1.一種形成氣霧劑的流體(23)的分配組件(22)，所述分配組件用于被安裝在包含所述流體(23)的容器(26)的頸部(24)中，所述分配組件所屬的類型包括：
-環(huán)形密封肩部(47)，所述環(huán)形密封肩部(47)用于與所述頸部(24)的互補(bǔ)環(huán)形邊緣協(xié)作，以及
-環(huán)形支抵表面(51)，所述環(huán)形支抵表面(51)從所述密封肩部(47)起軸向延伸，并用于限定與所述頸部(24)的收窄部位(54)接觸的環(huán)形接觸區(qū)域(52)，該環(huán)形接觸區(qū)域(52)用于將在所述密封肩部(47)和所述環(huán)形接觸區(qū)域(52)之間延伸的環(huán)形隔離空間(26I)與所述容器(26)的主空間(26P)分隔開，其特征在于，所述分配組件包括至少一個(gè)布置在所述環(huán)形支抵表面(51)中的凹部(55)，所述凹部用于中斷所述環(huán)形接觸區(qū)域(52)的周向連續(xù)性和構(gòu)成所述流體(23)在所述主空間(26P)與所述隔離空間(26I)之間的通道(60)。
2.如權(quán)利要求1所述的分配組件(22)，其中所述凹部(55)在徑向平面中大致與所述環(huán)形支抵表面(51)平行。
3.如權(quán)利要求1所述的分配組件(22)，其中所述凹部(55)以相對于所述環(huán)形支抵表面(51)的徑向平面傾斜的方式延伸。
4.如權(quán)利要求3所述的分配組件(22)，其中所述傾斜的程度是變化的。
5.如權(quán)利要求1所述的分配組件(22)，其中所述凹部(55)由至少一個(gè)周向凹槽段構(gòu)成。
6.如權(quán)利要求1所述的分配組件(22)，其中所述凹部(55)從所述環(huán)形支抵表面(51)的第一軸向端部延伸到該環(huán)形支抵表面(51)的第二軸向端部。
7.如權(quán)利要求1所述的分配組件(22)，其中所述凹部(55)從所述環(huán)形支抵表面(51)的第一軸向端部向著該環(huán)形支抵表面(51)的第二軸向端部延伸，但不到達(dá)該第二軸向端部。
8.如權(quán)利要求1所述的分配組件(22)，其中所述凹部(55)在所述環(huán)形支抵表面(51)的第一軸向端部和該環(huán)形支抵表面(51)的第二軸向端部之間延伸，但不到達(dá)這些端部中的任一個(gè)。
9.如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配組件(22)，其中，所述凹部(55)具有在軸向上寬度變化的縱向整體形狀，該寬度變化例如是寬度向著所述密封肩部(47)增大。
10.如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配組件(22)，其包括將所述分配組件(22)裝配在所述容器(26)中的裝配環(huán)(44)，該裝配環(huán)(44)在徑向上由外表面和內(nèi)表面限定，所述外表面構(gòu)成用于限定與所述頸部(24)的收窄部位(54)接觸的所述環(huán)形接觸區(qū)域(52)的所述環(huán)形支抵表面(51)，所述內(nèi)表面限定用于容置構(gòu)成劑量閥門(28)的裝置的容置位置。
11.如權(quán)利要求10所述的分配組件(22)，其中所述密封肩部(47)由環(huán)形密封墊圈(46)構(gòu)成，所述裝配環(huán)(44)具有整體形狀呈U形的截面并且包括徑向內(nèi)翼部(48)和徑向外翼部(50)，所述徑向內(nèi)翼部(48)限定所述內(nèi)表面，所述徑向外翼部(50)限定所述外表面并具有與所述密封墊圈(46)密封接觸的自由端部。
12.如權(quán)利要求10所述的分配組件(22)，其中所述裝配環(huán)(44)的外翼部(50)的自由端部具有環(huán)形插入延伸部(50P)，該環(huán)形插入延伸部(50P)具有有利于其插入所述密封墊圈(46)中的輪廓。
13.如權(quán)利要求11或12所述的分配組件(22)，其中，所述外翼部(50)的厚度大致恒定，因而布置在所述支抵表面(51)中的所述凹部(55)同時(shí)對應(yīng)于所述外翼部(50)的外表面中的凹陷和該外翼部(50)的內(nèi)表面中的凸起。
14.如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配組件(22)，其中所述環(huán)形支抵表面(51)大致呈截錐形，以隨著接近所述密封肩部(47)而擴(kuò)大。
15.如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配組件(22)，其中所述環(huán)形支抵表面(51)包括多個(gè)圍繞該環(huán)形支抵表面(51)的軸線規(guī)則地分布的凹部(55)。
16.一種形成氣霧劑的流體(23)的分配裝置(20)，所述分配裝置包括形成氣霧劑的流體(23)的分配組件(22)，所述分配組件被安裝在包含所述流體(23)的容器(26)的頸部(24)中，其特征在于，所述分配組件(22)如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述。