1方向正交的第2方向；以及 第3移動體，其與所述物體支承構(gòu)件在至少所述第1方向于振動上分離，并且在所述第1移動體的在所述第1方向的可移動范圍內(nèi)從下方支承所述第1移動體，能與所述第2移動體一起移動于所述第2方向。2.如權(quán)利要求1所述的移動體裝置，其中，所述第2移動體在第1底座構(gòu)件上移動于所述第2方向；以及 所述第3移動體在與所述第1底座構(gòu)件振動上分離的第2底座構(gòu)件上在所述第2方向上移動。3.如權(quán)利要求1或2所述的移動體裝置，其中，所述第1移動體以非接觸方式支承于所述第3移動體上。4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其進(jìn)一步具備能在所述第2移動體上移動于所述第1方向的第4移動體；以及 所述第1移動體通過被所述第4移動體誘導(dǎo)而移動于所述第1方向。5.如權(quán)利要求4所述的移動體裝置，其中，在所述第4移動體被驅(qū)動于所述第1方向時(shí)，所述第1移動體是通過包含設(shè)于所述第4移動體的固定子與設(shè)于所述第1移動體的可動子的第1線性馬達(dá)而與所述第4移動體同步被驅(qū)動。6.如權(quán)利要求4或5所述的移動體裝置，其中，在所述第4移動體被驅(qū)動于所述第1方向時(shí)，所述第1移動體是通過包含設(shè)于所述第4移動體的固定子與設(shè)于所述第1移動體的可動子的第2線性馬達(dá)而被微幅驅(qū)動于所述第2方向及繞與所述二維平面正交的軸的方向的至少一方。7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其中，所述第2移動體通過驅(qū)動裝置驅(qū)動于所述第2方向； 所述第2移動體與所述第3移動體通過連結(jié)裝置連結(jié)；以及 所述第3移動體通過所述連結(jié)裝置被所述第2移動體牽引而與所述第2移動體一起移動于所述第2方向。8.如權(quán)利要求7所述的移動體裝置，其中，所述連結(jié)裝置的六個(gè)自由度方向中，除了所述第2方向以外的五個(gè)自由度方向的剛性較所述第2方向的剛性低。9.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其中，所述第2移動體被驅(qū)動裝置驅(qū)動于所述第2方向；以及 所述第3移動體通過與所述驅(qū)動裝置驅(qū)動的所述第2移動體接觸并按壓而與所述第2移動體一起移動于所述第2方向。10.如權(quán)利要求9所述的移動體裝置，其中，在使所述第3移動體在所述第2方向上移動至既定位置后，所述第2移動體被所述驅(qū)動裝置驅(qū)動于與所述第3移動體分離的方向。11.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其進(jìn)一步具備從第2及第3移動體的一方往另一方噴出氣體的氣體靜壓軸承； 其中所述第2移動體被驅(qū)動裝置驅(qū)動于所述第2方向；以及 所述第3移動體通過被所述驅(qū)動裝置驅(qū)動的所述第2移動體透過所述氣體以非接觸方式按壓而與所述第2移動體一起移動于所述第2方向。12.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其中，所述第2移動體被第1驅(qū)動裝置驅(qū)動于所述第2方向；以及 所述第3移動體通過與所述第1驅(qū)動裝置獨(dú)立控制的第2驅(qū)動裝置而與所述第2移動體同步驅(qū)動于所述第2方向。13.如權(quán)利要求12所述的移動體裝置，其中，所述第1驅(qū)動裝置與所述第2驅(qū)動裝置使用共通的固定子。14.如權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其中，所述物體支承構(gòu)件以非接觸方式支承前述物體。15.如權(quán)利要求14所述的移動體裝置，其中，所述物體支承構(gòu)件通過往所述物體的下面噴出加壓氣體而以非接觸方式支承該物體。16.如權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其進(jìn)一步具備干涉儀系統(tǒng)，所述干涉儀系統(tǒng)通過對所述第1移動體所具有的反射面照射測距光束且接收其反射光，以根據(jù)其反射光求出所述第1移動體的位置信息； 其中根據(jù)所述干涉儀系統(tǒng)的輸出而控制所述第1移動體在所述二維平面內(nèi)的位置。17.如權(quán)利要求1至16中任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其進(jìn)一步具備調(diào)整裝置，所述調(diào)整裝置包含具有較所述物體面積小的保持面的保持裝置，使用所述保持裝置從所述物體下方保持所述物體之中與所述保持面對向的部分以調(diào)整與所述二維平面交叉的方向的位置。18.如權(quán)利要求17所述的移動體裝置，其中，所述保持裝置以非接觸方式保持所述物體。19.如權(quán)利要求18所述的移動體裝置，其中，所述調(diào)整裝置從所述保持裝置對所述物體噴出加壓氣體且通過吸引所述保持裝置與所述物體之間的氣體，對所述物體施加重力方向的負(fù)荷而以非接觸方式保持所述物體。20.如權(quán)利要求17至19中任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其中，所述調(diào)整裝置在所述二維平面的位置是固定。21.如權(quán)利要求20所述的移動體裝置，其中，所述調(diào)整裝置搭載于與所述第2移動體振動上分離的構(gòu)件上。22.如權(quán)利要求21所述的移動體裝置，其中，所述第1移動體將所述物體保持成能移動于與所述既定二維平面交叉的方向。23.如權(quán)利要求20至22任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其中，所述物體支承構(gòu)件在所述第1方向于所述調(diào)整裝置的一側(cè)及另一側(cè)支承所述物體。24.如權(quán)利要求17至23中任一項(xiàng)所述的移動體裝置，其中，所述調(diào)整裝置進(jìn)一步具有用以抵銷所述保持裝置的重量的重量抵銷裝置。25.—種物體處理裝置，其具備: 如權(quán)利要求17至24任一項(xiàng)所述的移動體裝置；以及 執(zhí)行裝置，其為了進(jìn)行與所述物體上的既定處理，從與所述保持裝置相反的側(cè)對通過所述物體的所述保持裝置保持的部分執(zhí)行既定動作。26.如權(quán)利要求25所述的物體處理裝置，其中，所述執(zhí)行裝置是使用能量光束將既定圖案形成于所述物體的裝置。27.—種曝光裝置，其具備: 如權(quán)利要求1至24中任一項(xiàng)的移動體裝置；以及 通過能量光束使所述物體曝光據(jù)以將既定圖案形成于所述物體上的圖案形成裝置。28.如權(quán)利要求27所述的曝光裝置，其中，所述物體是用于平板顯示器裝置的基板。29.—種平板顯示器的制造方法，其包含: 使用如權(quán)利要求28的曝光裝置使所述基板曝光的動作；以及 使曝光后的所述基板顯影的動作。30.一種元件制造方法，其包含: 使用如權(quán)利要求27的曝光裝置使所述物體曝光的動作；以及 使曝光后的前述物體顯影的動作。31.一種曝光裝置，通過能量束使物體曝光據(jù)以將圖案形成于所述物體上，其具備: 第1移動體，其可保持沿與水平面平行的既定二維平面配置的所述物體的端部，并且在至少所述二維平面內(nèi)的第1方向以既定行程移動； 第2移動體，其包含在所述第1移動體的在所述第1方向的可移動范圍內(nèi)從下方支承前述物體的物體支承構(gòu)件，并且能與所述第1移動體一起移動于在所述二維平面內(nèi)與所述第1方向正交的第2方向； 第3移動體，其與所述物體支承構(gòu)件在至少所述第1方向于振動上分離，在所述第1移動體的在所述第1方向的可移動范圍內(nèi)從下方支承所述第1移動體，并且能與所述第2移動體一起移動于所述第2方向；以及 曝光系統(tǒng)，其通過所述能量光束使所述物體曝光。32.如權(quán)利要求31所述的曝光裝置，其中，所述第2移動體在第1底座構(gòu)件上移動于所述第2方向；以及 所述第3移動體在與所述第1底座構(gòu)件于振動上分離的第2底座構(gòu)件上移動于前述第2方向。33.如權(quán)利要求31或32所述的曝光裝置，其中，所述第1移動體以非接觸方式于所述第3移動體上支承。34.如權(quán)利要求31至33中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其進(jìn)一步具備: 能在所述第2移動體上移動于所述第1方向的第4移動體； 其中所述第1移動體通過被所述第4移動體誘導(dǎo)而移動于所述第1方向。35.如權(quán)利要求34所述的曝光裝置，其中，在所述第4移動體被驅(qū)動于所述第1方向時(shí)，所述第1移動體是通過包含設(shè)于所述第4移動體的固定子與設(shè)于所述第1移動體的可動子的第1線性馬達(dá)而與所述第4移動體同步被驅(qū)動。36.如權(quán)利要求34或35所述的曝光裝置，其中，所述第4移動體被驅(qū)動于所述第1方向時(shí)，所述第1移動體是通過包含設(shè)于所述第4移動體的固定子與設(shè)于所述第1移動體的可動子的第2線性馬達(dá)而被微幅驅(qū)動于所述第2方向及繞與所述二維平面正交的軸的方向的至少一方。37.如權(quán)利要求31至36中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述第2移動體通過驅(qū)動裝置驅(qū)動于所述第2方向； 所述第2移動體與所述第3移動體通過連結(jié)裝置連結(jié)；以及 所述第3移動體通過前述連結(jié)裝置被所述第2移動體牽引而與所述第2移動體一起移動于所述第2方向。38.如權(quán)利要求37所述的曝光裝置，其中，所述連結(jié)裝置的六個(gè)自由度方向中，除了所述第2方向以外的五個(gè)自由度方向的剛性較所述第2方向的剛性低。39.如權(quán)利要求31至36中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述第2移動體通過驅(qū)動裝置驅(qū)動于所述第2方向；以及 所述第3移動體通過與所述驅(qū)動裝置驅(qū)動的所述第2移動體接觸并按壓而與所述第2移動體一起移動于所述第2方向。40.如權(quán)利要求39所述的曝光裝置，其中，在使所述第3移動體于所述第2方向移動至既定位置后，所述第2移動體被所述驅(qū)動裝置驅(qū)動于與所述第3移動體分離的方向。41.如權(quán)利要求31至36中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其進(jìn)一步具備: 從第2及第3移動體的一方往另一方噴出氣體的氣體靜壓軸承； 其中所述第2移動體通過驅(qū)動裝置驅(qū)動于所述第2方向；以及 所述第3移動體通過被所述驅(qū)動裝置驅(qū)動的所述第2移動體通過所述氣體以非接觸方式按壓而與所述第2移動體一起移動于所述第2方向。42.如權(quán)利要求31至36中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述第2移動體通過第1驅(qū)動裝置驅(qū)動于所述第2方向； 所述第3移動體通過與所述第1驅(qū)動裝置獨(dú)立控制的第2驅(qū)動裝置而與所述第2移動體同步驅(qū)動于所述第2方向。43.如權(quán)利要求42所述的曝光裝置，其中，所述第1驅(qū)動裝置與所述第2驅(qū)動裝置使用共通的固定子。44.如權(quán)利要求31至43中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述物體支承構(gòu)件以非接觸方式支承所述物體。45.如權(quán)利要求44所述的曝光裝置，其中，所述物體支承構(gòu)件通過往所述物體的下面噴出加壓氣體而以非接觸方式支承該物體。46.如權(quán)利要求31至45中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其進(jìn)一步具備: 測量所述第1移動體的位置信息的測量裝置； 其中根據(jù)所述測量裝置的測量信息而控制所述第1移動體的所述二維平面內(nèi)的位置。47.如權(quán)利要求31至46中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其進(jìn)一步具備: 調(diào)整裝置，所述調(diào)整裝置包含具有較所述物體面積小的保持面的保持裝置，并且在與所述保持面對向的所述物體的部分處使用所述保持裝置從下方保持所述物體以調(diào)整與所述二維平面交叉的方向的位置。48.如權(quán)利要求47所述的曝光裝置，其中，所述保持裝置以非接觸方式保持所述物體。49.如權(quán)利要求48所述的曝光裝置，其中，所述調(diào)整裝置是通過平衡通過從所述保持裝置對所述物體噴出的加壓氣體而形成在所述保持裝置與所述物體間的靜壓以及通過真空吸引而形成在所述保持裝置與所述物體間的負(fù)壓而以非接觸方式保持所述物體。50.如權(quán)利要求47至49中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述調(diào)整裝置在所述二維平面內(nèi)的位置是固定。51.如權(quán)利要求50所述的曝光裝置，其中，所述調(diào)整裝置是搭載于與所述第2移動體振動上分離的構(gòu)件上。52.如權(quán)利要求51所述的曝光裝置，其中，所述第1移動體將所述物體保持成能移動于與所述既定二維平面交叉的方向。53.如權(quán)利要求50至52中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述物體支承構(gòu)件在所述第1方向于所述調(diào)整裝置的一側(cè)及另一側(cè)支承所述物體。54.如權(quán)利要求47至53中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述調(diào)整裝置進(jìn)一步具有用以抵銷所述保持裝置的重量的重量抵銷裝置。55.如權(quán)利要求31至54中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述物體系用于平板顯示器裝置的基板。56.一種平板顯示器的制造方法，其包含: 使用權(quán)利要求55的曝光裝置使所述基板曝光的動作；以及 使曝光后的所述基板顯影的動作。57.—種元件制造方法，其包含: 使用權(quán)利要求31至55中任一項(xiàng)的曝光裝置使所述物體曝光的動作；以及 使曝光后的所述物體顯影的動作。
【專利摘要】通過基板支承構(gòu)件(60)在Y步進(jìn)定盤(20)上于掃描方向以既定行程移動，保持于該基板支承構(gòu)件(60)的基板(P)即以被空氣懸浮裝置(59)從下方支承的狀態(tài)于掃描方向以既定行程移動。又，由于具有空氣懸浮裝置(59)的Y步進(jìn)導(dǎo)件(50)與基板支承構(gòu)件(60)一起移動于交叉掃描方向，因此能使基板(P)往掃描方向及/或交叉掃描方向任意移動。此時(shí)，由于Y步進(jìn)定盤(20)也與基板支承構(gòu)件(60)及Y步進(jìn)導(dǎo)件(50)一起移動于交叉掃描方向，因此基板支承構(gòu)件(60)隨時(shí)支承于Y步進(jìn)定盤(20)。
【IPC分類】G03F7/20, G02F1/13
【公開號】CN105404097
【申請?zhí)枴緾N201510651366
【發(fā)明人】青木保夫
【申請人】株式會社尼康
【公開日】2016年3月16日
【申請日】2011年9月5日
【公告號】CN103097957A, CN103097957B, US20120064460, WO2012033212A1