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      化學(xué)浴沉積設(shè)備和制備ZnS薄膜的方法_4

      文檔序號:8442552閱讀:來源:國知局
      。優(yōu)選地,化學(xué)浴鍋偏移角度為4°?6°。更優(yōu)選地,化學(xué)浴鍋偏移角度為5°。
      [0087]可以理解,使基片的反應(yīng)面持續(xù)反復(fù)地、分部分地逐漸露出反應(yīng)液的液面,且基片的反應(yīng)面受到反應(yīng)液的沖刷的實(shí)現(xiàn)方式并不限于此。
      [0088]本發(fā)明同時(shí)提供了一種制備ZnS薄膜的方法,在化學(xué)浴沉積過程中基片的反應(yīng)面持續(xù)反復(fù)地、分部分地逐漸露出反應(yīng)液的液面,且受到反應(yīng)液的沖刷;該方法操作方便,生產(chǎn)快速、效率高,制得的薄膜厚度可控、缺陷少、均勻致密,從而提高薄膜太陽能電池的效率,并降低薄膜太陽能電池的制造成本。
      [0089]此外,本發(fā)明也為In2S3,In(OH)3, ZnS, CdS, Zn(1_x)Mgx0,ZnSe, ZnO 等薄膜太陽能電池緩沖層的制備提供了一種方法。
      [0090]以下為具體實(shí)施例。
      [0091]實(shí)施例1
      [0092]實(shí)施例1采用上述化學(xué)浴沉積設(shè)備,通過化學(xué)浴沉積法制備硫化鋅(ZnS)薄膜緩沖層,以制備銅銦鎵砸(CIGS)太陽能電池。
      [0093]硫化鋅薄膜制備步驟如下:
      [0094]在鈉鈣玻璃上采用直流磁控濺射鍍上金屬鉬背電極薄膜,然后再在金屬鉬上鍍上CIGS光吸收層薄膜,得到基片。
      [0095]將基片置于0.03mol/L的硫脲溶液中處理lOmin。
      [0096]將基片放入反應(yīng)器皿中的基片架上,且基片的反應(yīng)面朝下放置,將反應(yīng)液加入反應(yīng)器皿中,其中反應(yīng)液中ZnSO^濃度為0.3mol/L,NH3- H2O的濃度為3mol/L,SC(NH2)2溶液的濃度為0.6mol/Lo將反應(yīng)液預(yù)熱至85°C。
      [0097]將反應(yīng)器皿置于化學(xué)浴鍋中使基片進(jìn)行化學(xué)浴沉積,且在化學(xué)浴沉積過程中基片的反應(yīng)面持續(xù)反復(fù)地、分部分逐漸地露出反應(yīng)液的液面,并受到反應(yīng)液的沖刷,得到ZnS薄膜。
      [0098]化學(xué)浴鍋偏離角度為5°?;瘜W(xué)浴沉積的時(shí)間為lOmin。
      [0099]將ZnS薄膜分別依次用水、lmol/L的氨水清洗,氨水清洗后直接采用氮?dú)獯蹈伞5玫降谋∧け砻孢B續(xù)致密、附著力好。
      [0100]以上實(shí)施例的各技術(shù)特征可以進(jìn)行任意的組合,為使描述簡潔,未對上述實(shí)施例中的各個技術(shù)特征所有可能的組合都進(jìn)行描述,然而,只要這些技術(shù)特征的組合不存在矛盾,都應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是本說明書記載的范圍。
      [0101]以上實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式,其描述較為具體和詳細(xì),但并不能因此而理解為對發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此,本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種化學(xué)浴沉積設(shè)備,其特征在于,包括反應(yīng)器皿和化學(xué)浴鍋,所述反應(yīng)器皿置于所述化學(xué)浴鍋中,所述反應(yīng)器皿用于放置基片和反應(yīng)液,在反應(yīng)過程中,所述基片的反應(yīng)面持續(xù)反復(fù)地、分部分地逐漸露出所述反應(yīng)液的液面,并受到所述反應(yīng)液的沖刷。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)浴沉積設(shè)備,其特征在于,所述化學(xué)浴沉積設(shè)備還包括底座,所述化學(xué)浴鍋一端可轉(zhuǎn)動地連接于所述底座,另一端可升降地連接于所述底座,從而使所述化學(xué)浴鍋可發(fā)生角度偏移。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學(xué)浴沉積設(shè)備,其特征在于,所述化學(xué)浴沉積設(shè)備還包括偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和驅(qū)動機(jī)構(gòu),所述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與所述化學(xué)浴鍋的一端連接以驅(qū)動化學(xué)浴鍋的一端升降,從而驅(qū)動化學(xué)浴鍋發(fā)生角度偏移;所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)和所述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接以驅(qū)動所述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),進(jìn)而驅(qū)動所述化學(xué)浴鍋發(fā)生角度偏移。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)浴沉積設(shè)備,其特征在于,所述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括連接塊和連接桿,所述連接塊與所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)固定連接,并由所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動而轉(zhuǎn)動;所述連接塊內(nèi)設(shè)有偏離所述連接塊的轉(zhuǎn)動軸的偏心點(diǎn),所述連接塊的轉(zhuǎn)動軸垂直于所述化學(xué)浴鍋的一端的升降方向,所述連接桿一端連接于所述偏心點(diǎn),另一端連接于所述化學(xué)浴鍋,所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)帶動偏心點(diǎn)的上下運(yùn)動,使得所述化學(xué)浴鍋的一端發(fā)生角度偏移。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的化學(xué)浴沉積設(shè)備,其特征在于,所述連接桿包括第一桿、第二桿和第三桿,所述第一桿平行于所述連接塊的轉(zhuǎn)動軸,所述第一桿一端連接于所述偏心點(diǎn),另一端可轉(zhuǎn)動地連接于所述第二桿的一端,所述第二桿的另一端連接于所述第三桿的一端,所述第三桿的另一端連接于化學(xué)浴鍋,所述第二桿和所述第三桿與所述連接塊的轉(zhuǎn)動軸呈一定夾角。
      6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)浴沉積設(shè)備,其特征在于,所述化學(xué)浴沉積設(shè)備還包括支撐件,所述支撐件包括第一支撐件和第二支撐件,所述第一支撐件和所述第二支撐件設(shè)置于所述底座上,所述化學(xué)浴鍋的一端通過所述第二支撐件可轉(zhuǎn)動地連接于所述底座,所述第一支撐件與所述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接從而使所述化學(xué)浴鍋的另一端可升降地連接于所述底座,其中所述第一支撐件與所述第二支撐件呈三角形排布。
      7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)浴沉積設(shè)備,其特征在于,所述化學(xué)浴沉積設(shè)備還包括速度控制器或/和溫度控制器,所述速度控制器控制所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)速,從而控制所述化學(xué)浴鍋發(fā)生角度偏移的速度;所述溫度控制器控制所述反應(yīng)液的溫度。
      8.一種制備ZnS薄膜的方法,其特征在于,包括以下步驟: 在鈉鈣玻璃表面上鍍金屬鉬背電極薄膜,然后再在金屬鉬背電極薄膜上鍍CIGS光吸收層薄膜,得到基片; 將所述基片置于硫脲溶液中處理;及 將所述基片以反應(yīng)面朝下的方式置于反應(yīng)液中進(jìn)行化學(xué)浴沉積,且在化學(xué)浴沉積過程中所述基片的反應(yīng)面持續(xù)反復(fù)地、分部分地逐漸露出所述反應(yīng)液的液面,并受到所述反應(yīng)液的沖刷,得到ZnS薄膜,其中所述反應(yīng)液為ZnS04、NH3.H2O和SC(NH2)2的混合液。
      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備ZnS薄膜的方法,其特征在于,所述反應(yīng)液的溫度為80°C?95°C,所述反應(yīng)液中ZnSOj^濃度為0.1?0.5mol/L,NH 3.H2O的濃度為2?5mol/L,SC (NH2)2的濃度為 0.1 ?1.2mol/Lo
      10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備ZnS薄膜的方法,其特征在于,還包括步驟:將所述ZnS薄膜分別依次用水、氨水清洗,氨水清洗后直接采用氮?dú)獯蹈伞?br>【專利摘要】本發(fā)明涉及一種化學(xué)浴沉積設(shè)備,包括反應(yīng)器皿和化學(xué)浴鍋,所述反應(yīng)器皿置于所述化學(xué)浴鍋中,所述反應(yīng)器皿用于放置基片和反應(yīng)液,在反應(yīng)過程中,所述基片的反應(yīng)面持續(xù)反復(fù)地、分部分地逐漸露出所述反應(yīng)液的液面,并受到所述反應(yīng)液的沖刷。該化學(xué)浴沉積設(shè)備,在化學(xué)浴沉積過程中基片的反應(yīng)面持續(xù)反復(fù)地、分部分地逐漸露出所述反應(yīng)液的液面,且受到反應(yīng)液的沖刷,有利于快速制備薄膜材料,可應(yīng)用于薄膜太陽能電池緩沖層如In2S3,In(OH)3,ZnS,CdS,Zn(1-x)MgxO,ZnSe,ZnO等的制備,制得的薄膜厚度可控、缺陷少、均勻致密,從而提高薄膜太陽能電池的效率,并降低薄膜太陽能電池的制造成本。此外,本發(fā)明還提供了一種制備ZnS薄膜的方法。
      【IPC分類】C23C18-00
      【公開號】CN104762611
      【申請?zhí)枴緾N201510166863
      【發(fā)明人】張倩, 楊春雷, 顧光一, 熊治雨, 王婷婷, 程亞, 肖旭東
      【申請人】深圳先進(jìn)技術(shù)研究院, 香港中文大學(xué)
      【公開日】2015年7月8日
      【申請日】2015年4月9日
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