的任一項(xiàng)所述的光學(xué)特性取得裝置，取得所述攝像裝置的光學(xué)特 性， 位置取得部，在考慮由所述光學(xué)特性取得裝置取得的所述攝像裝置的光學(xué)特性的前提 下，基于由所述其他的運(yùn)算部取得了所述多個(gè)系數(shù)的所述模型函數(shù)，來取得所述關(guān)注區(qū)域 的位置。9. 如權(quán)利要求8所述的位置測(cè)定裝置，其特征在于， 所述最優(yōu)化法是高斯-牛頓法或者列文伯格-馬夸爾特法。10. 如權(quán)利要求8所述的位置測(cè)定裝置，其特征在于， 所述其他的運(yùn)算部利用式1-3所示的圓形的模型函數(shù)，表現(xiàn)所述關(guān)注區(qū)域的像素值分 布， 所述式1-3是 F (x, y) = a X exp (- (b2 ((χ-c) 2+ (y-d)2))e) +f針對(duì)作為式1-3中的所述多個(gè)系數(shù)的a、b、c、d、e、f， 基于所述圖像中的所述關(guān)注區(qū)域的背景的亮度，決定系數(shù)f的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述剖面輪廓的外緣部的傾斜度，決定系數(shù)e的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的亮度與所述背景的亮度之差，決定系數(shù)a的初始值， 基于所述系數(shù)e的初始值以及所述關(guān)注區(qū)域的大小，決定系數(shù)b的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的中心的X坐標(biāo)，決定系數(shù)c的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述中心的y坐標(biāo)，決定系數(shù)d的初始值。11. 如權(quán)利要求8所述的位置測(cè)定裝置，其特征在于， 所述其他的運(yùn)算部，利用式1-4所示的正方形的模型函數(shù)，來表現(xiàn)所述關(guān)注區(qū)域的像 素值分布， 所述式1-4是 F(x, y) = aXexp(-(b2(((x-c)2)n+((y-d)2) n))e)+f, 其中，η是大于1的實(shí)數(shù)， 針對(duì)作為式1-4中的所述多個(gè)系數(shù)的a、b、c、d、e、f， 基于所述圖像中的所述關(guān)注區(qū)域的背景的亮度，決定系數(shù)f的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述剖面輪廓的外緣部的傾斜度，決定系數(shù)e的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的亮度與所述背景的亮度之差，決定系數(shù)a的初始值， 基于所述系數(shù)e的初始值以及所述關(guān)注區(qū)域的大小，決定系數(shù)b的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的中心的X坐標(biāo)，決定系數(shù)c的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述中心的y坐標(biāo)，決定系數(shù)d的初始值。12. 如權(quán)利要求8所述的位置測(cè)定裝置，其特征在于， 所述對(duì)象物是形成有圖案的基板， 所述關(guān)注區(qū)域表示所述圖案的一部分或者形成于所述基板的孔部。13. 如權(quán)利要求12所述的位置測(cè)定裝置，其特征在于， 所述關(guān)注區(qū)域，是所述圖像中的示出所述圖案的圖案區(qū)域的一部分； 所述其他的運(yùn)算部具有： 圖像加工部，在所述關(guān)注區(qū)域與所述圖案區(qū)域的另一部分連接的情況下，屏蔽掉所述 圖案區(qū)域的所述另一部分，或者，在與所述關(guān)注區(qū)域相對(duì)應(yīng)的所述基板上的區(qū)域含有孔部 的情況下，將表示所述孔部的區(qū)域的像素值替換為所述關(guān)注區(qū)域的其他的區(qū)域的像素值， 系數(shù)取得部，基于由所述圖像加工部加工完的圖像，取得所述多個(gè)系數(shù)。14. 一種數(shù)據(jù)修正裝置，用于修正在基板上繪制的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，其特征在于，具 有： 如權(quán)利要求8所述的位置測(cè)定裝置，測(cè)定在拍攝基板而得的圖像中包含的關(guān)注區(qū)域的 位置， 數(shù)據(jù)修正部，基于所述關(guān)注區(qū)域的位置，修正在基板上繪制的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)。15. -種位置測(cè)定裝置，用于測(cè)定關(guān)注區(qū)域的位置，該關(guān)注區(qū)域被包含于拍攝對(duì)象物而 得的圖像中，其特征在于，具有： 圖像存儲(chǔ)部，拍攝并取得對(duì)象物，并且存儲(chǔ)包含矩形、圓形或者橢圓形的關(guān)注區(qū)域的圖 像， 運(yùn)算部，在所述圖像中，所述關(guān)注區(qū)域的剖面輪廓是禮帽形的，利用可偏微分的模型函 數(shù)，對(duì)所述關(guān)注區(qū)域的像素值分布進(jìn)行模型化，通過最優(yōu)化法來取得所述模型函數(shù)中包含 的多個(gè)系數(shù)， 位置取得部，基于取得了所述多個(gè)系數(shù)的所述模型函數(shù)，取得所述關(guān)注區(qū)域的位置。16. 如權(quán)利要求15所述的位置測(cè)定裝置，其特征在于， 所述最優(yōu)化法是高斯-牛頓法或者列文伯格-馬夸爾特法。17. 如權(quán)利要求15所述的位置測(cè)定裝置，其特征在于， 所述運(yùn)算部利用式1-5所示的圓形的模型函數(shù)，表現(xiàn)所述關(guān)注區(qū)域的像素值分布， 所述式1-5是 F(X，y)= a X exp (_(b2((x-c) 2+(y-d)2))2)+f， 針對(duì)作為式1-5中的所述多個(gè)系數(shù)的a、b、c、d、e、f， 基于所述圖像中的所述關(guān)注區(qū)域的背景的亮度，決定系數(shù)f的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述剖面輪廓的外緣部的傾斜度，決定系數(shù)e的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的亮度與所述背景的亮度之差，決定系數(shù)a的初始值， 基于所述系數(shù)e的初始值以及所述關(guān)注區(qū)域的大小，決定系數(shù)b的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的中心的X坐標(biāo)，決定系數(shù)c的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述中心的y坐標(biāo)，決定系數(shù)d的初始值。18. 如權(quán)利要求15所述的位置測(cè)定裝置，其特征在于， 所述運(yùn)算部利用式1-6所示的正方形的模型函數(shù)，表現(xiàn)所述關(guān)注區(qū)域的像素值分布， 所述式1-6是 F(x,y) =aXexp(-(b2(((x-c)2)n+((y-d)2)n))e)+f, 其中，η是大于1的實(shí)數(shù)， 針對(duì)作為式1-6中的所述多個(gè)系數(shù)的a、b、c、d、e、f， 基于所述圖像中的所述關(guān)注區(qū)域的背景的亮度，決定系數(shù)f的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述剖面輪廓的外緣部的傾斜度，決定系數(shù)e的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的亮度與所述背景的亮度之差，決定系數(shù)a的初始值， 基于所述系數(shù)e的初始值以及所述關(guān)注區(qū)域的大小，決定系數(shù)b的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的中心的X坐標(biāo)，決定系數(shù)c的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述中心的y坐標(biāo)，決定系數(shù)d的初始值。19. 如權(quán)利要求15所述的位置測(cè)定裝置，其特征在于， 所述對(duì)象物是形成有圖案的基板， 所述關(guān)注區(qū)域表示所述圖案的一部分或者形成于所述基板的孔部。20. 如權(quán)利要求19所述的位置測(cè)定裝置，其特征在于， 所述關(guān)注區(qū)域是所述圖像中的示出所述圖案的圖案區(qū)域的一部分； 所述運(yùn)算部具有： 圖像加工部，在所述關(guān)注區(qū)域與所述圖案區(qū)域的另一部分連接的情況下，屏蔽掉所述 圖案區(qū)域的所述另一部分，或者，在與所述關(guān)注區(qū)域相對(duì)應(yīng)的所述基板上的區(qū)域包含孔部 的情況下，將表示所述孔部的區(qū)域的像素值替換為所述關(guān)注區(qū)域的其他的區(qū)域的像素值， 系數(shù)取得部，基于由所述圖像加工部加工成的圖像，取得所述多個(gè)系數(shù)。21. -種數(shù)據(jù)修正裝置，用于修正在基板上繪制的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，其特征在于，具 有： 如權(quán)利要求15~20中的任一項(xiàng)所述的位置測(cè)定裝置，測(cè)定關(guān)注區(qū)域的位置，該關(guān)注區(qū) 域被包含于拍攝基板而得的圖像中， 數(shù)據(jù)修正部，基于所述關(guān)注區(qū)域的位置，修正在基板上繪制的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)。22. -種光學(xué)特性取得方法，用于取得攝像裝置的光學(xué)特性，其特征在于，包括： a工序：準(zhǔn)備由攝像裝置取得的參照物的圖像，在該參照物的圖像中，相同形狀的多個(gè) 圖形元素規(guī)則地分布， b工序：利用可偏微分的模型函數(shù)，對(duì)所述圖像中的所述多個(gè)圖形元素的各自的像素 值分布進(jìn)行模型化，通過最優(yōu)化來取得所述模型函數(shù)中包含的多個(gè)系數(shù)， c工序：基于在所述b工序中取得的所述多個(gè)圖形元素的各自的像素值分布，取得所述 攝像裝置的光學(xué)特性。23. 如權(quán)利要求22所述的光學(xué)特性取得方法，其特征在于， 所述光學(xué)特性是所述攝像裝置的失真特性。24.如權(quán)利要求22所述的光學(xué)特性取得方法，其特征在于， 所述最優(yōu)化法是高斯-牛頓法或者列文伯格-馬夸爾特法。25.如權(quán)利要求22所述的光學(xué)特性取得方法，其特征在于， 利用背景像素值與中心部像素值的平均值對(duì)所述圖像進(jìn)行二進(jìn)制化而得到的與各圖 形元素相對(duì)應(yīng)的像素群全部被包含于一個(gè)正方形區(qū)域中，該背景像素值是所述圖像中除了 所述多個(gè)圖形元素以外的背景的像素值，該中心部像素值是所述多個(gè)圖形元素的中心部的 像素值，該正方形區(qū)域的一條邊小于或等于10像素。26.如權(quán)利要求22所述的光學(xué)特性取得方法，其特征在于， 在所述b工序中，利用式1-7所示的圓狀的二維高斯函數(shù)，表現(xiàn)各圖形元素， 所述式1-7是 F(X，y)= a X exp(_b((x_c) 2+(y_d)2)) +e， 針對(duì)作為式1-7中的所述多個(gè)系數(shù)的a、b、c、d、e， 基于背景像素值，決定系數(shù)e的初始值，該背景像素值是所述圖像中除了所述多個(gè)圖 形元素以外的背景的像素值， 基于所述各圖形元素內(nèi)的像素值與所述背景像素值之差，決定系數(shù)a的初始值， 基于所述各圖形元素的大小，決定系數(shù)b的初始值， 基于所述各圖形元素的中心的X坐標(biāo)，決定系數(shù)c的初始值， 基于所述各圖形元素的所述中心的y坐標(biāo)，決定系數(shù)d的初始值。27.如權(quán)利要求22所述的光學(xué)特性取得方法，其特征在于， 在所述b工序中，利用式1-8所示的矩形的模型函數(shù)，表現(xiàn)各圖形元素， 所述式1-8是 F(X，y)= a X exp(_b((x_c) 2n+(y_d)2n)) +e， 其中，n是大于或等于2的自然數(shù)， 針對(duì)作為式1-8中的所述多個(gè)系數(shù)的a、b、c、d、e， 基于背景像素值，決定系數(shù)e的初始值，該背景像素值是所述圖像中除了所述多個(gè)圖 形元素以外的背景的像素值， 基于所述各圖形元素內(nèi)的像素值與所述背景像素值之差，決定系數(shù)a的初始值， 基于所述各圖形元素的大小，決定系數(shù)b的初始值， 基于所述各圖形元素的中心的X坐標(biāo)，決定系數(shù)c的初始值， 基于所述各圖形元素的所述中心的y坐標(biāo)，決定系數(shù)d的初始值。28.-種位置測(cè)定方法，用于測(cè)定設(shè)有多個(gè)記號(hào)的對(duì)象物的位置，其特征在于，包括： d工序：通過如權(quán)利要求22~27中的任一項(xiàng)所述的光學(xué)特性取得方法，取得所述攝像 裝置的光學(xué)特性， e工序：準(zhǔn)備作為設(shè)有多個(gè)記號(hào)的對(duì)象物的圖像的測(cè)定圖像， f工序：在考慮在所述d工序中取得的所述攝像裝置的光學(xué)特性的前提下，從所述測(cè)定 圖像中取得所述多個(gè)記號(hào)的位置。29. -種位置測(cè)定方法，用于測(cè)定關(guān)注區(qū)域的位置，該關(guān)注區(qū)域被包含于拍攝對(duì)象物而 得的圖像中，其特征在于，包括： g工序：通過如權(quán)利要求22~27中的任一項(xiàng)所述的光學(xué)特性取得方法，取得所述攝像 裝置的光學(xué)特性， h工序：使用所述攝像裝置拍攝并取得對(duì)象物，并且準(zhǔn)備包含矩形、圓形或者橢圓形的 關(guān)注區(qū)域的圖像， i工序：在所述圖像中，所述關(guān)注區(qū)域的剖面輪廓是禮帽形的，利用可偏微分的模型函 數(shù)，對(duì)所述關(guān)注區(qū)域的像素值分布進(jìn)行模型化，通過最優(yōu)化法來取得所述模型函數(shù)中包含 的多個(gè)系數(shù)， j工序：在考慮由所述光學(xué)特性取得裝置取得的所述攝像裝置的光學(xué)特性的前提下， 基于在所述i工序中取得了所述多個(gè)系數(shù)的所述模型函數(shù)，取得所述關(guān)注區(qū)域的位置。30.如權(quán)利要求29所述的位置測(cè)定方法，其特征在于， 所述最優(yōu)化法是高斯-牛頓法或者列文伯格-馬夸爾特法。31.如權(quán)利要求29所述的位置測(cè)定方法，其特征在于， 在所述i工序中，利用式1-9所示的圓形的模型函數(shù)，表現(xiàn)所述關(guān)注區(qū)域的像素值分 布， 所述式1-9是 F(X，y)=a X exp(_(b2((x-c) 2+ (y-d)2))e) +f， 針對(duì)作為式1-9中的所述多個(gè)系數(shù)的a、b、c、d、e、f， 基于所述圖像中的所述關(guān)注區(qū)域的背景的亮度，決定系數(shù)f的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述剖面輪廓的外緣部的傾斜度，決定系數(shù)e的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的亮度與所述背景的亮度之差，決定系數(shù)a的初始值， 基于所述系數(shù)e的初始值以及所述關(guān)注區(qū)域的大小，決定系數(shù)b的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的中心的X坐標(biāo)，決定系數(shù)c的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述中心的y坐標(biāo)，決定系數(shù)d的初始值。32.如權(quán)利要求29所述的位置測(cè)定方法，其特征在于， 在所述i工序中，利用式1-10所示的正方形的模型函數(shù)，表現(xiàn)所述關(guān)注區(qū)域的像素值 分布， 所述式1-10是 F(x, y) = aXexp(-(b2(((x-c)2)n+((y-d)2) n))e)+f, 其中，η是大于1的實(shí)數(shù)， 針對(duì)作為式1-10中的所述多個(gè)系數(shù)的a、b、c、d、e、f， 基于所述圖像中的所述關(guān)注區(qū)域的背景的亮度，決定系數(shù)f的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述剖面輪廓的外緣部的傾斜度，決定系數(shù)e的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的亮度與所述背景的亮度之差，決定系數(shù)a的初始值， 基于所述系數(shù)e的初始值以及所述關(guān)注區(qū)域的大小，決定系數(shù)b的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的中心的X坐標(biāo)，決定系數(shù)c的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述中心的y坐標(biāo)，決定系數(shù)d的初始值。33.如權(quán)利要求29所述的位置測(cè)定方法，其特征在于， 所述對(duì)象物是形成有圖案的基板， 所述關(guān)注區(qū)域表示所述圖案的一部分或者形成于所述基板的孔部。34.如權(quán)利要求33所述的位置測(cè)定方法，其特征在于， 所述關(guān)注區(qū)域是所述圖像中的示出所述圖案的圖案區(qū)域的一部分； 所述i工序包括： il工序：在所述關(guān)注區(qū)域與所述圖案區(qū)域的另一部分連接的情況下，屏蔽掉所述圖案 區(qū)域的所述另一部分，或者，在與所述關(guān)注區(qū)域相對(duì)應(yīng)的所述基板上的區(qū)域包含孔部的情 況下，將表示所述孔部的區(qū)域的像素值替換為所述關(guān)注區(qū)域的其他的區(qū)域的像素值， i2工序：基于通過所述il工序加工完的圖像，取得所述多個(gè)系數(shù)。35. -種數(shù)據(jù)修正方法，用于修正在基板上繪制的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，其特征在于，包 括： 如權(quán)利要求29所述的位置測(cè)定方法，測(cè)定關(guān)注區(qū)域的位置，該關(guān)注區(qū)域被包含于拍攝 基板而得的圖像中， 設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)修正工序，基于所述關(guān)注區(qū)域的位置，修正在基板上繪制的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)。36. -種位置測(cè)定方法，用于測(cè)定關(guān)注區(qū)域的位置，該關(guān)注區(qū)域被包含于拍攝對(duì)象物而 得的圖像中，其特征在于，包括： a工序：拍攝并取得對(duì)象物，并且準(zhǔn)備包含矩形、圓形或者橢圓形的關(guān)注區(qū)域的圖像，b工序：在所述圖像中，所述關(guān)注區(qū)域的剖面輪廓是禮帽形的，利用可偏微分的模型函 數(shù)，對(duì)所述關(guān)注區(qū)域的像素值分布進(jìn)行模型化，通過最優(yōu)化法來取得所述模型函數(shù)中包含 的多個(gè)系數(shù)， c工序：基于取得了所述多個(gè)系數(shù)的所述模型函數(shù)，取得所述關(guān)注區(qū)域的位置。37. 如權(quán)利要求36所述的位置測(cè)定方法，其特征在于， 所述最優(yōu)化法是高斯-牛頓法或者列文伯格-馬夸爾特法。38. 如權(quán)利要求36所述的位置測(cè)定方法，其特征在于， 在所述b工序中，利用式1-11所示的圓形的模型函數(shù)，表現(xiàn)所述關(guān)注區(qū)域的像素值分 布， 所述式1-11是 F(X，y)=a X exp(_(b2((x-c) 2+ (y-d)2))e) +f， 針對(duì)作為式1-11中的所述多個(gè)系數(shù)的a、b、c、d、e、f， 基于所述圖像中的所述關(guān)注區(qū)域的背景的亮度，決定系數(shù)f的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述剖面輪廓的外緣部的傾斜度，決定系數(shù)e的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的亮度與所述背景的亮度之差，決定系數(shù)a的初始值， 基于所述系數(shù)e的初始值以及所述關(guān)注區(qū)域的大小，決定系數(shù)b的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的中心的X坐標(biāo)，決定系數(shù)c的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述中心的y坐標(biāo)，決定系數(shù)d的初始值。39. 如權(quán)利要求36所述的位置測(cè)定方法，其特征在于， 在所述b工序中，利用式1-12所示的正方形的模型函數(shù)，表現(xiàn)所述關(guān)注區(qū)域的像素值 分布， 所述式1-12是 F(x, y) = aXexp(-(b2(((x-c)2)n+((y-d)2) n))e)+f, 其中，η是大于1的實(shí)數(shù) 針對(duì)作為式1-12中的所述多個(gè)系數(shù)的a、b、c、d、e、f， 基于所述圖像中的所述關(guān)注區(qū)域的背景的亮度，決定系數(shù)f的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述剖面輪廓的外緣部的傾斜度，決定系數(shù)e的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的亮度與所述背景的亮度之差，決定系數(shù)a的初始值， 基于所述系數(shù)e的初始值以及所述關(guān)注區(qū)域的大小，決定系數(shù)b的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的中心的X坐標(biāo)，決定系數(shù)c的初始值， 基于所述關(guān)注區(qū)域的所述中心的y坐標(biāo)，決定系數(shù)d的初始值。40. 如權(quán)利要求36所述的位置測(cè)定方法，其特征在于， 所述對(duì)象物是形成有圖案的基板， 所述關(guān)注區(qū)域表示所述圖案的一部分或者形成于所述基板的孔部。41. 如權(quán)利要求40所述的位置測(cè)定方法，其特征在于， 所述關(guān)注區(qū)域是所述圖像中的示出所述圖案的圖案區(qū)域的一部分； 所述b工序包括： bl工序：在所述關(guān)注區(qū)域與所述圖案區(qū)域的另一部分連接的情況下，屏蔽掉所述圖案 區(qū)域的所述另一部分，或者，在與所述關(guān)注區(qū)域相對(duì)應(yīng)的所述基板上的區(qū)域包含孔部的情 況下，將表示所述孔部的區(qū)域的像素值替換為所述關(guān)注區(qū)域的其他的區(qū)域的像素值， b2工序：基于通過所述bl工序加工完的圖像，取得所述多個(gè)系數(shù)。42. -種數(shù)據(jù)修正方法，用于修正在基板上繪制的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，其特征在于，包 括： 如權(quán)利要求36~41中的任一項(xiàng)所述的位置測(cè)定方法，測(cè)定關(guān)注區(qū)域的位置，該關(guān)注區(qū) 域被包含于拍攝基板而得的圖像中， 設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)修正工序，基于所述關(guān)注區(qū)域的位置，修正在基板上繪制的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)。
【專利摘要】本發(fā)明是一種高精度地取得攝像裝置的光學(xué)特性的光學(xué)特性取得裝置。繪制裝置使用攝像裝置(5)取得作為標(biāo)準(zhǔn)化板的圖像的參照?qǐng)D像。光學(xué)特性取得裝置(8)使用圖像存儲(chǔ)部(81)存儲(chǔ)參照?qǐng)D像。接下來，在使用運(yùn)算部(82)，根據(jù)可偏微分的模型函數(shù)，將參照?qǐng)D像中的各圖形元素的像素值分布進(jìn)行模型化之后，通過以最優(yōu)化法進(jìn)行決定的方式，取得模型函數(shù)中包含的多個(gè)系數(shù)。然后，使用光學(xué)特性取得部(83)，基于各圖形元素的像素值分布，取得攝像裝置(5)的光學(xué)特性。在光學(xué)特性取得裝置(8)中，即使在形成各圖形元素的像的像素值較少的情況下，也能夠高精度地求出各圖形元素的像的像素值分布。因此，能夠高精度地取得攝像裝置(5)的光學(xué)特性。
【IPC分類】G03F7/20, G03F9/00
【公開號(hào)】CN105372946
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510487145
【發(fā)明人】谷口和隆
【申請(qǐng)人】斯克林集團(tuán)公司
【公開日】2016年3月2日
【申請(qǐng)日】2015年8月10日