本發(fā)明涉及用于TFT玻璃基板蝕刻預處理的組合物。
背景技術：
市場需求的TFT顯示屏越來越朝超薄方向發(fā)展，在制作超薄TFT顯示屏使需要的玻璃基板厚度更薄，需要對現(xiàn)有規(guī)格玻璃基板進行薄化處理，現(xiàn)有技術中多采用含有氫氟酸的蝕刻液進行薄化處理，在薄化處理后玻璃基板表明往往會出現(xiàn)局部過蝕產(chǎn)生的凹坑，需要再對基板表明進行長時間的拋光處理，嚴重影響了生產(chǎn)效率，提高了加工成本。為了減少薄化處理出現(xiàn)的凹坑，除了在以氫氟酸為基礎的蝕刻液中加入助劑外，還可以采用在薄化處理前對TFT液晶屏的玻璃基板(簡稱TFT玻璃)進行預處理的方法，現(xiàn)有技術中的預處理液多采用濃硫酸為基礎配制的混合酸液，在提供一種新的TFT玻璃薄化工藝預處理液，在提高處理效果的基礎上降低污染排放，成為現(xiàn)有技術中亟待解決的問題。
技術實現(xiàn)要素：
為解決前述技術問題，本發(fā)明提供了一種TFT玻璃基板薄化工藝預處理液，通過優(yōu)化預處理液的處方和處理工藝，成功的實現(xiàn)了避免了濃硫酸等造成嚴重污染且難于處理的原材料的使用。
本發(fā)明提供了一種TFT玻璃基板薄化工藝預處理液，其特征在于所述預處理液由以下成分組成：質量百分比含量10～20％的鹽酸(HCl)，質量百分比含量2％～5％的氫氟酸(HF)，質量百分比含量5～10％的聚乙烯醇(PVA)，質量百分比含量0.5～1％的聚二甲基硅氧烷，質量百分含量1-2％的羥丙基-β-環(huán)糊精及余量的水。
在研究中我們發(fā)現(xiàn)，當采用本發(fā)明提供的一種TFT玻璃基板薄化工藝預處理液對TFT玻璃基板按照本發(fā)明提供的工藝進行預處理后，可以顯著降低薄化工藝后基板表面的凹坑，大大減少再研磨工序的時間，且通過優(yōu)化預處理液的配方可以使得預處理后的玻璃基板的CF面和TFT面均具有較好的薄化效果。從而可以整體上降低后續(xù)研磨工序的時間，提高生產(chǎn)效率。同時本發(fā)明提供的預處理液在保證了預處理效果的同時，避免了現(xiàn)有技術中采用濃硫酸為主要成分的預處理液在使用時的不安全性和廢液難于處理的問題，減少了這個TFT面板生產(chǎn)工藝的污染排放和污染物處理成本。
具體實施方式
本發(fā)明提供的一種TFT玻璃基板薄化工藝預處理液，以如下方法配制，
1)將處方量鹽酸與氫氟酸混合，并加入適量水稀釋
2)將處方量的羥丙基-β-環(huán)糊精溶于適量水中至完全溶解，然后加入；
3)將處方量PVA溶于適量水中至完全溶解
4)將步驟2)、3)得到的溶液混合，然后將步驟1)得到的混合液緩慢加入，加入處方量聚二甲基硅氧烷，補足處方量的水并攪拌至成為均一溶液。
實施例1～4的配方見下表(質量百分比wt％)
對實施例1～4得到的預處理液進行薄化預處理的方法如下
取用原材料為板硝子AN100相同廠家同批次的TFT玻璃面板進行，其厚度為1.000mm，尺寸為730mm×920mm。所采用的蝕刻及拋光設備分別為東莞鴻村蝕刻機和湖南永創(chuàng)拋光機。
預處理方法為
1)配制一種TFT玻璃基板薄化工藝預處理液1000L(以下簡稱預處理液)
2)將預處理液打入蝕刻機酸槽中，把5片TFT基板(編號為I～V)浸泡在混合液中，去除玻璃表面雙層60微米；
3)：用清水洗凈玻璃表面，在表面濕潤的條件下再進入氫氟酸蝕刻液中，濃度為9mol/L，溫度控制在30℃條件，薄化至0.5mm厚度。
領取5片TFT基板(編號i～v)清水清洗后直接進入氫氟酸蝕刻液中濃度為9mol/L，溫度控制在30℃條件，薄化至0.5mm厚度，并作為對照組
在同一臺永創(chuàng)拋光機1300-3#上，壓力60g/cm2，下盤轉速50，上盤轉速40，研磨墊為環(huán)球LP-66型號，拋光粉為德樂士101型號，吸附墊為FUJIBO BPE211型號，實驗組每研磨2分鐘檢驗一次表面效果，對照組每研磨5分鐘檢驗一次表面效果，記錄研磨后檢驗沒有凹坑的累計研磨時間如表1所示
實驗結果表明，采用本發(fā)明提供的預處理液進行預處理后的玻璃基板在進行薄化工藝處理后可以顯著減少面板上的凹坑。