光罩的缺陷修復(fù)方法及光罩的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本申請涉及半導(dǎo)體集成電路的技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種光罩的缺陷修復(fù)方法及光罩。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體集成電路的制作過程中，需要采用光罩定義電路圖形的位置，然后通過光刻機(jī)對所投影的電路圖形進(jìn)行光刻蝕，以在半導(dǎo)體基材上形成所需器件。形成光罩的方法包括:首先，在石英玻璃上沿遠(yuǎn)離石英玻璃的方向依次鍍上一層金屬鉻和感光膠；然后，把已設(shè)計(jì)好的電路圖形通過電子激光設(shè)備曝光在感光膠上；最后，沿感光膠中的圖案刻蝕金屬鉻以形成電路圖形。該方法通常會(huì)在所形成光罩中引入缺陷，例如刻蝕金屬鉻時(shí)曝光能量不均或金屬鉻上沾染少許環(huán)境中的微粒等均會(huì)在所形成的光罩中引入缺陷，從而使得光罩中圖形產(chǎn)生誤差。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中通常對光罩上的缺陷進(jìn)行修復(fù)，以減少光罩中圖形誤差，并獲得合乎設(shè)計(jì)要求的光罩。目前，一般采用圖形對比方法對待修復(fù)光罩中的缺陷進(jìn)行修復(fù)。該修復(fù)方法包括以下步驟:首先，獲取正常光罩(不含缺陷的光罩)或待修復(fù)光罩中的其他正常區(qū)域的SEM圖形，并將此SEM圖形作為參考圖形；然后，采用掃描機(jī)臺(tái)對待修復(fù)光罩進(jìn)行掃描，以獲取待修復(fù)光罩的SEM圖形；接下來，將參考圖形和待修復(fù)光罩的SEM圖形進(jìn)行對比，以確定待修復(fù)光罩中的缺陷位置，進(jìn)而確認(rèn)需要修復(fù)的位置；最后，對待修復(fù)光罩中的缺陷進(jìn)行修復(fù)。
[0004]然而，對于一些獨(dú)特的光罩，特別是具有較小的特征尺寸、較小的缺陷標(biāo)準(zhǔn)的光罩，可能存在無法取得一個(gè)正常光罩(不含缺陷的光罩)。對此類待修復(fù)光罩進(jìn)行修復(fù)的方法中，很難找到合適的參考圖形，使得待修復(fù)光罩的修復(fù)方法無法實(shí)現(xiàn)。同時(shí)，現(xiàn)有修復(fù)方法中通常是通過肉眼觀察以對光罩的原始數(shù)據(jù)文件和待修復(fù)光罩的SEM圖形進(jìn)行對比，因此所獲取光罩中的缺陷的位置往往不夠準(zhǔn)確，影響了修復(fù)的準(zhǔn)確性。針對上述問題，目前還沒有有效的解決方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本申請旨在提供一種光罩的缺陷修復(fù)方法及光罩，以解決光罩的缺陷修復(fù)方法中難以找到參考圖形的問題。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本申請?zhí)峁┝艘环N光罩的缺陷修復(fù)方法及光罩，該缺陷修復(fù)方法包括:打開光罩的原始數(shù)據(jù)文件以獲取光罩的原始圖形，并通過修正原始圖形以獲取光罩的參考圖形；采用掃描機(jī)臺(tái)對部分光罩進(jìn)行掃描，以獲取光罩的SEM圖形；將參考圖形和SEM圖形進(jìn)行對比，以定位光罩中的缺陷的位置；修補(bǔ)光罩中的缺陷。
[0007]進(jìn)一步地，上述缺陷修復(fù)方法中，修正原始圖形的步驟包括:截取原始圖形中對應(yīng)于SEM圖形的部分作為初始參考圖形；對初始參考圖形進(jìn)行邊角圓滑處理和輪廓抽邊處理，以獲得中間參考圖形；對中間參考圖形進(jìn)行放大處理，以獲得與所述SEM圖形尺寸匹配的參考圖形。
[0008]進(jìn)一步地，上述缺陷修復(fù)方法中，獲取原始圖形的步驟中，打開存放于工作臺(tái)視窗系統(tǒng)中的原始數(shù)據(jù)文件以獲得原始圖形。
[0009]進(jìn)一步地，上述缺陷修復(fù)方法中，獲取初始參考圖形的步驟中，截取邊長為2?4μ m的原始圖形作為初始參考圖形。
[0010]進(jìn)一步地，上述缺陷修復(fù)方法中，獲取中間參考圖形的步驟中，采用工作臺(tái)視窗系統(tǒng)自動(dòng)對初始參考圖形進(jìn)行邊角圓滑處理和輪廓抽邊處理，以獲得中間參考圖形。
[0011]進(jìn)一步地，上述缺陷修復(fù)方法中，獲取中間參考圖形的步驟包括:采用工作臺(tái)視窗系統(tǒng)對參考圖形進(jìn)行邊角圓滑處理，以使初始參考圖形的垂直邊角形成圓角；采用工作臺(tái)視窗系統(tǒng)對邊角圓滑處理后的初始參考圖形進(jìn)行輪廓抽邊處理，以獲得邊角圓滑處理后的初始參考圖形的圖形輪廓，并將圖形輪廓作為中間參考圖形。
[0012]進(jìn)一步地，上述缺陷修復(fù)方法中，在定位光罩中的缺陷的位置的步驟中，將SEM圖形復(fù)制到工作臺(tái)視窗系統(tǒng)中以將參考圖形和SEM圖形進(jìn)行對比。
[0013]進(jìn)一步地，上述缺陷修復(fù)方法中，定位光罩中的缺陷的位置的步驟包括:將參考圖形和SEM圖形進(jìn)行疊加；對比參考圖形和SEM圖形以找出光罩中的缺陷；獲取光罩中的缺陷的位置坐標(biāo)，以定位光罩中的缺陷的位置。
[0014]進(jìn)一步地，上述缺陷修復(fù)方法中，修補(bǔ)光罩中的缺陷的方法為聚焦離子束轟擊或離子反應(yīng)沉積。
[0015]進(jìn)一步地，上述缺陷修復(fù)方法中，原始數(shù)據(jù)文件為⑶S文件。
[0016]本申請還提供了一種光罩，該光罩本申請上述的缺陷修復(fù)方法修復(fù)而成。
[0017]應(yīng)用本申請的技術(shù)方案，通過打開光罩的原始數(shù)據(jù)文件以獲取光罩的原始圖形，并通過修正原始圖形以獲取光罩的參考圖形，然后將參考圖形和光罩的SEM圖形進(jìn)行對比以定位光罩中的缺陷的位置，從而實(shí)現(xiàn)了修補(bǔ)光罩中的缺陷的目的。該方法從光罩的原始數(shù)據(jù)文件獲取光罩的參考圖形，因而該方法能夠獲得任何光罩的參考圖形，從而解決了光罩的缺陷修復(fù)方法中難以找到參考圖形的問題。同時(shí)，本申請還通過將SEM圖形復(fù)制到工作臺(tái)視窗系統(tǒng)中，并通過自動(dòng)參考圖形和所述SEM圖形進(jìn)行對比，從而更準(zhǔn)確地獲取光罩中的缺陷位置，進(jìn)而提高了光罩中的缺陷修復(fù)的準(zhǔn)確性。
【附圖說明】
[0018]構(gòu)成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本申請的進(jìn)一步理解，本申請的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本申請，并不構(gòu)成對本申請的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0019]圖1示出了本申請實(shí)施方式提供的光罩的缺陷修復(fù)方法的流程示意圖；
[0020]圖2示出了本申請實(shí)施方式提供的光罩的缺陷修復(fù)方法中，打開光罩的原始數(shù)據(jù)文件以獲取光罩的原始圖形，并通過修正原始圖形所獲取的光罩的參考圖形；
[0021]圖3示出了采用掃描機(jī)臺(tái)對部分光罩進(jìn)行掃描所獲取光罩的SEM圖形；
[0022]圖4示出了將圖2所示的參考圖形和圖3所示的SEM圖形進(jìn)行對比后的示意圖；以及
[0023]圖5示出了修補(bǔ)光罩中的缺陷后所形成光罩的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0024]需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來詳細(xì)說明本申請。
[0025]需要注意的是，這里所使用的術(shù)語僅是為了描述【具體實(shí)施方式】，而非意圖限制根據(jù)本申請的示例性實(shí)施方式。如在這里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數(shù)形式也意圖包括復(fù)數(shù)形式，此外，還應(yīng)當(dāng)理解的是，當(dāng)在本說明書中使用術(shù)語“包含”和/或“包括”時(shí)，其指明存在特征、步驟、操作、器件、組件和/或它們的組合。
[0026]為了便于描述，在這里可以使用空間相對術(shù)語，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用來描述如在圖中所示的一個(gè)器件或特征與其他器件或特征的空間位置關(guān)系。應(yīng)當(dāng)理解的是，空間相對術(shù)語旨在包含除了器件在圖中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附圖中的器件被倒置，則描述為“在其他器件或構(gòu)造上方”或“在其他器件或構(gòu)造之上”的器件之后將被定位為“在其他器件或構(gòu)造下方”或“在其他器件或構(gòu)造之下”。因而，示例性術(shù)語“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”兩種方位。該器件也可以其他不同方式定位(旋轉(zhuǎn)90度或處于其他方位)，并且對這里所使用的空間相對描述作出相應(yīng)解釋。
[0027]正如【背景技術(shù)】中所介紹的，對光罩進(jìn)行修復(fù)的方法中，很難找到合適的參考圖形，使得光罩的修復(fù)方法無法實(shí)現(xiàn)。本申請的發(fā)明人針對上述問題進(jìn)行研究，提出了一種光罩的缺陷修復(fù)方法。如圖1所示，該缺陷修復(fù)方法包括:打開光罩的原始數(shù)據(jù)文件以獲取光罩的原始圖形，并通過修正原始圖形以獲取光罩的參考圖形；采用掃描機(jī)臺(tái)對部分光罩進(jìn)行掃描，以獲取光罩的SEM圖形；將參考圖形和SEM圖形進(jìn)行對比，以定位光罩中的缺陷的位置；修補(bǔ)光罩中的缺陷。
[0028]上述缺陷修復(fù)方法通過打開光罩的原始數(shù)據(jù)文件以獲取光罩的原始圖形，并通過修正原始圖形以獲取光罩的參考圖形，然后將參考圖形和光罩的SEM圖形進(jìn)行對比以定位光罩中的缺陷的位置，從而實(shí)現(xiàn)了修補(bǔ)光罩中的缺陷的目的。該方法從光罩的原始數(shù)據(jù)文件獲取光罩的參考圖形，因而該方法能夠獲得任何光罩的參考圖形，從而解決了光罩的缺陷修復(fù)方法中難以找到參考圖形的問題。同時(shí)，本申請還通過將SEM圖形復(fù)制到工作臺(tái)視窗系統(tǒng)中，并通過自動(dòng)參考圖形和所述SEM圖形進(jìn)行對比，從而更準(zhǔn)確地獲取光罩中的缺陷位置，進(jìn)而提高了光罩中的缺陷修復(fù)的準(zhǔn)確性。
[0029]下面將更詳細(xì)地描述根據(jù)本申請的示例性實(shí)施方式。然而，這些示例性實(shí)施方式可以由多種不同的形式來實(shí)施，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為只限于這里所闡述的實(shí)施方式。應(yīng)當(dāng)理解的是，提供這些實(shí)施方式是為了使得本申請的公開徹底且完整，并且將這些示例性實(shí)施方式的構(gòu)思充分傳達(dá)給本領(lǐng)域普通技術(shù)人員，在附圖中，為了清楚起見，擴(kuò)大了層和區(qū)域的厚度，并且使用相同的附圖標(biāo)記表示相同的器件，因而將省略對它們的描述。
[0030]圖2至圖5示出了本申請?zhí)峁┑墓庹值男迯?fù)方法中，經(jīng)過各個(gè)步驟后得到的基體的示意圖。下面將結(jié)合圖2至圖5，進(jìn)一步說明本申請所提供的光罩的修復(fù)方法。
[0031]首先，打開光罩的原始數(shù)據(jù)文件以獲取光罩的原始圖形，并通過修正原始圖形以獲取光罩的參考圖形，其結(jié)構(gòu)如圖2所示。其中，原始數(shù)據(jù)文件的格式可以為本領(lǐng)域中常見的數(shù)據(jù)格式，在一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，原始數(shù)據(jù)文件為GDS(圖形數(shù)據(jù)流格式)文件。當(dāng)然，原始數(shù)據(jù)文件的格式還可以為OASIS (開放架構(gòu)交互