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      凹凸檢測(cè)裝置的制造方法

      文檔序號(hào):9255321閱讀:1329來(lái)源:國(guó)知局
      凹凸檢測(cè)裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及凹凸檢測(cè)裝置,其用于檢測(cè)對(duì)晶片等的被加工物加工的激光加工槽和 切削槽等的加工槽的加工狀態(tài)以及被磨削加工后的被加工面的磨削痕跡的凹凸?fàn)顟B(tài)。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 在半導(dǎo)體器件制造工藝中,在呈大致圓板形狀的晶片的表面被呈格子狀排列的分 割預(yù)定線而劃分出多個(gè)區(qū)域,并在該劃分出的區(qū)域上形成IC、LSI等的器件。而且,在磨削 晶片的背面并形成為規(guī)定的厚度后,沿著分割預(yù)定線切斷,從而分割形成有器件的區(qū)域,制 造出每個(gè)器件。
      [0003] 磨削晶片背面的磨削裝置具有:卡盤(pán)臺(tái),其保持晶片;磨削構(gòu)件,其具有磨削保持 于該卡盤(pán)臺(tái)上的晶片的磨削輪;以及測(cè)量晶片厚度的厚度測(cè)量構(gòu)件等(例如,參照專(zhuān)利文 獻(xiàn)1)。
      [0004] 此外,沿著上述晶片的分割預(yù)定線進(jìn)行的分割是通過(guò)切削裝置或激光加工裝置實(shí) 現(xiàn)的。
      [0005] 切削裝置具有:卡盤(pán)臺(tái),其保持晶片;切削構(gòu)件,其具有切削保持于該卡盤(pán)臺(tái)上的 晶片的切削刀片;以及檢測(cè)形成于在卡盤(pán)臺(tái)上保持的晶片上的分割預(yù)定線的攝像構(gòu)件等 (例如,參照專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。
      [0006] 此外,激光加工裝置具有:卡盤(pán)臺(tái),其保持晶片;激光光線照射構(gòu)件,其對(duì)保持于 該卡盤(pán)臺(tái)上的晶片照射激光光線;以及檢測(cè)形成于在卡盤(pán)臺(tái)上保持的晶片上的分割預(yù)定線 的攝像構(gòu)件等(例如,參照專(zhuān)利文獻(xiàn)3)。
      [0007] 而且,在切削裝置和激光加工裝置中,通過(guò)攝像構(gòu)件對(duì)切削槽和激光加工槽攝像, 從而檢測(cè)切削槽的狀態(tài)和激光加工槽的狀態(tài),能夠調(diào)整加工條件(例如,參照專(zhuān)利文獻(xiàn)4)。
      [0008] 專(zhuān)利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)2002-319559號(hào)公報(bào)
      [0009] 專(zhuān)利文獻(xiàn)2日本特開(kāi)平7-45556號(hào)公報(bào)
      [0010] 專(zhuān)利文獻(xiàn)3日本特開(kāi)2008-12566號(hào)公報(bào)
      [0011] 專(zhuān)利文獻(xiàn)4日本特開(kāi)平5-326700號(hào)公報(bào)
      [0012] 然而,由攝像構(gòu)件攝像的圖像是表面的2維圖像,而無(wú)法從表面檢測(cè)到規(guī)定的深 度的2維圖像、切削槽和激光加工槽的深度和剖面形狀的3維圖像、肩片的狀態(tài)等的3維圖 像,存在無(wú)法詳細(xì)驗(yàn)證加工狀態(tài)的問(wèn)題。
      [0013] 此外,在磨削裝置中存在無(wú)法驗(yàn)證磨削痕跡的凹凸?fàn)顟B(tài)的問(wèn)題。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0014] 本發(fā)明就是鑒于上述事實(shí)而完成的,其主要技術(shù)課題在于,提供一種能夠正確驗(yàn) 證對(duì)被加工物實(shí)施加工的加工狀態(tài)的凹凸檢測(cè)裝置。
      [0015] 為了解決上述主要技術(shù)課題,本發(fā)明提供一種凹凸檢測(cè)裝置,其檢測(cè)保持于被加 工物保持構(gòu)件上的被加工物的凹凸,其特征在于,具有:脈沖點(diǎn)亮光源,其發(fā)出具有規(guī)定的 波段的光;第1集束透鏡,其集束由該脈沖點(diǎn)亮光源發(fā)出的光;半透半反鏡,其對(duì)由該第I 集束透鏡集束后的光進(jìn)行分支;色差透鏡,其會(huì)聚由該半透半反鏡分支出的光而對(duì)保持于 該被加工物保持構(gòu)件上的被加工物進(jìn)行照射;第1聚光透鏡,其會(huì)聚被保持于該被加工物 保持構(gòu)件上的被加工物反射且通過(guò)了該色差透鏡和該半透半反鏡的返回光;掩模,其配設(shè) 于該第1聚光透鏡的聚光點(diǎn)位置處,僅使會(huì)聚到的返回光通過(guò);第2集束透鏡,其對(duì)通過(guò)了 該掩模的返回光進(jìn)行集束;衍射光柵,其與由該第2集束透鏡集束到的返回光的波長(zhǎng)對(duì)應(yīng) 地進(jìn)行分光;第2聚光透鏡,其會(huì)聚由該衍射光柵進(jìn)行分光后的返回光;攝像元件,其配設(shè) 于該第2聚光透鏡的聚光點(diǎn)位置處;控制構(gòu)件,其具有存儲(chǔ)由該攝像元件生成的圖像的存 儲(chǔ)器;以及輸出構(gòu)件,其顯示存儲(chǔ)于該控制構(gòu)件的存儲(chǔ)器中的圖像,在將檢測(cè)區(qū)域的寬度方 向作為Y軸方向、且將長(zhǎng)度方向作為X軸方向的情況下,在該掩模中形成有在Y軸方向上延 伸的縫,其中,在該檢測(cè)區(qū)域中,對(duì)保持于該被加工物保持構(gòu)件上的被加工物的凹凸進(jìn)行檢 測(cè),該攝像元件根據(jù)通過(guò)了形成于該掩模上的縫的返回光生成Y軸方向上的2維截面形狀。
      [0016] 上述控制構(gòu)件使該被加工物保持構(gòu)件在X軸方向上移動(dòng)并將Y軸方向上的2維截 面形狀存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器中,將存儲(chǔ)于該存儲(chǔ)器中的Y軸方向上的2維截面形狀排列于X軸方 向上,生成3維形狀。
      [0017] 此外,上述凹凸檢測(cè)裝置配設(shè)于加工設(shè)備上,該加工設(shè)備具有:加工構(gòu)件,其對(duì)保 持于被加工物保持構(gòu)件上的被加工物實(shí)施加工;以及加工進(jìn)給構(gòu)件,其使該被加工物保持 構(gòu)件與該加工構(gòu)件在X軸方向上相對(duì)地進(jìn)行加工進(jìn)給。
      [0018] 根據(jù)本發(fā)明的凹凸檢測(cè)裝置,掩模具有在Y軸方向上延伸的縫,攝像元件根據(jù)通 過(guò)了形成于掩模上的縫的返回光而生成Y軸方向上的2維截面形狀,因此能夠通過(guò)2維截 面形狀檢測(cè)激光加工槽和切削槽等的凹凸?fàn)顟B(tài),能夠調(diào)整激光加工條件和切削條件等以設(shè) 定適當(dāng)?shù)募庸l件。
      [0019] 此外,能夠使加工物保持構(gòu)件在X軸方向上移動(dòng)并將Y軸方向的2維截面形狀存 儲(chǔ)于存儲(chǔ)器中,并且將存儲(chǔ)于該存儲(chǔ)器中的Y軸方向上的2維截面形狀排列于X軸方向上 以生成3維形狀,能夠根據(jù)激光加工槽和切削槽等3維形狀,更為精度良好地調(diào)整激光加工 條件和切削條件等的加工條件。
      【附圖說(shuō)明】
      [0020] 圖1是配置有凹凸檢測(cè)裝置的激光加工設(shè)備的立體圖。
      [0021] 圖2是凹凸檢測(cè)裝置的要部剖面圖。
      [0022] 圖3是表示構(gòu)成圖2所示的凹凸檢測(cè)裝置的色差透鏡的聚光狀態(tài)的說(shuō)明圖。
      [0023] 圖4是分解表示配置于圖1所示的激光加工設(shè)備上的凹凸檢測(cè)裝置以及將凹凸檢 測(cè)裝置支撐于能夠在Z軸方向上移動(dòng)的Z軸移動(dòng)構(gòu)件的立體圖。
      [0024] 圖5是表示凹凸檢測(cè)裝置的控制構(gòu)件的結(jié)構(gòu)框圖。
      [0025] 圖6是作為被加工物的半導(dǎo)體晶片安裝于在環(huán)狀框架上安裝的切割帶表面上的 狀態(tài)的立體圖。
      [0026] 圖7是圖1所示的激光加工設(shè)備的激光加工槽形成工序的說(shuō)明圖。
      [0027] 圖8是由凹凸檢測(cè)裝置的攝像元件輸出的2維截面形狀圖像的說(shuō)明圖。
      [0028] 圖9是根據(jù)圖8所示的Y軸方向的2維截面形狀而生成的激光加工槽的3維形狀 的說(shuō)明圖。
      [0029] 標(biāo)號(hào)說(shuō)明
      [0030] 2 :靜止基座;3 :被加工物保持機(jī)構(gòu);36 :卡盤(pán)臺(tái);37 :X軸移動(dòng)構(gòu)件;38 :Y軸移動(dòng) 構(gòu)件;4 :激光光線照射單元;5 :激光光線照射單元;51 :加工頭;6 :攝像構(gòu)件;7 :凹凸檢測(cè) 裝置;70 :檢測(cè)光照射構(gòu)件;72 :脈沖點(diǎn)亮光源;73 :第1集束透鏡;4 :半透半反鏡;75 :色差 透鏡;76 :第1聚光透鏡;77 :掩模;78 :第2集束透鏡;79 :衍射光柵;80 :第2聚光透鏡;81 : 攝像元件;9 :Ζ軸移動(dòng)構(gòu)件;10 :控制構(gòu)件;20 :半導(dǎo)體晶片。
      【具體實(shí)施方式】
      [0031] 以下,參照附圖進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明凹凸檢測(cè)裝置的優(yōu)選實(shí)施方式。
      [0032] 圖1示出作為設(shè)置有凹凸檢測(cè)裝置的加工設(shè)備的激光加工設(shè)備的立體圖。圖1所 示的激光加工設(shè)備1具有靜止基座2、以能夠在箭頭X所示的加工進(jìn)給方向(X軸方向)上 移動(dòng)的方式配設(shè)于該靜止基座2上并保持被加工物的被加工物保持機(jī)構(gòu)3、配設(shè)于靜止基 座2上且作為加工構(gòu)件即激光光線照射構(gòu)件的激光光線照射單元4。
      [0033] 上述被加工物保持機(jī)構(gòu)3具有:一對(duì)導(dǎo)軌31、31,它們沿著箭頭X所示的X軸方向 平行配設(shè)于靜止基座2上;第1滑動(dòng)塊32,其以能夠在X軸方向上移動(dòng)的方式配設(shè)于該導(dǎo) 軌31、31上;第2滑動(dòng)塊33,其以能夠在與X軸方向正交的Y軸方向上移動(dòng)的方式配設(shè)于 該第1滑動(dòng)塊32上;臺(tái)罩35,其被圓筒部件34支撐于該第2滑動(dòng)塊33上;以及作為被加 工物保持構(gòu)件的卡盤(pán)臺(tái)36。該卡盤(pán)臺(tái)36具有由多孔性材料形成的吸盤(pán)361,通過(guò)未圖示的 吸引構(gòu)件將作為被加工物的例如圓板形狀的半導(dǎo)體晶片保持于作為吸盤(pán)361的上表面的 保持面上。如上構(gòu)成的卡盤(pán)臺(tái)36憑借配設(shè)于圓筒部件34內(nèi)的未圖示的脈沖電動(dòng)機(jī)而進(jìn)行 旋轉(zhuǎn)。另外,在卡盤(pán)臺(tái)36上配設(shè)有用于固定環(huán)狀框架的夾鉗362,該環(huán)狀框架隔著保護(hù)帶支 撐半導(dǎo)體晶片等的被加工物。
      [0034] 上述第1滑動(dòng)塊32的下表面設(shè)有與上述一對(duì)導(dǎo)軌31、31嵌合的一對(duì)被導(dǎo)向槽 321、321,而且在其上表面設(shè)有沿Y軸方向平行形成的一對(duì)導(dǎo)軌322、322。如上構(gòu)成的第1 滑動(dòng)塊32構(gòu)成為基于被導(dǎo)向槽321、321嵌合于一對(duì)導(dǎo)軌31、31的情況,從而能夠沿著一對(duì) 導(dǎo)軌31、31在X軸方向上移動(dòng)。圖示的實(shí)施方式中的被加工物保持機(jī)構(gòu)3具有用于使第1 滑動(dòng)塊32沿著一對(duì)導(dǎo)軌31、31在X軸方向上移動(dòng)的X軸移動(dòng)構(gòu)件37。X軸移動(dòng)構(gòu)件37具 有平行配設(shè)于上述一對(duì)導(dǎo)軌31與31之間的外螺紋桿371、以及用于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)該外螺紋桿 371的脈沖電動(dòng)機(jī)372等的驅(qū)動(dòng)源。外螺紋桿371的一端以自由旋轉(zhuǎn)的方式支撐于在上述 靜止基座2上固定的軸承塊373上,其另一端與上述脈沖電動(dòng)機(jī)372的輸出軸傳動(dòng)連結(jié)。另 外,外螺紋桿371螺合于貫通內(nèi)螺紋孔中,該貫通內(nèi)螺紋孔形成于在第1滑動(dòng)塊32的中央 部下表面上突出設(shè)置的未圖示的內(nèi)螺紋塊上。因此,通過(guò)脈沖電動(dòng)機(jī)372正轉(zhuǎn)和反轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng) 外螺紋桿371,從而第1滑動(dòng)
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