本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種防信號(hào)干擾裝置。

背景技術(shù)：

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)，是電子器件制造中最常用的工藝之一。PVD是在真空室(物理氣相沉積腔體) 中進(jìn)行的一種等離子體加工，在進(jìn)行氣相沉積操作時(shí)需要用到靜電吸盤(E-chuck)。如圖1所示，靜電吸盤上連接有靜電吸盤水管(包括 E-chuck出水管2和E-chuck入水管1)、氣管3以及電源線4，電源線4連接E-chuck的電源輸入裝置5。E-chuck水管、氣管3以及電源線4三者之間如果有接觸會(huì)干擾E-chuck的直流偏置(DC bias) 信號(hào)導(dǎo)致直流偏置參數(shù)不穩(wěn)定超出E-chuck的配置，進(jìn)而影響產(chǎn)品質(zhì)量，現(xiàn)有技術(shù)中，通常使用無塵布以及膠帶將E-chuck水管、氣管3 以及電源線4各自包裹進(jìn)行隔絕，避免三者之間有接觸。

但是，采用現(xiàn)有技術(shù)的無塵布及膠帶的包裹方式，如果E-chuck、 E-chuck水管、氣管3以及電源線4中的任意一個(gè)需要維護(hù)或更換時(shí)，都需要對(duì)包裹的無塵布和膠帶進(jìn)行拆除并在維修或更換后進(jìn)行重新包裹。如果包裹的方式不對(duì)導(dǎo)致無塵布和膠帶中途脫落或者包裹的不夠完全都會(huì)導(dǎo)致三者之間有接觸會(huì)干擾E-chuck直流偏置信號(hào)導(dǎo)致直流偏置參數(shù)不穩(wěn)定超出原有配置。另外，使用無塵布和膠帶包裹電源線且周圍分布有帶電器件可能存在火災(zāi)風(fēng)險(xiǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本實(shí)用新型提供了一種使用方便且安全的防信號(hào)干擾裝置。

本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

一種防信號(hào)干擾裝置，適用于物理氣相沉積腔體，所述物理汽相淀積腔體內(nèi)設(shè)有靜電吸盤裝置，所述靜電吸盤裝置的底部連接有入水管、出水管、氣管以及電源線；所述防信號(hào)干擾裝置包括：由預(yù)定材質(zhì)制成的實(shí)心的主體，所述主體具有上表面和下表面，所述主體通過所述上表面連接在所述靜電吸盤裝置的底部，所述主體上設(shè)有分別與所述入水管、所述出水管、所述氣管以及所述電源線相配合的入水管孔道、出水管孔道、氣管孔道以及電源孔道，所述入水管孔道、所述出水管孔道、所述氣管孔道以及所述電源孔道之間互不連通且分別貫穿所述上表面和所述下表面。

優(yōu)選的，所述上表面上設(shè)有與所述靜電吸盤的底部相配合的凹槽，所述主體通過所述凹槽安裝在所述靜電吸盤的底部，所述凹槽分別與所述入水管孔道、所述出水管孔道、所述氣管孔道以及所述電源孔道連通。

優(yōu)選的，所述主體還包括連接所述上表面和所述下表面的側(cè)面。

優(yōu)選的，所述主體為柱型結(jié)構(gòu)，所述上表面和所述下表面平行。

優(yōu)選的，所述側(cè)面為圓柱面。

優(yōu)選的，所述主體上還設(shè)有連接孔道，所述連接孔道一端開口設(shè)于所述側(cè)面上，另一端開口與所述電源孔道連通。

優(yōu)選的，所述連接孔道與所述電源孔道垂直。

優(yōu)選的，所述入水管孔道、所述出水管孔道、所述氣管孔道以及所述電源孔道之間相互平行。

優(yōu)選的，所述入水管孔道、所述出水管孔道、所述氣管孔道以及所述電源孔道分別垂直于所述上表面以及所述下表面。

優(yōu)選的，所述預(yù)定材質(zhì)為防火且不導(dǎo)電材質(zhì)。

本實(shí)用新型的有益效果是：隔離靜電吸盤上的水管、氣管以及電源線，避免因水管、氣管以及電源線之間相互接觸產(chǎn)生信號(hào)干擾，在靜電吸盤以及靜電吸盤的上述相關(guān)管路線路需要更換時(shí)，無需拆除防信號(hào)干擾裝置，使用更加方便，使用防火材質(zhì)提高使用安全性。

附圖說明

圖1為物理氣相沉積腔體中靜電吸盤的結(jié)構(gòu)示意圖；；

圖2為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施例中，防信號(hào)干擾裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施例中，防信號(hào)干擾裝置的使用示意圖。

具體實(shí)施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，下述技術(shù)方案，技術(shù)特征之間可以相互組合。

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步的說明：

如圖1-3所示，一種防信號(hào)干擾裝置，適用于物理氣相沉積腔體，上述物理汽相淀積腔體內(nèi)設(shè)有靜電吸盤裝置，上述靜電吸盤裝置的底部連接有入水管1、出水管2、氣管3以及電源線4；上述防信號(hào)干擾裝置包括：由預(yù)定材質(zhì)制成的實(shí)心的主體6，上述主體6具有上表面和下表面，上述主體6通過上述上表面連接在上述靜電吸盤裝置的底部，上述主體6上設(shè)有貫穿上述上表面和上述下表面的入水管孔道 7、出水管孔道8、氣管孔道9以及電源孔道10，上述入水管孔道7、上述出水管孔道8、上述氣管孔道9以及上述電源孔道10分別與上述入水管1、上述出水管2、上述氣管3以及上述電源線4相配合，上述入水管孔道7、上述出水管孔道8、上述氣管孔道9以及上述電源孔道10之間互不連通。

在本實(shí)施例中，將上述主體6連接安裝在上述靜電吸盤的底部，上述靜電吸盤的入水管1、出水管2、氣管3以及電源線4從靜電吸盤的底部引出后分別設(shè)置在入水管孔道7、出水管孔道8、氣管孔道 9以及電源孔道10中，由于主體為實(shí)心，且上述入水管孔道7、上述出水管孔道8、上述氣管孔道9以及上述電源孔道10之間互不連通，避免了入水管1、出水管2、氣管3以及電源線4之間產(chǎn)生接觸，從而避免因接觸產(chǎn)生信號(hào)干擾。在靜電吸盤需要檢修時(shí)，只需將主體6 拿下即可，在檢修完成后再將主體6安裝到靜電吸盤的底部即可，使用上更方便。

較佳的實(shí)施例中，上述主體6的頂部還設(shè)有與上述靜電吸盤的底部相配合的凹槽12，上述防信號(hào)干擾裝置通過上述凹槽12安裝在上述靜電吸盤的底部，上述凹槽12分別與上述入水管孔道7、上述出水管孔道8、上述氣管孔道9以及上述電源孔道10連通。

在本實(shí)施例中，實(shí)際使用時(shí)將凹槽12套在靜電吸盤的底部，上述靜電吸盤的入水管1、出水管2、氣管3以及電源線4從靜電吸盤的底部引出后分別設(shè)置在入水管孔道7、出水管孔道8、氣管孔道9以及電源孔道10中，凹槽12的設(shè)計(jì)使靜電吸盤與防信號(hào)干擾裝置之間的連接更加穩(wěn)固。

較佳的實(shí)施例中，上述主體6還包括連接上述上表面和上述下表面的側(cè)面。

較佳的實(shí)施例中，上述主體為柱型結(jié)構(gòu)，上述上表面和上述下表面平行，上述側(cè)面為圓柱面。

較佳的實(shí)施例中，上述主體上還設(shè)有連接孔道11，上述連接孔道 11一端開口設(shè)于上述側(cè)面上，另一端開口與上述電源孔道10連通。

較佳的實(shí)施例中，上述連接孔道與上述電源孔道垂直。

在本實(shí)施例中，靜電吸盤的電源線連接電源輸入裝置5，電源輸入裝置5位于防信號(hào)干擾裝置的一側(cè)，電源線4經(jīng)電源孔道10和連接孔道11后與電源輸入裝置5連接，電源輸入裝置5的位置設(shè)置更加靈活，安裝和拆卸更加便捷，使用更加方便。

較佳的實(shí)施例中，上述入水管孔道7、上述出水管孔道8、上述氣管孔道9以及上述電源孔道10之間相互平行。

在本實(shí)施例中，使上述入水管孔道7、上述出水管孔道8、上述氣管孔道9以及上述電源孔道10之間進(jìn)一步隔離，從而進(jìn)一步避免入水管1、出水管2、氣管3以及電源線4之間產(chǎn)生接觸，提高抗干擾效果。

較佳的實(shí)施例中，上述入水管孔道7、上述出水管孔道8、上述氣管孔道9以及上述電源孔道10分別垂直于上述上表面以及上述下表面。

在本實(shí)施例中，使上述入水管孔道7、上述出水管孔道8、上述氣管孔道9以及上述電源孔道10之間進(jìn)一步隔離，從而進(jìn)一步避免入水管1、出水管2、氣管3以及電源線4之間產(chǎn)生接觸，提高抗干擾效果。

較佳的實(shí)施例中，上述預(yù)定材質(zhì)為防火且不導(dǎo)電材質(zhì)。

在本實(shí)施例中，防火避免意外起火，提高使用安全性，不導(dǎo)電材質(zhì)避免由于電源線漏電產(chǎn)生的安全問題。

通過說明和附圖，給出了具體實(shí)施方式的特定結(jié)構(gòu)的典型實(shí)施例，基于本實(shí)用新型精神，還可作其他的轉(zhuǎn)換。盡管上述實(shí)用新型提出了現(xiàn)有的較佳實(shí)施例，然而，這些內(nèi)容并不作為局限。

對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，閱讀上述說明后，各種變化和修正無疑將顯而易見。因此，所附的權(quán)利要求書應(yīng)看作是涵蓋本實(shí)用新型的真實(shí)意圖和范圍的全部變化和修正。在權(quán)利要求書范圍內(nèi)任何和所有等價(jià)的范圍與內(nèi)容，都應(yīng)認(rèn)為仍屬本實(shí)用新型的意圖和范圍內(nèi)。