放熱特性有關(guān)的測量結(jié)果來確定Τ2αα。
[0111]另外，在上面的描述中，舉例說明了用于通過對成像性能的測量來確定每個參數(shù)的方法。然而，本發(fā)明不限于此，并且例如可能可以通過事先仿真來確定每個參數(shù)，并且通過使用獲取的參數(shù)來導(dǎo)出成像性能的改變量。
[0112]因此，在根據(jù)本實施例的曝光方法中，例如，在改變照明條件的同時繼續(xù)曝光的情況下，關(guān)于投影光學(xué)系統(tǒng)110的成像性能的改變，通過事先不僅考慮當(dāng)時的照明條件，而且考慮對其它照明條件的影響，來確定用于校正成像性能的校正量。因此，特別地，可以更加準(zhǔn)確地確定改變之前的照明條件下的影響和改變之后的照明條件下的影響重疊的過渡狀態(tài)中的校正值。另外，在根據(jù)本實施例的曝光方法中，不需要在每次照明條件改變時停止曝光以便消除照明條件改變時的不連續(xù)狀態(tài)或過渡狀態(tài)，從而可以在高精度成像性能下執(zhí)行曝光，而不會損失生產(chǎn)率。
[0113]如上所述，根據(jù)本實施例，可以提供在改進(jìn)曝光精度方面有利的曝光方法和曝光
目.ο
[0114]注意，在上面的描述中，雖然舉例說明了在兩種類型的照明條件之間切換的情況，但是可能可以在三種或更多種類型的照明條件之間切換。在該情況下，通過根據(jù)照明條件的數(shù)目(類型)，增加模型的數(shù)目和表示對成像性能的影響的參數(shù)的數(shù)目，類似于上面例子的曝光方法是適用的。此處，增加的照明條件越多，增加的模型的數(shù)目和參數(shù)的數(shù)目就越多，并且公式的配置變得復(fù)雜。因此，為了避免公式的配置復(fù)雜化，模型和參數(shù)的確定僅僅針對幾種典型的照明條件。隨后，關(guān)于其它照明條件，可能可以從典型的照明條件中選擇較接近的一個，并且使用與其一樣的多個模型和多個參數(shù)。作為替代地，選擇典型照明條件中的多個較接近的照明條件，并且可以通過內(nèi)插計算多個計算模型和多個參數(shù)。
[0115](物品制造方法)
[0116]在制造諸如微設(shè)備(諸如半導(dǎo)體器件等)或具有微結(jié)構(gòu)的元件等的物品時，根據(jù)本發(fā)明的實施例的一種物品制造方法是優(yōu)選的。該物品制造方法可以包括使用上述曝光裝置在對象上形成潛像圖案的步驟(例如，曝光處理)；和使在以前步驟中在其上形成了潛像圖案的對象顯影的步驟。此外，該物品制造方法可以包括其它已知步驟(氧化、膜形成、氣相沉積、摻雜、平坦化、蝕刻、抗蝕劑剝離、切割、結(jié)合、封裝等)。與常規(guī)的器件制造方法相比，本實施例的器件制造方法在器件的性能、質(zhì)量、生產(chǎn)率和生產(chǎn)成本中的至少一個方面具有優(yōu)點。
[0117]雖然已經(jīng)參考示例性實施例描述了本發(fā)明，但是應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明不限于公開的示例性實施例。所附權(quán)利要求的范圍應(yīng)當(dāng)被給予最寬泛的解釋，以便包括所有這些修改和等同結(jié)構(gòu)與功能。
[0118]本申請要求提交于2014年11月5日的日本專利申請N0.2014-224877的權(quán)益，通過引用將其全文合并在此。
【主權(quán)項】
1.一種執(zhí)行曝光處理的曝光方法，在曝光處理中來自光源的光照射到原版，原版的圖案經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)被投影到基板以曝光所述基板，其特征在于，所述曝光方法包括: 第一曝光步驟，通過以投影光學(xué)系統(tǒng)的第一光瞳面光照分布照射投影光學(xué)系統(tǒng)來執(zhí)行曝光處理； 第二曝光步驟，在第一曝光步驟之后，通過以與第一光瞳面光照分布不同的第二光瞳面光照分布照射投影光學(xué)系統(tǒng)來執(zhí)行曝光處理； 改變量獲得步驟，相對于在第一光瞳面光照分布中執(zhí)行照射的第一曝光步驟中投影光學(xué)系統(tǒng)的成像性能，獲得在第二光瞳面光照分布的條件下投影光學(xué)系統(tǒng)的成像性能的改變量;和 校正量獲得步驟，通過使用在改變量獲得步驟中獲得的改變量，獲得用于在第二曝光步驟中校正投影光學(xué)系統(tǒng)的成像性能的校正量， 其中，在第二曝光步驟中，通過使用獲得的校正量校正投影光學(xué)系統(tǒng)的成像性能來執(zhí)行曝光處理。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其中，在改變量獲得步驟中，通過在第一光瞳面光照分布的條件下執(zhí)行光的照射，以及在通過在第一光瞳面光照分布的條件下照射光來給投影光學(xué)系統(tǒng)提供溫度分布的狀態(tài)下、在第二光瞳面光照分布的條件下執(zhí)行對投影光學(xué)系統(tǒng)的成像性能的測量，來獲得成像性能的改變量。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其中，在改變量獲得步驟中，通過仿真來獲得由在第一光瞳面光照分布的條件下的光照射所引起的所述投影光學(xué)系統(tǒng)在第二光瞳面光照分布的條件下的成像性能的改變量。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其中，在校正量獲得步驟中，通過使用第三參數(shù)并且通過使用第四參數(shù)來獲得校正量，第三參數(shù)通過在第一光瞳面光照分布的條件下執(zhí)行光照射以及在第二光瞳面光照分布的條件下執(zhí)行對成像性能的測量被獲取，并且第四參數(shù)通過在第二光瞳面光照分布的條件下執(zhí)行光照射和對成像性能的測量被獲取。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其中，在校正量獲得步驟中，通過使用第一參數(shù)并且通過使用第二參數(shù)來導(dǎo)出校正量，第一參數(shù)通過在第一光瞳面光照分布的條件下執(zhí)行光照射和對成像性能的測量被獲取，并且第二參數(shù)通過在第二光瞳面光照分布的條件下執(zhí)行光照射以及在第一光瞳面光照分布的條件下執(zhí)行對成像性能的測量被獲取。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光方法，其中在校正量獲得步驟中，通過使用第三參數(shù)和第四參數(shù)導(dǎo)出在第二曝光步驟期間應(yīng)用的校正量。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光方法，其中在校正量獲得步驟中，通過使用第一參數(shù)或第二參數(shù)中的至少任一個來導(dǎo)出在第一曝光步驟期間應(yīng)用的校正量。8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光方法，其中第三參數(shù)和第四參數(shù)均包括每單位光量的成像性能的改變量、指示被包括在投影光學(xué)系統(tǒng)中的光學(xué)元件中的加熱速度的第一時間常量、和指示所述光學(xué)元件的放熱速度的第二時間常量中的至少一個。9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光方法，其中第一參數(shù)和第二參數(shù)均包括每單位光量的成像性能的改變量、指示被包括在投影光學(xué)系統(tǒng)中的光學(xué)元件中的加熱速度的第一時間常量、和指示所述光學(xué)元件的放熱速度的第二時間常量中的至少一個。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其中在校正量獲得步驟中，僅考慮在基于導(dǎo)出所述校正量時所要求的精度確定的時間之后執(zhí)行的曝光的影響來導(dǎo)出所述校正量。11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其中所述成像性能包括聚焦、倍率、失真像差、像散和像場彎曲中的至少一個。12.—種執(zhí)行曝光處理的曝光裝置，在曝光處理中來自光源的光照射到原版，原版的圖案經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)被投影到基板上并且曝光于所述基板，其特征在于，所述曝光裝置包括: 切換器，被配置為在第一光瞳面光照分布和與第一光瞳面光照分布不同的第二光瞳面光照分布之間切換投影光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面光照分布； 控制單元，被配置為進(jìn)行控制以執(zhí)行以第一光瞳面光照分布照射投影光學(xué)系統(tǒng)的第一曝光處理，以及在第一曝光處理之后執(zhí)行以第二光瞳面光照分布照射投影光學(xué)系統(tǒng)的第二曝光處理，以及 被配置為進(jìn)行控制以通過以下操作來執(zhí)行第二曝光處理:獲得投影光學(xué)系統(tǒng)在第二光瞳面光照分布的條件下的成像性能相對于投影光學(xué)系統(tǒng)在以第一光瞳面光照分布執(zhí)行照射的第一曝光處理中的成像性能的改變量，通過使用所述改變量來獲得用于在第二曝光處理中校正投影光學(xué)系統(tǒng)的成像性能的校正量，并且通過使用所述校正量來校正投影光學(xué)系統(tǒng)的成像性能。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中通過在第一光瞳面光照分布的條件下執(zhí)行光的照射，和在通過在第一光瞳面光照分布的情況下照射光而給投影光學(xué)系統(tǒng)提供溫度分布的狀態(tài)下、在第二光瞳面光照分布的情況下執(zhí)行對投影光學(xué)系統(tǒng)的成像性能的測量，來獲得成像性能的改變量。14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中通過仿真來獲得由在第一光瞳面光照分布的條件下的光照射所引起的所述投影光學(xué)系統(tǒng)在第二光瞳面光照分布的條件下的成像性能的改變量。15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，包括照明光學(xué)系統(tǒng)，所述照明光學(xué)系統(tǒng)被配置為向原版照射來自光源的光， 其中所述切換器改變所述照明光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面光照分布、所述原版以及所述原版上的照射區(qū)域中的至少一個。16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，包括可變單元，所述可變單元被配置為使所述投影光學(xué)系統(tǒng)的成像性能可變， 其中所述控制單元被配置為基于所述校正量來控制所述可變單元。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的曝光裝置，包括 原版保持器，被配置為保持所述原版并且能夠移動； 基板保持器，被配置為保持所述基板并且能夠移動；和 光學(xué)元件驅(qū)動單元，被配置為能夠移動被包括在投影光學(xué)系統(tǒng)中的光學(xué)元件或者使被包括在投影光學(xué)系統(tǒng)中的光學(xué)元件變形， 其中所述可變單元包括所述原版保持器、所述基板保持器以及所述光學(xué)元件驅(qū)動單元中的至少一個。18.—種制造物品的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟: 使用根據(jù)權(quán)利要求1到11中的任一個所述的曝光方法或者根據(jù)權(quán)利要求12到17中的任一個所述的曝光裝置來曝光基板；和對在曝光中被曝光的基板進(jìn)行顯影。
【專利摘要】本發(fā)明涉及曝光方法、曝光裝置和物品制造方法。該曝光方法包括通過以投影光學(xué)系統(tǒng)的第一光瞳面光照分布(第一分布)照射所述系統(tǒng)來執(zhí)行曝光處理的第一步驟；在第一步驟之后，通過以與第一分布不同的第二光瞳面光照分布(第二分布)照射所述系統(tǒng)來執(zhí)行曝光處理的第二步驟；相對于第一步驟中的成像性能，獲得所述系統(tǒng)在第二分布的條件下的成像性能的改變量的改變量獲得步驟；和通過使用所述改變量來獲得用于在第二步驟中校正成像性能的校正量的校正量獲得步驟，其中，在第二步驟中，通過使用所述校正量校正成像性能來執(zhí)行曝光處理。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN105573064
【申請?zhí)枴緾N201510731077
【發(fā)明人】籔伸彥
【申請人】佳能株式會社
【公開日】2016年5月11日
【申請日】2015年11月2日
【公告號】US20160124318