沿著縱坐標的徑向偏心的量值。徑向偏心波形500包含徑向局部峰值502 ο根據(jù)本發(fā)明的方面的徑向偏心的局部峰值502的清除用徑向偏心波形500的部分504替代局部峰值502。
[0073]圖11描繪在清除徑向偏心的局部峰值502前后的第一輪胎的諧波分布。圖11繪制沿著橫坐標的諧波數(shù)以及沿著縱坐標的徑向偏心的量值。曲線510表示在清除局部峰值502之前徑向偏心的諧波分布。曲線512表示在清除局部峰值502之后徑向偏心的諧波分布。根據(jù)本發(fā)明的方面的局部峰值502的清除實現(xiàn)跨越徑向偏心的多個諧波(特定較高諧波)的減少。在清除局部峰值502之前諧波I至32的平均振幅是192μπι，而在清除局部峰值502之后諧波I至32的平均振幅是57μπι。
[0074]圖12描繪第二輪胎的模擬徑向偏心波形520。圖12繪制沿著橫坐標的方位角以及沿著縱坐標的徑向偏心的量值。徑向偏心波形520包含徑向局部峰值522。根據(jù)本發(fā)明的方面的徑向偏心的局部峰值522的清除用徑向偏心波形520的部分524替代局部峰值522。
[0075]圖13描繪在清除徑向偏心的局部峰值522前后的第二輪胎的諧波分布。圖13繪制沿著橫坐標的諧波數(shù)以及沿著縱坐標的徑向偏心的量值。曲線530表示在清除局部峰值522之前徑向偏心的諧波分布。曲線532表示在清除局部峰值522之后徑向偏心的諧波分布。根據(jù)本發(fā)明的方面的局部峰值522的清除實現(xiàn)跨越徑向偏心的多個諧波(特定較高諧波)的減小。在清除局部峰值522之前諧波I至32的平均振幅是93μπι，而在清除局部峰值522之后諧波I至32的平均振幅是61μπι。
[0076]圖14描繪第三輪胎的模擬徑向偏心波形540。圖14繪制沿著橫坐標的方位角以及沿著縱坐標的徑向偏心的量值。徑向偏心波形540包含徑向局部峰值542。根據(jù)本發(fā)明的方面的徑向偏心的局部峰值542的清除用徑向偏心波形540的部分544替代局部峰值542。
[0077]圖15描繪在清除徑向偏心的局部峰值542前后的第三輪胎的諧波分布。圖15繪制沿著橫坐標的諧波數(shù)以及沿著縱坐標的徑向偏心的量值。曲線550表示在清除局部峰值542之前徑向偏心的諧波分布。曲線552表示在清除局部峰值542之后徑向偏心的諧波分布。根據(jù)本發(fā)明的方面的局部峰值542的清除實現(xiàn)跨越徑向偏心的多個諧波(特定較高諧波)的減小。在清除局部峰值542之前諧波I至32的平均振幅是153μπι，而在清除局部峰值542之后諧波I至32的平均振幅是63μπι。
[0078]圖16描繪第四輪胎的模擬徑向偏心波形560。圖16繪制沿著橫坐標的方位角以及沿著縱坐標的徑向偏心的量值。徑向偏心波形560包含徑向局部峰值562。根據(jù)本發(fā)明的方面的徑向偏心的局部峰值562的清除用徑向偏心波形560的部分564替代局部峰值562。
[0079]圖17描繪在清除徑向偏心的局部峰值562前后的第四輪胎的諧波分布。圖17繪制沿著橫坐標的諧波數(shù)以及沿著縱坐標的徑向偏心的量值。曲線570表示在清除局部峰值562之前徑向偏心的諧波分布。曲線572表示在清除局部峰值562之后徑向偏心的諧波分布。根據(jù)本發(fā)明的方面的局部峰值562的清除實現(xiàn)跨越徑向偏心的多個諧波(特定較高諧波)的減小。在清除局部峰值562之前諧波I至32的平均振幅是187μπι，而在清除局部峰值562之后諧波I至32的平均振幅是88μπι。
[0080]如圖10至17所展示，校正由輪胎表面異常引起的徑向偏心的局部峰值可以改進跨越多個諧波的徑向偏心。在較高諧波(例如，大于1的諧波)處的徑向偏心的減小可以引起輪胎的空腔噪聲減小。
[0081]盡管已關于本發(fā)明的具體示例性實施例和其方法詳細地描述本發(fā)明，但是應了解，在獲得對前述內容的理解之后所屬領域的技術人員可以容易地產(chǎn)生對此類實施例的改變、變體及等效物。因此，本發(fā)明的范圍是作為舉例而非作為限制，并且本發(fā)明并不排除包含所屬領域的技術人員使用本文所揭示的教示將容易明白的對本發(fā)明的此類修改、變化和/或添加。
【主權項】
1.一種用于改進輪胎的均勻性的方法，其包括: 識別具有用于均勻性校正的胎面的輪胎； 識別所述輪胎的所述胎面上的至少一個局部輪胎表面異常； 通過一個或多個計算裝置確定所述局部輪胎表面異常的至少一個可識別特征； 通過所述一個或多個計算裝置確定材料清除圖案以至少部分地基于所述局部輪胎表面異常的所述至少一個可識別特征校正所述局部輪胎表面異常，所述材料清除圖案指定用于在與所述局部輪胎表面異常相關聯(lián)的一個或多個方位角位置處從所述輪胎的所述胎面清除材料的材料清除深度；以及 根據(jù)所述材料清除圖案從所述輪胎的所述胎面清除輪胎材料。2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中所述輪胎表面異常是可歸因于胎面接頭的徑向偏心的局部峰值。3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中所述局部輪胎表面異常的所述至少一個可識別特征包括所述局部輪胎表面異常的位置、所述局部輪胎表面異常的形狀或所述局部輪胎表面異常的大小中的一個或多個。4.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中至少部分地基于所述局部輪胎表面異常的所述至少一個可識別特征確定所述材料清除深度。5.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中至少部分地基于圍繞所述輪胎的所述胎面的多個徑向偏心測量通過所述一個或多個計算裝置確定所述局部輪胎表面異常的所述至少一個可識別特征。6.根據(jù)權利要求5所述的方法，其中針對圍繞所述胎面的所述表面的中心跡線獲得所述徑向偏心測量。7.根據(jù)權利要求5所述的方法，其中針對圍繞所述胎面的所述表面的多條跡線獲得所述徑向偏心測量。8.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中至少部分地基于所述輪胎的所述胎面的踏面映射通過所述一個或多個計算裝置確定所述接頭的所述至少一個可識別特征。9.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中至少部分地基于與所述輪胎相關聯(lián)的制造數(shù)據(jù)通過所述一個或多個計算裝置確定所述接頭的所述至少一個可識別特征。10.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中通過所述一個或多個計算裝置確定所述局部輪胎表面異常的至少一個可識別特征包括: 確定所述局部輪胎表面異常在所述輪胎的所述胎面中的大致位置；以及 使用掃描探針在所述局部輪胎表面異常的所述大致位置處掃描所述輪胎的所述胎面以識別所述局部輪胎表面異常的所述至少一個可識別特征。11.根據(jù)權利要求10所述的方法，其中至少部分地基于多個徑向偏心測量、踏面映射或與所述輪胎相關聯(lián)的制造數(shù)據(jù)中的一個或多個確定所述局部輪胎表面異常在所述輪胎的所述胎面上的所述大致位置。12.根據(jù)權利要求10所述的方法，其中所述掃描探針包括激光探針、光探針、聲波探針或相機探針。13.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中通過所述一個或多個計算裝置確定材料清除圖案以至少部分地基于所述局部輪胎表面異常的所述至少一個可識別特征校正所述局部輪胎表面異常包括: 通過所述一個或多個計算裝置確定所述輪胎的所述胎面中的一個或多個凹槽的位置；以及 至少部分地基于所述一個或多個凹槽的所述位置確定所述材料清除圖案。14.一種用于改進輪胎的均勻性的均勻性校正系統(tǒng)，所述均勻性校正系統(tǒng)包括: 輪胎夾具，其經(jīng)配置以接納輪胎以供選擇性旋轉； 均勻性測量裝置，其經(jīng)配置以在圍繞所述輪胎的胎面的多個不同方位角位置處獲得多個徑向偏心測量； 切除裝置，其經(jīng)配置以從所述輪胎的所述胎面中清除輪胎材料；以及 控制系統(tǒng)，其耦合到所述切除裝置和所述輪胎夾具，所述控制系統(tǒng)經(jīng)配置以從所述多個徑向偏心測量中識別徑向偏心的局部峰值，所述控制系統(tǒng)進一步經(jīng)配置以至少部分地基于徑向偏心的所述局部峰值確定材料清除圖案，所述材料清除圖案指定用于從所述輪胎的所述胎面清除材料以校正徑向偏心的所述局部峰值的材料清除深度，所述控制系統(tǒng)進一步經(jīng)配置以控制所述輪胎夾具和所述切除裝置以根據(jù)所述材料清除圖案從所述輪胎的所述胎面清除輪胎材料。
【專利摘要】本發(fā)明提供用于改進輪胎均勻性例如以減小由局部輪胎表面異常引起的空腔噪聲和其它影響的系統(tǒng)和方法。所述局部輪胎表面異?？梢泽w現(xiàn)為所述輪胎的徑向偏心的局部峰值或其它均勻性參數(shù)(例如，徑向力變化)。徑向偏心的所述局部峰值可以處于徑向偏心的均勻性公差內，但是仍可以通過由所述局部峰值引起的高諧波效果促進空腔噪聲。根據(jù)本發(fā)明的方面，可以識別局部輪胎表面異常的位置和/或其它可識別特征。切除裝置可以在所述輪胎的胎面上用于在與所述局部輪胎表面異常相關聯(lián)的方位角位置處清除輪胎材料以改進所述輪胎的所述均勻性。
【IPC分類】G01M1/34, B29D30/06
【公開號】CN105705321
【申請?zhí)枴緾N201480059241
【發(fā)明人】D·D·弗雷利科
【申請人】米其林集團總公司, 米其林研究和技術股份有限公司
【公開日】2016年6月22日
【申請日】2014年9月11日
【公告號】WO2015047734A1