用于基板的保持布置的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明的實(shí)施方式涉及一種用于在處理(例如，層沉積)期間保持基板的保持布置以及一種用于在所述處理期間保持基板的方法。本發(fā)明的實(shí)施方式具體涉及一種用于在真空層沉積期間保持基板的保持布置以及一種用于在所述真空層沉積期間保持基板的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]已知若干方法用于在基板上沉積材料。例如，基板可通過物理氣相沉積(PVD)工藝、化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝、等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積(PECVD)工藝等來涂覆。通常，工藝在工藝設(shè)備或工藝腔室中執(zhí)行，待涂覆的基板位于所述工藝設(shè)備或工藝腔室中。在設(shè)備中提供沉積材料。多種材料以及這些材料的氧化物、氮化物或碳化物可用于在基板上進(jìn)行的沉積。此外，可以在工藝腔室中執(zhí)行其他步驟(像蝕刻、結(jié)構(gòu)化(structuring)、退火等)O
[0003]所涂覆的材料可用于若干應(yīng)用以及若干技術(shù)領(lǐng)域中。例如，應(yīng)用在微電子領(lǐng)域中，諸如，產(chǎn)生半導(dǎo)體器件。此外，用于顯示器的基板經(jīng)常通過PVD工藝來涂覆。進(jìn)一步的應(yīng)用包括絕緣面板、有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)面板、具有TFT的基板、濾色器等。
[0004]通常，在玻璃基板的處理期間，所述玻璃基板可被支撐在載體上。載體將玻璃或基板驅(qū)動(dòng)通過處理機(jī)器。載體通常形成為框架或板，所述框架或板沿基板的外圍支撐所述基板的表面，或者在板的情況下，所述板以自身支撐表面。具體來說，框架形的載體還會(huì)掩蔽玻璃基板，其中框架所圍繞的載體中的孔(aperture)提供用于將待沉積的材料涂覆在暴露基板部分上的孔，或者提供用于在作用于由孔暴露的基板部分上的其他處理步驟的孔。此夕卜，保持布置被提供來將基板固定至框架，并在沉積工藝期間將其保持在適當(dāng)位置上。
[0005]在一些領(lǐng)域中(例如，在使用例如用于移動(dòng)應(yīng)用顯示器(例如，液晶顯示器)的物理氣相沉積(PVD)的顯示器觸摸板制造中，制造者趨向于單玻璃基板(one glass substrate，0GS)解決方案:待涂覆的基板的特征為已經(jīng)是最終的器件尺寸(例如，移動(dòng)電話尺寸)，而不是涂覆較大的母板玻璃并隨后將它們切割成最終的移動(dòng)電話的尺寸。
[0006]可用保持布置通過將保持力施加至基板的延伸表面(S卩，同樣在待涂覆的延伸表面上)來保持基板。例如，夾具接觸延伸表面兩者以保持或夾持基板。因此，可能無法滿足尤其與OGS方案相關(guān)聯(lián)的上述要求中的至少一些要求。
[0007]鑒于上述內(nèi)容，本發(fā)明的目的在于提供克服本領(lǐng)域的問題中的至少一些的保持布置，特別是用于在真空層沉積期間保持基板的保持布置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]鑒于上述內(nèi)容，提供根據(jù)獨(dú)立權(quán)利要求1所述的一種用于在真空層沉積期間保持基板的保持布置以及根據(jù)獨(dú)立權(quán)利要求14所述的一種用于在真空層沉積期間保持基板的方法。通過從屬權(quán)利要求、說明書和附圖，本發(fā)明的其他方面、優(yōu)點(diǎn)和特征是明顯的。
[0009]根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式，一種用于在真空層沉積期間保持基板的保持布置包括:框架，所述框架具有兩個(gè)或更多個(gè)框架元件，所述框架元件形成孔開口 ；以及彈性構(gòu)件，所述彈性構(gòu)件被配置成提供作用于基板邊緣的夾持力，從而將基板夾持在基板邊緣。
[0010]根據(jù)另一實(shí)施方式，一種用于在真空層沉積期間保持基板的保持布置包括:框架，所述框架具有兩個(gè)或更多個(gè)框架元件，所述框架元件形成孔開口 ；以及彈性構(gòu)件，所述彈性構(gòu)件連接兩個(gè)或更多個(gè)框架元件。兩個(gè)或更多個(gè)框架元件是相對(duì)于彼此可移動(dòng)的，并且被配置成用于改變孔開口的尺寸。彈性構(gòu)件提供作用于兩個(gè)或更多個(gè)框架元件的收縮力，從而將基板夾持在基板邊緣。
[0011]根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式，一種用于在基板上沉積層的設(shè)備包括:腔室，所述腔室適于在其中進(jìn)行層沉積;位于腔室內(nèi)的、如上所述保持布置；以及沉積源，所述沉積源用于沉積形成所述層的沉積材料。
[0012]根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式，一種用于在真空層沉積期間保持基板的方法包括:提供框架，所述框架形成孔開口 ；將基板定位在孔開口中；以及提供作用于基板邊緣的夾持力，從而將基板夾持在基板邊緣。
[0013]根據(jù)另一實(shí)施方式，一種用于在真空層沉積期間保持基板的方法包括:使得兩個(gè)或更多個(gè)框架元件相對(duì)于彼此移動(dòng)以增大由框架元件形成的孔開口的尺寸;將基板定位在孔開口中；以及將兩個(gè)或更多個(gè)框架元件釋放以將基板夾持在基板邊緣。
【附圖說明】
[0014]因此，為了可詳細(xì)地理解本發(fā)明的上述特征的方式，可通過參照實(shí)施方式來進(jìn)行對(duì)上文簡(jiǎn)要概述的本發(fā)明的更具體的描述。附圖涉及本發(fā)明的實(shí)施方式，并且描述如下:
[0015]圖1示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的保持布置，并且其中基板提供在所述保持布置的孔開口(aperture opening)中；
[0016]圖2示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的保持布置，并且其中提供在所述保持布置的孔開口中的基板被釋放；
[0017]圖3示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的保持布置的詳細(xì)視圖；
[0018]圖4示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的另一保持布置，并且其中基板將被定位在所述保持布置的孔開口中；
[0019]圖5示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的圖4的保持布置，并且其中基板被容納在孔開口中并被夾持；
[0020]圖6示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的保持布置；
[0021]圖7示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的圖6的保持布置的詳細(xì)視圖；
[0022]圖8示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的、在基板表面上方突起的框架的示意圖；
[0023]圖9示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的用于利用保持布置在基板上沉積材料層的設(shè)備的不意圖；以及
[0024]圖10示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的、用于在真空層沉積期間保持基板的方法的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0025]現(xiàn)在將詳細(xì)參照本發(fā)明的各種實(shí)施方式，在附圖中示出各種實(shí)施方式的一或多個(gè)實(shí)例。在以下對(duì)附圖的描述中，相同參考編號(hào)指示相同部件。一般來說，僅描述相對(duì)于單個(gè)實(shí)施方式的區(qū)別。通過解釋本發(fā)明的方式來提供每個(gè)實(shí)例，并且每個(gè)實(shí)例不旨在作為本發(fā)明的限制。此外，示出或描述為一個(gè)實(shí)施方式的部分的特征可用于其他實(shí)施方式或結(jié)合其他實(shí)施方式來使用，從而獲得進(jìn)一步的實(shí)施方式。說明書旨在包括此類修改和變型。
[0026]根據(jù)可與本文所述其他實(shí)施方式結(jié)合的典型實(shí)施方式，基板厚度可以從0.1至
0.8mm，并且保持布置(特別是保持裝置)可適用于此類基板厚度。然而，尤其有益的基板厚度是約0.9mm或更低，諸如，0.5mm或0.3mm，并且保持布置(特別是保持裝置)適用于此類基板厚度。
[0027]根據(jù)一些實(shí)施方式，大面積基板或支撐一或多個(gè)基板的載體(S卩，大面積載體)可具有至少0.174m2的尺寸。通常，載體尺寸可以是約1.4m2至約8m2，更通常地，約2m2至約9m2，或甚至高達(dá)12m2。通常，基板被支撐在其中、設(shè)有根據(jù)本文所述實(shí)施方式的保持布置、設(shè)備和方法的矩形區(qū)域是具有本文所述大面積基板的尺寸的載體。例如，將對(duì)應(yīng)于單個(gè)大面積基板的面積的大面積載體可以是第5代、第7.5代、第8.5代、或甚至第10代，第5代對(duì)應(yīng)于約1.4m2的基板(1.1m x I.3m)，第7.5代對(duì)應(yīng)于約4.29m2的基板(1.95m x 2.2m)，第8.5代對(duì)應(yīng)于約5.7m2的基板(2.2m X 2.5m)，第10代對(duì)應(yīng)于約8.7m2的基板(2.85mX 3.05m)?？深愃频貙?shí)現(xiàn)甚至更高代的、諸如第11代和第12代以及對(duì)應(yīng)基板面積。
[0028]通常，基板可由適用于材料沉積的任何材料制成。例如，基板可由選自由下列各項(xiàng)組成的組中的材料制成:玻璃(例如，鈉鈣玻璃、硼硅玻璃等)、金屬、聚合物、陶瓷、復(fù)合材料、碳纖維材料或可通過沉積工藝涂覆的任何其他材料或材料組合。
[0029]圖1示出根據(jù)本文所述實(shí)施方式的保持布置10，并且其中基板20提供在所述保持布置10的開口中。
[0030]根據(jù)一些實(shí)施方式，用于在真空層沉積期間保持基板20的保持布置10包括載體或框架30以及彈性構(gòu)件，所述載體或框架30具有兩個(gè)或更多個(gè)框架元件31、32、33和34，所述框架元件31、32、33和34形成孔開口，所述彈性構(gòu)件被配置成提供作用