本發(fā)明涉及一種晶體生長(zhǎng)用的藍(lán)寶石單晶爐真空計(jì)防污染裝置和真空計(jì)模塊,尤其是一種用于泡生法藍(lán)寶石單晶爐晶體生長(zhǎng)用的真空計(jì)防污染裝置。
背景技術(shù):
藍(lán)寶石單晶爐是LED產(chǎn)業(yè)鏈中重要的晶體生長(zhǎng)設(shè)備。目前,世界上用于藍(lán)寶石單晶體生長(zhǎng)的主流方法有以下幾種:導(dǎo)模法、提拉法、熱交換法和泡生法。泡生法在引晶、擴(kuò)肩生長(zhǎng)后的晶錠直徑較大,有利于生長(zhǎng)出大尺寸、低缺陷密度、高品質(zhì)的藍(lán)寶石單晶體,因此具有更大的優(yōu)勢(shì)。
泡生法是將一根受冷的籽晶與三氧化二鋁熔液接觸后熔化。當(dāng)界面的溫度低于凝固點(diǎn),則籽晶開始生長(zhǎng),為了使籽晶晶體不斷長(zhǎng)大,需逐漸降低熔體的溫度,同時(shí)旋轉(zhuǎn)籽晶裝置,以改善熔體的溫度分布。當(dāng)晶體生長(zhǎng)到一定階段時(shí),須緩慢上提籽晶裝置,以擴(kuò)大散熱面。晶體生長(zhǎng)過程中,爐體最高溫度超過2000℃。為保證內(nèi)部零部件不在高溫下氧化及晶體的純度,爐內(nèi)需要為高真空環(huán)境。以保持在爐內(nèi)無氧化性氣體。晶體生長(zhǎng)過程中,爐內(nèi)一直保持著較高溫度,同時(shí)需要高真空環(huán)境。目前,用于泡生法晶體生長(zhǎng)的設(shè)備多采用油擴(kuò)散泵作為主泵使設(shè)備,達(dá)到所需的真空度。并采用電離真空計(jì)來測(cè)量設(shè)備內(nèi)部的真空,以保證設(shè)備的安全性。
由于設(shè)備在運(yùn)行過程中,處于極高溫度的高真空的環(huán)境內(nèi),設(shè)備內(nèi)部的材料的蒸汽壓急劇上升,各種材料揮發(fā)較大,對(duì)真空計(jì)造成污染,并且,由于高溫低壓,一些安裝過程中的油脂也會(huì)揮發(fā),和抽真空的機(jī)械泵和擴(kuò)散泵也會(huì)由于“返油”使一些泵油進(jìn)入真空系統(tǒng)內(nèi),這對(duì)測(cè)量真空的真空計(jì)的性能和壽命造成了極大影響。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
發(fā)明目的:本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有泡生法藍(lán)寶石長(zhǎng)晶爐的真空計(jì)受污染問題,提供一種新型成本較低,利于維護(hù)的防污染裝置。通過此裝置的連接, 使真空計(jì)受到污染的情況得到改善。
技術(shù)方案:本發(fā)明所述的藍(lán)寶石單晶爐真空計(jì)防污染裝置,包括殼體、下隔離板、分子篩層,所述殼體下方設(shè)置有開口,該開口處設(shè)置有下隔離板,在殼體內(nèi)所述下隔離板的上方設(shè)置有分子篩層。通過隔板的作用將單晶爐內(nèi)的污染物進(jìn)行物理隔離,同時(shí)采用分子篩對(duì)通過物理隔離后的污染物進(jìn)一步進(jìn)行吸附。
進(jìn)一步地,還包括上隔離板,所述殼體上方設(shè)置有開口,該開口處設(shè)置有上隔離板。
進(jìn)一步地,所述分子篩層為若干氧化鋁球組成的氧化鋁球?qū)?。通過設(shè)置氧化鋁球?qū)?,一方面可以吸附污染物,另一方面也可以防止吸附劑的加入帶來新的雜質(zhì)。
進(jìn)一步地,所述下隔離板上設(shè)置有若干篩孔。
進(jìn)一步地,所述篩孔為圓形篩孔,且該圓形篩孔直徑1~2mm所述氧化鋁球的直徑3~5mm篩孔太小會(huì)影響真空計(jì)的測(cè)量,太大則使得氧化鋁球的直徑隨之增大,氧化鋁球的個(gè)數(shù)較少,影響吸附效果。
進(jìn)一步地,所述分子篩層為若干氧化鋁球組成的氧化鋁球?qū)樱錾细綦x板上設(shè)置有篩孔,所述篩孔為圓形篩孔,且該圓形篩孔直徑小于所述氧化鋁球的直徑。
進(jìn)一步地,所述殼體為管狀殼體。
本發(fā)明還包括上述任一所述藍(lán)寶石單晶爐真空計(jì)防污染裝置的藍(lán)寶石單晶爐真空計(jì)模塊,該藍(lán)寶石單晶爐真空計(jì)模塊包括所述藍(lán)寶石單晶爐真空計(jì)防污染裝置。
進(jìn)一步地,還包括真空計(jì),所述真空計(jì)設(shè)置于上隔離板上
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比,其有益效果是:通過物理隔離作用和吸附作用,使得設(shè)備在工作揮發(fā)的物質(zhì)及油類物質(zhì)不容易污染到真空計(jì)。并盡量的減少對(duì)真空測(cè)量結(jié)果的影響。
附圖說明
圖1為本發(fā)明所述的藍(lán)寶石單晶爐真空計(jì)防污染裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說明,但是本發(fā)明的保護(hù)范圍不局限于所述實(shí)施例。
實(shí)施例1:
如圖1所示,整個(gè)裝置分為上隔離板1、殼體2、下隔離板4、分子篩層3。上隔離板1位于可以內(nèi)的上方,通過殼體2,與下隔離板4構(gòu)成一個(gè)籠狀裝置,氧化鋁球構(gòu)成的分子篩層3置于下隔離板上方。
其中,上隔離板1為一篩狀零件,其中心部位是一個(gè)邊緣為鋸齒狀的圓孔,既保證足夠的氣流通過,并同時(shí)隔離一部分污染物,從而使真空計(jì)捕獲到分子,從而測(cè)量到真空值,殼體2為不銹鋼零部件制作的管狀殼體,保證內(nèi)部與外部完全隔離;下隔離板4也是一篩狀零件,保證氣流通過的同時(shí),確保氧化鋁球不會(huì)從此裝置內(nèi)跑出;同時(shí)還可以隔離一部分污染物。
如上所述,盡管參照特定的優(yōu)選實(shí)施例已經(jīng)表示和表述了本發(fā)明,但其不得解釋為對(duì)本發(fā)明自身的限制。在不脫離所附權(quán)利要求定義的本發(fā)明的精神和范圍前提下,可對(duì)其在形式上和細(xì)節(jié)上作出各種變化。