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      一種pc眼鏡片鍍膜方法_2

      文檔序號:9196183閱讀:來源:國知局
      ,ZrO2固體熔化電壓為7kV,2102固體熔化電流為220?240A。
      [0033](5)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(4)鍍制的ZrOJl上鍍制厚度為110?150 μm的S1Jl,具體參數(shù)為:真空度為2.0X10_5torr,溫度為70?75°C,3102固體熔化電壓為7kV,3102固體熔化電流為120?150A。
      [0034](6)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(5)鍍制的S1Jl上鍍制厚度為830?880 μm的ZrOJl,具體參數(shù)為:真空度為2.0X 10 _5torr,溫度為70?75°C,ZrO2固體熔化電壓為7kV,2102固體熔化電流為220?240A。
      [0035](7)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(6)鍍制的ZrOJl上鍍制厚度為50?100 ym的ITO層,并在通氧氣的同時進(jìn)行離子轟擊,具體參數(shù)為:真空度為2.0 X 10-5torr,溫度為70?75°C,ITO固體熔化電壓為7kV,ITO固體熔化電流為10?20A,氧氣流量為22-30sccm,時間1.5min,離子轟擊速率為180a/sec,時間為2?4min。
      [0036](8)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(7)鍍制的ITO層上鍍制厚度為810?860 μ m的S1Jl,具體參數(shù)為:真空度為2.0X10_5torr,溫度為70?75°C,3102固體熔化電壓為7kV,3102固體熔化電流為120?150A。
      [0037](9)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟⑶鍍制的S1Jl上鍍制厚度為100?150 μm的HT-100層,冷卻后即得產(chǎn)品,具體參數(shù)為:真空度為2.0X10_5torr,溫度為70?75°C,HT-1OO固體熔化電壓為7kV,HT-1OO固體熔化電流為10?20A。
      [0038]鍍好一面后通過翻片,重復(fù)上述步驟(2)至(9)以再鍍另一面,直到兩面都完成鍍膜。
      [0039]上述實(shí)施例通過真空蒸發(fā)鍍膜法在經(jīng)強(qiáng)化的PC眼鏡片表面從內(nèi)到外依次鍍制S1jl、ZrO 2層、S1 2層、ZrO 2層、ITO層、S1 2層和防水層,各層之間連接緊密、附著力大,磨蹭密集度和硬度高,同時消除了內(nèi)應(yīng)力,改善了 PC眼鏡片的光學(xué)性能和機(jī)械性能。
      [0040]以上所述,僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,故不能依此限定本發(fā)明實(shí)施的范圍,即依本發(fā)明專利范圍及說明書內(nèi)容所作的等效變化與修飾,皆應(yīng)仍屬本發(fā)明涵蓋的范圍內(nèi)。
      【主權(quán)項】
      1.一種PC眼鏡片鍍膜方法,其特征在于:包括如下步驟: (1)將PC眼鏡片經(jīng)強(qiáng)化處理后,洗凈,再置于無塵鍍膜恒溫烤箱中于70°C?95°C烘烤8小時以上; (2)對步驟⑴烘烤后的PC眼鏡片在2.0?2.3X 1^torr的真空度下通氬氣的同時進(jìn)行離子轟擊,其中,溫度為70?78°C,離子轟擊速率為180?190a/sec,時間為2?5min,氬氣流量為18_23sccm,時間2?5min ; (3)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(2)經(jīng)離子轟擊后的PC眼鏡片上鍍制厚度為2700?2800 μ m的S1Jl,具體參數(shù)為:真空度為2.0?2.3 X 10 _5torr,溫度為70?78°C,S12^體熔化電壓為7?7.3kV,3102固體熔化電流為115?155A ; (4)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(3)鍍制的S1Jl上鍍制厚度為300?370Un^AZrO2層,具體參數(shù)為:真空度為2.0?2.3X10_5torr,溫度為70?78°C,ZrO2固體熔化電壓為7?7.3kV,ZrO2固體熔化電流為220?260A ; (5)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(4)鍍制的ZrOJl上鍍制厚度為100?160μπι的S12層,具體參數(shù)為:真空度為2.0?2.3X10_5torr,溫度為70?78°C,3102固體熔化電壓為7?7.3kV,3102固體熔化電流為115?155A ; (6)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(5)鍍制的S1Jl上鍍制厚度為820?9000ym的ZrOJl,具體參數(shù)為:真空度為2.0?2.3 X 10 _5torr,溫度為70?78°C,ZrO2固體熔化電壓為7?7.3kV,2102固體熔化電流為220?260A ; (7)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(6)鍍制的ZrOJl上鍍制厚度為50?120ym的ITO層,并在通氧氣的同時進(jìn)行離子轟擊,具體參數(shù)為:真空度為2.0?2.3X10_5torr,溫度為70?78°C,ITO固體熔化電壓為7?7.4kV,ITO固體熔化電流為10?23A,氧氣流量為20_32sccm,時間I?2min,離子轟擊速率為180?190a/sec,時間為2?5min ; (8)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(J)鍍制的ITO層上鍍制厚度為800?880μ m的S12層,具體參數(shù)為:真空度為2.0?2.3X10_5torr,溫度為70?78°C,3102固體熔化電壓為7?7.3kV,3102固體熔化電流為115?155A ; (9)利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(8)鍍制的S1Jl上鍍制厚度為100?170ym的HT-100層,冷卻后即得產(chǎn)品,具體參數(shù)為:真空度為2.0?2.3X 10_5torr,溫度為70?78°C, HT-100固體熔化電壓為7?7.4kV,HT-100固體熔化電流為8?22A。2.如權(quán)利要求1所述的一種PC眼鏡片鍍膜方法,其特征在于:所述步驟(I)為:將PC眼鏡片經(jīng)強(qiáng)化處理后,洗凈,再置于無塵鍍膜恒溫烤箱中于70°C?90°C烘烤8?10小時。3.如權(quán)利要求1所述的一種PC眼鏡片鍍膜方法,其特征在于:所述步驟⑵為:對步驟(I)烘烤后的PC眼鏡片在2.0X10_5torr的真空度下通氬氣的同時進(jìn)行離子轟擊,其中,溫度為70?75°C,離子轟擊速率為180a/sec,時間為2?4min,氬氣流量為20-22sccm,時間 3min。4.如權(quán)利要求1所述的一種PC眼鏡片鍍膜方法,其特征在于:所述步驟(3)為:利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(2)經(jīng)離子轟擊后的PC眼鏡片上鍍制厚度為2700?2750 ym的S12層,具體參數(shù)為:真空度為2.0X 10_5torr,溫度為70?75°C,3102固體熔化電壓為7kV,S12固體熔化電流為120?150A。5.如權(quán)利要求1所述的一種PC眼鏡片鍍膜方法,其特征在于:所述步驟(4)為:利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(3)鍍制的S1Jl上鍍制厚度為300?350 ym的ZrO 2層,具體參數(shù)為:真空度為2.0X10_5torr,溫度為70?75°C,21<)2固體熔化電壓為7kV,ZrO2固體熔化電流為220?240A。6.如權(quán)利要求1所述的一種PC眼鏡片鍍膜方法,其特征在于:所述步驟(5)為:利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(4)鍍制的ZrOJl上鍍制厚度為110?150 ym的S1 2層,具體參數(shù)為:真空度為2.0X10_5torr,溫度為70?75。。,S1^體熔化電壓為7kV,S12固體熔化電流為120?150A。7.如權(quán)利要求1所述的一種PC眼鏡片鍍膜方法,其特征在于:所述步驟(6)為:利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(5)鍍制的S1Jl上鍍制厚度為830?880 ym的ZrO 2層,具體參數(shù)為:真空度為2.0X10_5torr,溫度為70?75°C,21<)2固體熔化電壓為7kV,ZrO2固體熔化電流為220?240A。8.如權(quán)利要求1所述的一種PC眼鏡片鍍膜方法,其特征在于:所述步驟(7)為:利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(6)鍍制的ZrOJl上鍍制厚度為50?100 ym的ITO層,并在通氧氣的同時進(jìn)行離子轟擊,具體參數(shù)為:真空度為2.0X 10_5torr,溫度為70?75°C,ITO固體熔化電壓為7kV,IT0固體熔化電流為10?20A,氧氣流量為22-30sccm,時間1.5min,離子轟擊速率為180a/sec,時間為2?4min。9.如權(quán)利要求1所述的一種PC眼鏡片鍍膜方法,其特征在于:所述步驟(8)為:利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(7)鍍制的ITO層上鍍制厚度為810?860 ym的S1jl,具體參數(shù)為:真空度為2.0X10_5torr,溫度為70?75。。,S1^體熔化電壓為7kV,S12固體熔化電流為120?150A。10.如權(quán)利要求1所述的一種PC眼鏡片鍍膜方法,其特征在于:所述步驟(9)為:利用真空蒸發(fā)鍍膜法在步驟(8)鍍制的S1Jl上鍍制厚度為100?150 ym的HT-100層,冷卻后即得產(chǎn)品,具體參數(shù)為:真空度為2.0X10_5torr,溫度為70?75°C,HT-100固體熔化電壓為7kV,HT-100固體熔化電流為10?20A。
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種PC眼鏡片鍍膜方法,本發(fā)明的方法通過真空蒸發(fā)鍍膜法在經(jīng)強(qiáng)化的PC眼鏡片表面從內(nèi)到外依次鍍制SiO2層、ZrO2層、SiO2層、ZrO2層、ITO層、SiO2層和防水層,各層之間連接緊密、附著力大,膜層密集度和硬度高,同時消除了內(nèi)應(yīng)力,改善了PC眼鏡片的光學(xué)性能和機(jī)械性能。
      【IPC分類】C23C14/24, C23C14/08
      【公開號】CN104911546
      【申請?zhí)枴緾N201510269959
      【發(fā)明人】周賢建
      【申請人】瑞之路(廈門)眼鏡科技有限公司
      【公開日】2015年9月16日
      【申請日】2015年5月25日
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