技術總結
本發(fā)明提供的一種高穩(wěn)定性全熔高效坩堝的噴涂及熔化工藝控制方法，包括步驟一利用手工噴涂的方式噴涂在坩堝底部、步驟二利用手工或者機械噴涂的方式噴涂在坩堝側壁、步驟三將硅料裝入上述坩堝中，投入鑄錠爐后抽真空、加熱、熔化，待硅料全部熔化結束后降溫、提升隔熱籠進入長晶，步驟簡單，制備方便，通過將坩堝底部與坩堝側部分開噴涂及底部噴涂手法控制，確保了底部形核源所形成的凹凸感不被氮化硅粉所掩埋，高效成活率在99.8%以上；同時通過合理的熔化工藝控制，在確保高效形成率的基礎上，粘鍋裂紋率大幅降低到0.1%以內，大大降低了高效鑄錠成本。

技術研發(fā)人員：劉明權;梅森;陳董良;王祿寶
受保護的技術使用者：鎮(zhèn)江環(huán)太硅科技有限公司
文檔號碼：201610845016
技術研發(fā)日：2016.09.23
技術公布日：2017.05.17