本實(shí)用新型涉及一種MOCVD設(shè)備，其中MOCVD為Metal-organic Chemical Vapor Deposition，即金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉淀，屬于氣相外延生長技術(shù)。

背景技術(shù)：

MOCVD設(shè)備通常包括反應(yīng)腔、加熱裝置、出氣口、溫控裝置，以及噴淋裝置。中國專利文獻(xiàn)CN103451621B公開了一種MOCVD反應(yīng)腔及工藝設(shè)備，其具有一個(gè)腔體，在腔體內(nèi)的支架上設(shè)置若干用于放置襯底的托盤，并配置內(nèi)外加熱裝置。該種結(jié)構(gòu)進(jìn)行外延生長時(shí)不具有連續(xù)性，效率較低。

中國專利文獻(xiàn)CN204063936U則公開了一種高溫超導(dǎo)帶材卷氣氛熱處理爐體，其對于適于作為帶材進(jìn)行處理的工件，其構(gòu)造方式為管腔結(jié)構(gòu)，管腔結(jié)構(gòu)優(yōu)點(diǎn)是容易構(gòu)造所需氣氛，但操作相對比較麻煩，尤其是帶材穿繞，以及保證帶材輸送的輔助裝置的裝配和檢修。

中國專利文獻(xiàn)CN104419913A也公開了一種激光化學(xué)氣相沉積法設(shè)備，其設(shè)備也屬于管腔結(jié)構(gòu)，也會存在相關(guān)的缺陷。該類結(jié)構(gòu)采用管腔結(jié)構(gòu)還考慮氣密性（需抽真空）。在某些應(yīng)用中，不需要抽真空，盡管也需要比較高的氣密性，但構(gòu)建管腔結(jié)構(gòu)極復(fù)雜，可維護(hù)性又差，因此，發(fā)明人認(rèn)為管腔結(jié)構(gòu)的必要性并不需要非常高。

此外，此類設(shè)備，例如CN104419913A中的兩個(gè)副反應(yīng)腔體呈一定角度配置，造成其中的螺旋帶材纏繞滾輪的包角較小，對氣相沉積存在負(fù)面影響。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

因此，本實(shí)用新型的目的在于提供一種可維護(hù)性比較好的MOCVD設(shè)備。

本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為：

一種MOCVD設(shè)備，包括設(shè)置有加熱裝置和噴淋裝置的反應(yīng)腔室，以用于帶材的氣相外延生長，還包括位于反應(yīng)腔室左側(cè)的左腔室和位于反應(yīng)腔室右側(cè)的右腔室；

其中，左腔室和右腔室其一內(nèi)設(shè)放料盤，另一內(nèi)設(shè)收料盤，并且左腔室和右腔室通過水平的過渡腔室與所述反應(yīng)腔室連通，從而帶材從放料盤放料穿越反應(yīng)腔室及相應(yīng)的過渡腔室后由收料盤收料；

反應(yīng)腔室，以及左腔室和右腔室均具有前側(cè)門板，前側(cè)門板與相應(yīng)腔室的門框氣密封接合。

上述MOCVD設(shè)備，可選地，所述放料盤和收料盤的軸線在相同水平面上，該水平面為過渡腔室的水平中剖面。

可選地，在放料盤的放料側(cè)設(shè)有放料導(dǎo)向滾輪，而在收料盤的收料側(cè)則設(shè)有收料導(dǎo)向滾輪；

放料導(dǎo)向滾輪的軸線和收料導(dǎo)向滾輪的軸線位于同一水平面，而所述水平中剖面為放料導(dǎo)向滾輪和收料導(dǎo)向滾輪的上共切面。

可選地，于帶材方向上，在所述反應(yīng)腔室的內(nèi)部兩端還設(shè)有用于托持帶材的至少各一個(gè)托輪。

可選地，兩托輪間設(shè)有在帶材寬度方向約束帶材的約束結(jié)構(gòu)。

可選地，所述約束結(jié)構(gòu)包括豎直的約束板和垂直于約束板的導(dǎo)柱、對導(dǎo)柱進(jìn)行導(dǎo)引的導(dǎo)柱支架，以套在導(dǎo)柱上以對約束板提供寬度方向上的彈力的彈簧。

可選地，所述加熱裝置和噴淋裝置均位于反應(yīng)腔室內(nèi)，且加熱裝置位于過渡腔室水平中剖面的下側(cè)，而噴淋裝置則位于過渡腔室水平中剖面的上側(cè)。

可選地，驅(qū)動放料盤的放料電機(jī)位于左腔室的外面，而驅(qū)動收料盤的收料電機(jī)位于右腔室的外面。

依據(jù)本實(shí)用新型，用于帶材的氣相外延生長，一方面滿足基于帶材氣相外延生長的效率比較高的要求，另一方面，將收放料及反應(yīng)部分通過水平的過渡腔室形成水平的走料方式，帶材在處理過程中自身變形小。而將腔室的門板開設(shè)在相應(yīng)腔的前側(cè)（操作臺側(cè)），從而可以打開門板，利于進(jìn)行裝卸料或者設(shè)備的維護(hù)。

附圖說明

圖1為依據(jù)本實(shí)用新型的一種MOCVD設(shè)備的主視結(jié)構(gòu)示意圖（省略設(shè)備前側(cè)門板）。

圖2為相應(yīng)于圖1的俯視結(jié)構(gòu)示意圖（省略設(shè)備頂板）。

圖中：1.左腔室，2.放料盤，3.放料導(dǎo)向滾輪，4.左過渡腔室，5.托輪，6.反應(yīng)腔室，7.噴淋裝置，8.加熱裝置，9.托輪，10.帶材，11.右過渡腔室，12.收料導(dǎo)向滾輪，13.收料盤，14.右腔室，15.放料電機(jī)，16.收料電機(jī)。

具體實(shí)施方式

參照說明附圖1，為一種MOCVD設(shè)備的主視圖，并且省略了設(shè)備的前側(cè)面板，通常，朝向操作者的方向?yàn)樵O(shè)備的前側(cè)，即相對而言的圖2的下側(cè)。

常規(guī)條件下，MOCVD設(shè)備都會設(shè)置加熱裝置8以使帶材10達(dá)到所需要的氣相外延生長溫度，并提供噴淋裝置7，用于提供生長源材料。

加熱裝置8可以設(shè)置在反應(yīng)腔室6，也可以設(shè)置在反應(yīng)腔室6內(nèi)，如果設(shè)置在反應(yīng)腔室6內(nèi)，則加熱裝置8設(shè)置在帶材10通道的下側(cè)，利用輻射熱和對流進(jìn)行帶材10的加熱。

對于噴淋裝置7也可以設(shè)置在反應(yīng)腔室6內(nèi)，或者設(shè)置在反應(yīng)腔室6外，如果設(shè)置在反應(yīng)腔室6外，則需要管路引入。

參見附圖1和2，圖中所示的MOCVD設(shè)備具有三個(gè)基本腔室，從左至右依次是左腔室1、反應(yīng)腔室6和右腔室14，另有兩個(gè)水平的過渡腔室，其中左過渡腔室4用于左腔室1與反應(yīng)腔室6的連通，右過渡腔室11用于右腔室14與反應(yīng)腔室6的連通。

此處的連通是構(gòu)建帶材通道的連通，而不是常規(guī)條件下的流體意義上的連通。如圖2所示，基于放料電機(jī)15和收料電機(jī)16的協(xié)同作用，一方放料，一方收料，并使介于圖1中放料盤2和收料盤13之間的帶材10張緊拉平，從而有利于結(jié)晶生長。

放料盤2與右腔室14內(nèi)設(shè)的收料盤13可以直接依靠自身進(jìn)行張拉，即被張拉的帶材10與出料位置水平相切，被張拉的部分下側(cè)可以設(shè)置若干托輪，以使被張拉的部分保持大致的水平。

進(jìn)而，如圖1所示，帶材10采用料盤形成卷料，圖中左腔室1內(nèi)設(shè)放料盤2，放量盤2的軸線水平，并與走料方向垂直。

那么基于前述的描述可知，參見說明書附圖1和2，帶材10從放料盤2放料，然后依次穿越左過渡腔室4，反應(yīng)腔室6及右過渡腔室11，然后進(jìn)入右腔室14后由收料盤13收料。

關(guān)于反應(yīng)腔室6，以及左腔室1和右腔室14均具有前側(cè)門板，前側(cè)門板與相應(yīng)腔室的門框氣密封接合，以構(gòu)造相應(yīng)氣氛所需要的空間。

進(jìn)一步保證的，所述放料盤2和收料盤13的軸線在相同水平面上，該水平面為過渡腔室的水平中剖面，此結(jié)構(gòu)可見于說明書附圖1。

在一些實(shí)施例中，料帶10的位置可以在上述水平中剖面靠上。

在一些實(shí)施例中，在放料盤2的放料側(cè)，例如圖1中所示的放料盤2的右側(cè)，在此位置設(shè)置放料導(dǎo)向滾輪3，用以實(shí)現(xiàn)帶材10在一端張拉。而在收料盤13的收料側(cè)，即圖1中所示的收料盤13的左側(cè)，則設(shè)有收料導(dǎo)向滾輪12，用以實(shí)現(xiàn)帶材10在另一端張拉。

其中，放料導(dǎo)向滾輪3的軸線和收料導(dǎo)向滾輪12的軸線位于同一水平面，那么張拉的帶材10部分處于大致水平的狀態(tài)，而所述水平中剖面為放料導(dǎo)向滾輪3和收料導(dǎo)向滾輪12的上共切面，從而形成相對理想的水平狀態(tài)。

于帶材10方向上，即圖中所示的左右方向，在所述反應(yīng)腔室6的內(nèi)部兩端還設(shè)有用于托持帶材10的至少各一個(gè)托輪5、9，使得被張拉的部分的水平能夠更好地保持。相對而言，被張拉的帶材部分的水平越理想，則例如晶體生長越理想。

進(jìn)一步地，為了提高例如晶體生長的質(zhì)量，兩托輪間設(shè)有在帶材10寬度方向約束帶材10的約束結(jié)構(gòu)，使帶材10能夠很平穩(wěn)的前行。

于一些實(shí)施例中，所述約束結(jié)構(gòu)包括豎直的約束板和垂直于約束板的導(dǎo)柱、對導(dǎo)柱進(jìn)行導(dǎo)引的導(dǎo)柱支架，以套在導(dǎo)柱上以對約束板提供寬度方向上的彈力的彈簧，該彈簧采用輕彈簧，即勁度系數(shù)相對比較小的彈簧，使約束板輕觸在帶材10的邊沿。

在一些實(shí)施例中，此外，導(dǎo)柱可以設(shè)有螺紋段，導(dǎo)柱穿過相應(yīng)的導(dǎo)引孔后，通過螺母調(diào)整其探出的長度。

在優(yōu)選的實(shí)施例中，驅(qū)動放料盤2的放料電機(jī)15位于左腔室1的外面，而驅(qū)動收料盤13的收料電機(jī)16位于右腔室14的外面，保證電機(jī)的溫度不會過高。