技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種增強可見光波段透射的摻錫氧化銦基復(fù)合薄膜的制備方法，分別采用電子束蒸發(fā)法、直流反應(yīng)磁控濺射法沉積ITO、Au薄膜，獲得ITO/Au/ITO復(fù)合結(jié)構(gòu)薄膜。然后將樣品進行電子束輻照改性，即可得到所述具有可見光波段透射增強特性的ITO/Au/ITO復(fù)合薄膜。本發(fā)明可通過控制電子束功率大小及輻照時間控制其可見光透過率，操作方法及流程簡單，可重復(fù)性高且可控性強。

技術(shù)研發(fā)人員：洪瑞金;魏文左;王琳;邵文;姚佳;陶春先;張大偉
受保護的技術(shù)使用者：上海理工大學(xué)
文檔號碼：201710064299
技術(shù)研發(fā)日：2017.02.04
技術(shù)公布日：2017.06.27