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      一種在低氧壓下制備抗氧化薄膜的方法與流程

      文檔序號:11146917閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      1.一種在低氧壓下制備抗氧化薄膜的方法,其特征是,在密閉環(huán)境中加熱Mn和MnO的混合粉末,使密閉環(huán)境產(chǎn)生恒定的低氧壓,從而使氧化物分解壓小于此低氧壓的金屬元素,F(xiàn)e基合金中的Al、Si發(fā)生外氧化,在Fe基材料表面生成致密的氧化膜。

      2.如權(quán)利要求1所述的一種在低氧壓下制備抗氧化薄膜的方法,其特征在于,F(xiàn)e基合金中Al的含量控制在0~3wt.%,Si的含量控制在0~3wt.%,其余為Fe。

      3.如權(quán)利要求1所述的一種在低氧壓下制備抗氧化薄膜的方法,其特征在于,具體包括以下步驟:

      (1)電弧熔煉Fe基合金后,在1000℃的真空氣氛爐中均勻化退火一周,再切成薄片,并依次打磨、拋光、清洗、干燥;

      (2)按質(zhì)量比1:9的比例稱取Mn和MnO粉末,混合均勻后壓成塊狀;

      (3)先將塊狀粉末輕放至石英管底部,隨后將石英管中部燒凹,避免薄片在放入過程中落至石英管底部,最后放入薄片,將石英管抽成真空狀態(tài)后,密封起來;

      (4)把石英管放入溫度為1000℃的箱式爐中保溫1-2h,即可生成具有抗氧化保護性的氧化物薄膜。

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