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      一種熔鹽體系下低溫晶化氧化硅的方法與流程

      文檔序號(hào):11733577閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明涉及一種熔鹽體系下低溫晶化氧化硅的方法,包括以下步驟:(1)將氧化硅加入熔鹽體系中,并研磨得到混合粉體,使氧化硅均勻分散于熔鹽中;(2)將混合粉體在空氣中常壓條件下,500℃下熔鹽反應(yīng)4?6小時(shí);(3)反應(yīng)結(jié)束后,用去離子水溶解去除熔鹽,并離心,干燥處理得到晶化氧化硅,同時(shí)熔鹽可以重復(fù)性利用。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明首次提出了一種熔鹽法低溫晶化氧化硅的方法,顯著降低反應(yīng)溫度,并且制備的為方石英;采用本發(fā)明提供的方法容易實(shí)現(xiàn)反應(yīng)的均勻性;采用本發(fā)明提供的方法晶化氧化硅具有反應(yīng)溫度低,反應(yīng)時(shí)間短,結(jié)晶度高,制備簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)和環(huán)保等特點(diǎn),具有較好的應(yīng)用前景。

      技術(shù)研發(fā)人員:胡桂青;姚寶殿;于治水
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:上海工程技術(shù)大學(xué)
      文檔號(hào)碼:201510523817
      技術(shù)研發(fā)日:2015.08.24
      技術(shù)公布日:2017.05.03

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