洗，清洗時(shí)間為lOmin，室溫為20°C，并在清洗后，浸泡0.5-2h;
[0114]c.漂洗
[0115]利用純水對(duì)金相試樣金相低壓漂洗，漂洗時(shí)間為8min;
[0116](2)金相試樣表面研磨
[0117]a.粗磨
[0118]使用900目的水磨砂紙對(duì)金相試樣進(jìn)行打磨，打磨完成后放入凈水中進(jìn)行簡單清洗；
[0119]b.精磨
[0120]采用研磨機(jī)對(duì)金相試樣進(jìn)行打磨，進(jìn)行研磨時(shí)加入研磨液，在金相磨拋機(jī)上，在金相試樣的底部放置橡膠軟底，并在橡膠軟底涂抹黃油，用以抵消研磨過程中的壓力和摩擦力，避免在研磨過程中劃傷表面；
[0121](3)金相試樣拋光
[0122]a.粗拋
[0123]使用400目的金相拋光紙對(duì)金相試樣進(jìn)行簡單打磨，并噴射拋光劑，噴出時(shí)間為5s ；
[0124]b.超聲波拋光
[0125]將金相試樣置于超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行拋光，并在超聲波清洗機(jī)中加入金剛石研磨砂、拋光膏和甘油，拋光時(shí)間為40min。
[0126]c.電解質(zhì)等離子拋光
[0127]以金相試樣為陽極，與直流穩(wěn)壓電源正極相連，浸入電解液中；以鉑片為陰極，與直流穩(wěn)壓電源負(fù)極相連;兩者相距一定距離浸入電解液中，電解液以硫酸、磷酸為基本成分，浸入電解拋光液中以7A的電流進(jìn)行拋光，拋光溫度為20°C;
[0128](4)清洗
[0129]通過高壓水槍以去離子水來沖洗金相試樣的表面，沖洗時(shí)間為15min;
[0130]優(yōu)選的，所述步驟(I)之后，對(duì)金相試樣表面擦干，用熱風(fēng)機(jī)吹去金相試樣表面的水分，并用白色絨布檫干表面的殘留水分。
[0131]優(yōu)選的，所述步驟(2)的精磨b步驟中的研磨液采用多晶金剛石研磨液。
[0132]優(yōu)選的，所述步驟(3)中粗拋a步驟中拋光劑的成分為:蝕刻劑45%，光亮劑22 %，修復(fù)劑15%，其他活性劑13%。
[0133]優(yōu)選的，所述步驟(3)中超聲波拋光b步驟中，超聲波清洗機(jī)內(nèi)組成甘油18%、拋光膏26%、金剛石研磨砂45%、余量為水。
[0134]優(yōu)選的，所述步驟(3)中電解質(zhì)等離子拋光c步驟中，電解液的質(zhì)量比為濃硫酸10%,濃磷酸15 %和水75 %。
[0135]優(yōu)選的，所述步驟(3)中電解質(zhì)等離子拋光c步驟中，采用高頻高壓窄脈沖電場對(duì)金相試樣進(jìn)行等離子電漿拋光。
[0136]優(yōu)選的，所述步驟(4)之后，采用熱氮?dú)饣螂娂訜釥t烘干金相試樣表面水分以保證金相試樣表面色澤均勻無水斑，完成后放置于真空保證。
[0137]采用了超聲波清洗機(jī)的振動(dòng)對(duì)金相試樣進(jìn)行清洗和打磨，在對(duì)金相試樣進(jìn)行清洗時(shí)，超聲波清洗機(jī)內(nèi)部的液體為工業(yè)凈水，在內(nèi)部放入金剛石研磨砂、拋光膏和甘油進(jìn)行清理，實(shí)現(xiàn)了一機(jī)多用，能夠節(jié)約資源，在拋光之前對(duì)金相試樣進(jìn)行清洗，進(jìn)行除油處理，能夠避免給后續(xù)的研磨和拋光工藝造成影響，在金相試樣的底部放置橡膠軟底，并在橡膠軟底涂抹黃油，用以抵消研磨過程中的壓力和摩擦力，避免在研磨過程中劃傷表面，多次對(duì)金相試樣進(jìn)行烘干處理，可以除去金相試樣表面的水漬，還可以避免易氧化的金屬在操作的過程中發(fā)生氧化，采用熱氮?dú)饣螂娂訜釥t烘干金相試樣表面水分以保證金相試樣表面色澤均勻無水斑，保證在后期觀察過程中不會(huì)有水漬影響觀察，且避免了涂抹防銹劑，影響觀察，在真空環(huán)境下，不僅可以保存時(shí)間較長，且可以一直處在可待觀察的狀態(tài)。
[0138]以上所述的僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種金相研磨拋光工藝，其特征在于，工藝步驟為: (1)金相試樣表面清洗 a.除塵清洗 通過高壓水槍以工業(yè)凈水來沖洗金相試樣的表面，對(duì)有重油污的金相試樣表面采用高溫工業(yè)凈水，溫度為45-55°C，沖洗時(shí)間為10-15min; b.表面除油 將金相試樣置于堿水中進(jìn)行超聲波清洗，清洗時(shí)間為lOmin，室溫為20°C，并在清洗后，浸泡 0.5-2h; c.漂洗 利用純水對(duì)金相試樣金相低壓漂洗，漂洗時(shí)間為5-10min; (2)金相試樣表面研磨 a.粗磨 使用300-2000目的水磨砂紙對(duì)金相試樣進(jìn)行打磨，打磨完成后放入凈水中進(jìn)行簡單清洗； b.精磨 采用研磨機(jī)對(duì)金相試樣進(jìn)行打磨，進(jìn)行研磨時(shí)加入研磨液，在金相磨拋機(jī)上，在金相試樣的底部放置橡膠軟底，并在橡膠軟底涂抹黃油，用以抵消研磨過程中的壓力和摩擦力，避免在研磨過程中劃傷表面； (3)金相試樣拋光 a.粗拋 使用30-900目的金相拋光紙對(duì)金相試樣進(jìn)行簡單打磨，并噴射拋光劑，噴出時(shí)間為3-6s ； b.超聲波拋光 將金相試樣置于超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行拋光，并在超聲波清洗機(jī)中加入金剛石研磨砂、拋光膏和甘油，拋光時(shí)間為30-60min。 c.電解質(zhì)等離子拋光 以金相試樣為陽極，與直流穩(wěn)壓電源正極相連，浸入電解液中；以鉑片為陰極，與直流穩(wěn)壓電源負(fù)極相連;兩者相距一定距離浸入電解液中，電解液以硫酸、磷酸為基本成分，浸入電解拋光液中以5—8A的電流進(jìn)行拋光，拋光溫度為O—30°C ； (4)清洗 通過高壓水槍以去離子水來沖洗金相試樣的表面，沖洗時(shí)間為10-20min。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金相研磨拋光工藝，其特征在于，所述步驟(I)之后，對(duì)金相試樣表面擦干，用熱風(fēng)機(jī)吹去金相試樣表面的水分，并用白色絨布檫干表面的殘留水分。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金相研磨拋光工藝，其特征在于，所述步驟(2)的精磨b步驟中的研磨液采用多晶金剛石研磨液。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金相研磨拋光工藝，其特征在于，所述步驟(3)中粗拋a步驟中拋光劑的成分為:蝕刻劑45%，光亮劑22%，修復(fù)劑15%，其他活性劑13%。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金相研磨拋光工藝，其特征在于，所述步驟(3)中超聲波拋光b步驟中，超聲波清洗機(jī)內(nèi)組成甘油15—20%、拋光膏25—30%、金剛石研磨砂40—50%、余量為水。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金相研磨拋光工藝，其特征在于，所述步驟(3)中電解質(zhì)等離子拋光c步驟中，電解液的質(zhì)量比為濃硫酸5 % —10%,濃磷酸12 % —15 %和水75—80%。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種金相研磨拋光工藝，其特征在于，所述步驟(3)中電解質(zhì)等離子拋光c步驟中，采用高頻高壓窄脈沖電場對(duì)金相試樣進(jìn)行等離子電漿拋光。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金相研磨拋光工藝，其特征在于，所述步驟(4)之后，采用熱氮?dú)饣螂娂訜釥t烘干金相試樣表面水分以保證金相試樣表面色澤均勻無水斑，完成后放置于真空保證。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種金相研磨拋光工藝，工藝步驟為：(1)金相試樣表面清洗；(2)金相試樣表面研磨；(3)金相試樣拋光；(4)清洗；采用了超聲波清洗機(jī)的振動(dòng)對(duì)金相試樣進(jìn)行清洗和打磨，在對(duì)金相試樣進(jìn)行清洗時(shí)，超聲波清洗機(jī)內(nèi)部的液體為工業(yè)凈水，在內(nèi)部放入金剛石研磨砂、拋光膏和甘油進(jìn)行清理，能夠節(jié)約資源，先進(jìn)行除油處理，能夠避免給后續(xù)的研磨和拋光工藝造成影響，在金相試樣的底部放置橡膠軟底，避免在研磨過程中劃傷表面，多次對(duì)金相試樣進(jìn)行烘干處理，可以避免易氧化的金屬在操作的過程中發(fā)生氧化，保證金相試樣表面色澤均勻無水斑，且避免了涂抹防銹劑，在真空環(huán)境下，保存時(shí)間較長。
【IPC分類】G01N1/32, C25F3/16, B24B19/00, B24B37/00, B24B1/04
【公開號(hào)】CN105437050
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510751777
【發(fā)明人】程?hào)|華, 程士弟
【申請(qǐng)人】和縣隆盛精密機(jī)械有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請(qǐng)日】2015年11月6日