技術總結
本發(fā)明涉及一種利用斐索干涉儀檢測大口徑元件膜厚均勻性的方法，包括以下步驟：對所述大口徑元件進行預處理，消除大口徑元件內部殘余應力；靜置第一預設時間后，利用斐索干涉儀對大口徑元件進行面形測量，并標記為初始面形W1；為大口徑元件進行鍍膜；靜置第二預設時間后，利用斐索干涉儀再次對鍍膜后的大口徑元件進行面形測量，并標記為測試面形W2；利用公式ΔW＝W2?W1得到鍍膜引起的元件面形改變量ΔW；利用面形改變量ΔW對膜厚修正擋板進行優(yōu)化。本發(fā)明利用斐索干涉儀檢測大口徑元件膜厚均勻性，通過鍍膜前后分別測量大口徑元件的表面面形，將元件兩次面形數據相減得到鍍膜引起的面形改變量，精確反映了元件的膜厚均勻性水平。

技術研發(fā)人員：才璽坤;武瀟野;時光;張立超;隋永新;楊懷江
受保護的技術使用者：中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
文檔號碼：201611133619
技術研發(fā)日：2016.12.10
技術公布日：2017.05.31