過濾膜真空過濾，W獲得透光的透明溶液。測得抑為約 3. 5。沖洗水是DI水，不調(diào)節(jié)抑(抑為約5-6)。隨后使用如上所述的StratoSequenceVI 浸涂機器人在玻璃載片上制得具有10巧XI)、20巧X2)和30巧X3)雙層的涂層。下表1中報 告了涂層厚度W及UV范圍（290-400nm)和可見光范圍（400-700nm)內(nèi)的平均透射率。 [0。引 連倆I4-6 PDADMAC(PAA/ 聚（MAPTAC-co-UVA-1))^的制備巧表佈陽227] 在該示例中，多陽離子包含有機UVA0JVA-1)，而多陰離子不含UVA。用體積為 140血的DI水將PAA在水中從25重量％稀釋至0.1重量％。測得抑為約3. 5。用體積 為140血的DI水將呈半透明分散體形式的聚（MAPTAC-CO-UVA-1)在MeOH中從17. 8重 量％稀釋至0.1重量％，攬拌過夜W獲得半透明的懸浮液。測得抑為約4.5。沖洗水是 DI水，不調(diào)節(jié)抑(抑為約5-6)。隨后使用如上所述的StratoSequenceVI浸涂機器人制 得具有10巧X4)、20(EX5)和30巧X6)雙層的涂層。下表1中報告了涂層厚度W及UV范圍 (290-400nm)和可見光范圍（400-700nm)內(nèi)的平均透射率。 。。引 連倆I7-9 PDADMAC(聚（AA-CO-UVA-I)/聚（MAPTAC-CO-UVA-1))^的制備巧表佈[0230] 在該示例中，多陽離子和多陰離子均包含有機UVA0JVA-1)。用體積為HOmL的DI 水將聚（AA-CO-UVA-I)在IPA中從18. 6重量％稀釋至0. 1重量％，攬拌過夜，并通過0. 2ym聚酸諷牌巧過濾膜真空過濾，W獲得透光的透明溶液。測得抑為約3. 5。用體積為140mL 的DI水將呈半透明分散體形式的聚（MAPTAC-co-UVA-1)在MeOH中從17. 8重量％稀釋至 0.1重量％，攬拌過夜W獲得半透明的懸浮液。測得抑為約4.5。沖洗水是DI水，不調(diào)節(jié) pH(抑為約5-6)。隨后使用如上所述的StratoSequenceVI浸涂機器人制得具有10巧X7)、 20(EX8)和30巧X9)雙層的涂層。下表1中報告了涂層厚度化及UV范圍（290-400nm)和可 見光范圍（400-700nm)內(nèi)的平均透射率。 ?？?] 連倆I10-12 PDADMAC(聚（AA-CO-UVA-I)/TiO^(+))"的制備巧表佈
[0233] 在該示例中，多陽離子是金屬氧化物納米粒子（即，銳鐵礦型Ti化)，多陰離子包含 有機UVA0JVA-1)。Ti〇2也是無機紫外線吸收劑，因此運些涂層將具有來自TiO2和UVA-I的 紫外線吸收作用。 陽234] 用體積為140血的DI水將聚（AA-CO-UVA-I)在IPA中從18. 6重量％稀釋至0. 1 重量％，攬拌過夜，并通過〇.2ym聚酸諷（PE巧過濾膜真空過濾，W獲得透光的透明溶液。 測得抑為約3. 5,然后用HN03下調(diào)至3. 0。用體積為140血的DI水將TiO2 (+)在水中從15 重量％稀釋至0.1重量％，并攬拌1小時。測得抑為約3. 5,然后用HN03下調(diào)至3.0。沖 洗水為DI水，其中用HN03將抑調(diào)節(jié)至3. 0。隨后使用如上所述的StratoSequenceVI浸 涂機器人制得具有10巧X10)JO(EXll)和30巧X12)雙層的涂層。下表1中報告了涂層厚 度W及UV范圍（290-400nm)和可見光范圍（400-700nm)內(nèi)的平均透射率。 ?？垡惹衫? (CE-7)
[0236] 該比較例為2密耳厚的陽T，購自明尼蘇達州圣保羅的3M公司（3MCompany,St. 化Ul,MN)。 ?？?]連例13化X13) ?？垡齈ET腸基底h巧DADMAC/聚（AA-CO-UVA-I))^的制備巧表佈
[0239] 該實例具有與實例3相同的涂層制劑；但其涂層沉積在PET膜（即有機基底）上， 而非玻璃載片上。
[0240] 在該示例中，多陽離子不含UVA，而多陰離子包含有機UVA0JVA-1)。用體積為 140血的DI水將PDADMAC在水中從20重量％稀釋至0. 1重量％。測得抑為約4. 5。用體 積為140血的DI水將聚（AA-CO-UVA-I)在IPA中從18. 6重量％稀釋至0. 1重量％，攬拌 過夜，并通過0.2ym聚酸諷（PE巧過濾膜真空過濾，W獲得透光的透明溶液。測得抑為約 3. 5。沖洗水是DI水，不調(diào)節(jié)抑(抑為約5-6)?；资且黄?密耳厚的PET，購自明尼蘇 達州圣保羅的3M公司（3MCompany,St.Paul,MN)。用IPA沖洗陽T，之后用DI&0沖洗， 然后在氮氣流下進行干燥。接著，使陽T經(jīng)受兩個面的空氣電暈處理，方法是使用抓-20AC 實驗室電暈處理器（購自伊利諾伊州芝加哥的電子科技產(chǎn)品公司巧Iectro-Technic Pro化Cts,Inc.，化icago,IL))處理每個面約30秒，W賦予基底微量的負電荷并改善含水 涂層溶液的潤濕。使用如上所述的StratoSequenceVI浸涂機器人將具有30個雙層的涂 層巧X13)沉積在PET上。 陽24U下表1中報告了UV范圍（290-400nm)和可見光范圍（400-700nm)內(nèi)的平均透射 率。
[0242]表1 :比巧倆I1-7巧連例1-13的涂房厚麼、平挽紫外化巧射率Pi及平挽可化化巧 射率匯總

[0245] 實例1-13可W與實例I相同或相似的方式涂覆在包含有機材料的基底上。其他 光照透射基底的透射特性應(yīng)與玻璃的特性相同或相似。 陽24引連例14 陽247]PDADMAC(TiO^(-)/ 聚（MAPTAC-CO-HALS)) ^的制備巧表佈
[0248] 在該示例中，多陰離子是金屬氧化物納米粒子（即，銳鐵礦型Ti化)，多陽離子包含 有機光穩(wěn)定劑（即，受阻胺光穩(wěn)定劑（HALS))。 陽249] 用體積為140血的DI水將聚（MAPTAC-C0-HALS-1)在甲醇中從18. 2重量％稀釋至 0.1重量％，攬拌過夜，并通過0.2ym聚酸諷（PE巧過濾膜真空過濾，W獲得透光的透明溶 液。用化OH將抑值調(diào)至10. 0。未經(jīng)稀釋使用了 0. 82重量％的Ti〇2(-) (W商品名"X500" 購自中國上海泰坦公司（Titan陽,Shan曲ai,化ina))。測得抑為約9. 7,不進行調(diào)節(jié)。沖 洗水為DI水，其中用化OH將抑調(diào)節(jié)至10. 0。使用如上所述的StratoSequenceVI浸涂 機器人制得具有15個雙層的涂層。涂層厚度測得為約98nm，表面粗糖度為8nm，使用上述 "用于測定涂層厚度和折射率的方法"測得波長633nm處的涂層折射率為約1. 77。 。巧0] 連例15 悅川 巧含紫外線吸收劑巧/或HALS的紫外線巧射涂房的制備。 陽252] 可制備多疊層光學(xué)涂層W選擇性地反射所需波長的光。多疊層光學(xué)涂層包括交替 高折射率疊層（表示為"H")和低折射率疊層（表示為"L")。 陽253] 高折射率疊層可使用Ti〇2作為多陰離子或多陽離子進行沉積。在一個實施例中， 高折射率疊層包括多個雙層，表示為燈i化(+)/聚（AA-CO-UVA-1))。。在另一個實施例中， 高折射率疊層包括多個雙層，表示為（聚（MAPTAC-CO-HALS-I)Ai化(-))。。應(yīng)選擇雙層的 數(shù)量n，使得疊層的光學(xué)厚度（即，物理厚度乘W折射率）約等于所需要反射波長的1/4。 陽254] 低折射率疊層可使用Si〇2作為多陰離子進行沉積。在一個實施例中，低折射率疊 層包括多個雙層，表示為（聚（MAPTAC-c〇-UVA-l)/Si化)。。在另一個實施例中，低折射率疊 層包括多個雙層，表示為（聚（MAPTAC-c〇-HALS-l)/Si〇2)。。應(yīng)選擇雙層的數(shù)量n，使得疊層 的光學(xué)厚度（即，物理厚度乘W折射率）約等于要反射波長的1/4。
[0255] 對于UV反射涂層，涂層應(yīng)反射290-400nm帶寬中的光。因此，低折射率疊層和高 折射率疊層的光學(xué)厚度應(yīng)在72. 5nm至IOOnm的范圍內(nèi)。 。巧d連例16 。巧7] 巧含紫外線吸收劑巧/或HALS的席化巧射涂房的制備。 陽25引可制備多疊層光學(xué)涂層W選擇性地反射所需波長的光。多疊層光學(xué)涂層包括交替 高折射率疊層（表示為"H")和低折射率疊層（表示為"L")。 陽259] 高折射率疊層可使用Ti〇2作為多陰離子或多陽離子進行沉積。在一個實施例中， 高折射率疊層包括多個雙層，表示為燈i化(+)/聚（AA-CO-UVA-1))。。在另一個實施例中， 高折射率疊層包括多個雙層，表示為（聚（MAPTAC-CO-HALS-I)Ai化(-))。。應(yīng)選擇雙層的 數(shù)量n，使得疊層的光學(xué)厚度（即，物理厚度乘W折射率）約等于所需要反射波長的1/4。 [0260] 低折射率疊層可使用Si〇2作為多陰離子進行沉積。在一個實施例中，低折射率疊 層包括多個雙層，表示為（聚（MAPTAC-c〇-UVA-l)/Si化)。。在另一個實施例中，低折射率疊 層包括多個雙層，表示為（聚（MAPTAC-c〇-HALS-l)/Si〇2)。。應(yīng)選擇雙層的數(shù)量n，使得疊層 的光學(xué)厚度（即，物理厚度乘W折射率）約等于所需要反射波長的1/4。 陽％1] 對于藍光反射涂層，涂層應(yīng)反射大致在400-500nm帶寬中的光。因此，低折射率疊 層和高折射率疊層的光學(xué)厚度應(yīng)在IOOnm至125nm的范圍內(nèi)。
[0262]連例 17
[0263]巧含紫外線吸收劑巧/或HALS的巧奸外化（NIR)巧射涂房的制備。
[0264] 可制備多疊層光學(xué)涂層W選擇性地反射所需波長的光。多疊層光學(xué)涂層包括交替 高折射率疊層（表示為"H")和低折射率疊層（表示為"L")。
[0265] 高折射率疊層可使用Ti化作為多陰離子或多陽離子進行沉積。在一個實施例中， 高折射率疊層包括多個雙層，表示為燈i化(+)/聚（AA-CO-UVA-1))。。在另一個實施例中， 高折射率疊層包括多個雙層，表示為（聚（MAPTAC-CO-HALS-I)Ai化(-))。。應(yīng)選擇雙層的 數(shù)量n，使得疊層的光學(xué)厚度（即，物理厚度乘W折射率）約等于所需要反射波長的1/4。 陽％6] 低折射率疊層可使用Si化作為多陰離子進行沉積。在一個實施例中，低折射率疊 層包括多個雙層，表示為（聚（MAPTAC-c〇-UVA-l)/Si化)。。在另一個實施例中，低折射率疊 層包括多個雙層，表示為（聚（MAPTAC-c〇-HALS-l)/Si〇2)。。應(yīng)選擇雙層的數(shù)量n，使得疊層 的光學(xué)厚度（即，物理厚度乘W折射率）約等于所需要反射波長的1/4。 陽％7] 對于NIR反射涂層，涂層應(yīng)反射大致在750-1400帶寬中的光。因此，低折射率疊 層和高折射率疊層的光學(xué)厚度應(yīng)在187. 5nm至350nm的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1. 一種保護基底免受光照引起的劣化的方法，包括： 提供包含有機聚合物材料的基底； 在所述基底上設(shè)置通過逐層自組裝沉積的多個層 其中所述層的至少一部分包含分散在高分子電解質(zhì)內(nèi)的有機光吸收化合物、有機光穩(wěn) 定化合物，或它們的組合。2. -種保護基底免受光照引起的劣化的方法，包括： 提供基底； 將通過逐層自組裝沉積的高分子電解質(zhì)和無機氧化物納米粒子的多個交替的層設(shè)置 在所述基底上，其中所述層的至少一部分包含分散在所述高分子電解質(zhì)內(nèi)的有機光吸收化 合物、有機光穩(wěn)定化合物，或它們的組合。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述基底由無機材料或有機材料構(gòu)成。4. 根據(jù)權(quán)利要求1-3所述的方法，其中所述基底對可見光具有透光性。5. 根據(jù)權(quán)利要求1-4所述的方法，其中所述基底為無機材料，還包括包含有機聚合物 材料的涂層，所述涂層設(shè)置在所述基底和通過逐層自組裝沉積的多個層之間。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述高分子電解質(zhì)共價鍵合到所述有機光吸收化 合物、有機光穩(wěn)定化合物或它們的組合。7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中所述層的至少一部分包含離子單體的高分子電解 質(zhì)共聚物以及可共聚有機光吸收化合物、可共聚有機光穩(wěn)定化合物或它們的組合。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述可共聚有機光吸收或光穩(wěn)定化合物包含（甲 基）丙烯?；蛞蚁┗鶊F。9. 根據(jù)權(quán)利要求7-8所述的方法，其中所述離子單體包含（甲基）丙烯酰基或乙烯基 醚基以及離子基團。10. 根據(jù)權(quán)利要求7-9所述的方法，其中所述高分子電解質(zhì)為接枝的共聚物或無規(guī)共 聚物。11. 根據(jù)權(quán)利要求1-10所述的方法，其中所述有機光吸收化合物降低了紫外光的透射 率。12. 根據(jù)權(quán)利要求1-11所述的方法，其中所述有機光穩(wěn)定化合物或所述有機紫外線吸 收化合物包含選自受阻胺、苯并三唑、二苯甲酮、三嗪、以及它們的混合物的基團。13. 根據(jù)權(quán)利要求1-12所述的方法，其中通過逐層自組裝沉積的所述多個層還提供耐 用的表涂層，或?qū)?50nm處的表面反射率減少至小于2 %。14. 根據(jù)權(quán)利要求1-13所述的方法，其中所述基底為織造或非織造織物、光學(xué)膜、建筑 膜、溫室膜、窗戶膜、保護膜、門窗產(chǎn)品、太陽能光管膜、交通標牌膜、商用圖形膜、太陽能光 伏前板膜或太陽能發(fā)電聚光鏡。15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中所述光學(xué)膜為選自紫外光反射器、藍光反射器、 可見光反射器、紅外光反射器或它們的組合的多層膜。16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中通過逐層自組裝沉積的所述多個層包括低折射 率雙層和高折射率雙層的交替疊層，所述交替疊層增加了所述多層光學(xué)膜的總反射率。17. 根據(jù)前述權(quán)利要求所述的方法，其中所述高分子電解質(zhì)提供于水性溶劑中。18. 一種制品，包括： 包含有機聚合物材料的基底； 設(shè)置在所述基底上的通過逐層自組裝沉積的多個層，其中所述層的至少一部分包含分 散在高分子電解質(zhì)內(nèi)的有機光吸收化合物、有機光穩(wěn)定化合物，或它們的組合。19. 一種制品，包括： 提供基底； 設(shè)置在所述基底上的通過逐層自組裝沉積的高分子電解質(zhì)和無機氧化物納米粒子的 多個交替的層，其中所述層的至少一部分包含分散在所述高分子電解質(zhì)內(nèi)的有機光吸收化 合物、有機光穩(wěn)定化合物，或它們的組合。20. 根據(jù)權(quán)利要求18或19所述的制品，其中所述基底、高分子電解質(zhì)或通過逐層自組 裝沉積的多個層進一步通過權(quán)利要求1-17中任一項或任何組合來表征。21. 無規(guī)共聚物包含重復(fù)單元，所述重復(fù)單元衍生自包含（甲基）丙烯酰基或乙烯基醚 和離子基團的單體，和包含（甲基）丙烯?；蛞蚁┗鶊F的至少一種有機光吸收或光穩(wěn) 定化合物。22. 根據(jù)權(quán)利要求21所述的無規(guī)共聚物，其中所述有機光穩(wěn)定化合物或所述有機紫外 線吸收化合物包含選自受阻胺、苯并三唑、二苯甲酮、三嗪、以及它們的混合物的基團。23. -種保護基底免受光照引起的劣化的方法，包括： 提供基底； 在所述基底上設(shè)置通過逐層自組裝沉積的多個層 其中，所述層的至少一部分包含權(quán)利要求21-22中所述的無規(guī)共聚物。24. 一種制品，包括： 基底； 設(shè)置在所述基底上的通過逐層自組裝沉積的多個層，其中所述層的至少一部分包含權(quán) 利要求21-23中所述的無規(guī)共聚物。
【專利摘要】本發(fā)明描述了保護基底免受光照引起的劣化的方法。所述方法包括提供基底以及將通過逐層自組裝沉積的多個層設(shè)置在所述基底上。所述層的至少一部分包含分散在高分子電解質(zhì)內(nèi)的有機光吸收化合物、有機光穩(wěn)定化合物，或它們的組合。還描述了包括基底和通過逐層自組裝沉積的多個層的制品，其中所述層的至少一部分包含分散在高分子電解質(zhì)內(nèi)的有機光吸收化合物、有機光穩(wěn)定化合物，或它們的組合。還描述了適用于所述方法和制品的無規(guī)共聚物。
【IPC分類】C08F18/00, C09D5/00, C08F22/00
【公開號】CN105229090
【申請?zhí)枴緾N201480028856
【發(fā)明人】D·J·施密特, R·S·巴卡尼恩, T·J·赫布林克, J·R·米勒
【申請人】3M創(chuàng)新有限公司
【公開日】2016年1月6日
【申請日】2014年4月14日
【公告號】EP3004261A1, US20160068703, WO2014193550A1