技術(shù)特征：

1.一種含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的r1和r5各自獨立地為所述式(2)或式(3)所示的末端基。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的r1和r5相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的r1和r5不同。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的r1和r5中的一者為所述式(2)或式(3)所示的末端基，另一者為氫原子。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的-r2-o-和-r4-o-各自獨立地由下述式(4)表示，

7.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的-r2-o-和-r4-o-各自獨立地由下述式(5-1)或式(5-2)表示，

8.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的r3為下述式(6)所示的全氟聚醚鏈，

9.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的r3為選自下述式(7-1)～式(7-4)所示的全氟聚醚鏈中的任1種，

10.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的含氟醚化合物，其數(shù)均分子量為500～10000的范圍內(nèi)。

11.一種磁記錄介質(zhì)用潤滑劑，其特征在于，包含權(quán)利要求1～5中任一項所述的含氟醚化合物。

12.一種磁記錄介質(zhì)，其特征在于，是在基板上至少依次設(shè)置了磁性層、保護層、和潤滑層的磁記錄介質(zhì)，

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的磁記錄介質(zhì)，所述潤滑層的平均膜厚為0.5nm～2.0nm。

技術(shù)總結(jié)
下述式所示的含氟醚化合物。R1?O?R2?CH2?R3?CH2?R4?O?R5(R3為全氟聚醚鏈。R2和R4為具有1個以上極性基的2價連結(jié)基。R1和R5為式(2)、式(3)或氫原子。R1和R5之中的至少一者為式(2)或式(3)。在式(2)中，X1為碳原子數(shù)1～30的亞烷基。Y和Z為碳原子數(shù)1～30的脂肪族基。在式(3)中，X2為碳原子數(shù)1～30的亞烷基。A和B為碳原子數(shù)1～30的脂肪族基。)

技術(shù)研發(fā)人員：嵯峨康平,柳生大輔,宇野卓矢,丹治優(yōu)
受保護的技術(shù)使用者：株式會社力森諾科
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/10