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      一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置的制作方法

      文檔序號(hào):40268504發(fā)布日期:2024-12-11 13:02閱讀:12來源:國(guó)知局
      一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置的制作方法

      本技術(shù)涉及煤礦超低濃瓦斯回收利用,特別涉及一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置。


      背景技術(shù):

      1、在現(xiàn)代的煤礦工業(yè)生產(chǎn)過程中,濃度30%以上的濃度稱為高濃度瓦斯,大部分都被直接利用,濃度3%~30%的稱為低濃度瓦斯,直接利用比較困難。國(guó)內(nèi)低濃度瓦斯發(fā)電技術(shù)成熟后,對(duì)于濃度為9%~30%的大都采用內(nèi)燃機(jī)瓦斯發(fā)電技術(shù)進(jìn)行發(fā)電;對(duì)于0.75%以下的礦井風(fēng)排瓦斯(又稱“乏風(fēng)”),這些濃度較低的瓦斯長(zhǎng)期以來無法利用,全部排入大氣中;然而,礦井風(fēng)排瓦斯雖然濃度較低,但總量特別巨大,所含的甲烷約占煤礦瓦斯甲烷總量的81%,如此巨大的甲烷排放量不僅意味著巨大的溫室氣體污染,而且蘊(yùn)含著巨大的潛在能源。

      2、現(xiàn)階段,對(duì)于濃度小于0.75%的礦井風(fēng)排瓦斯一般是采用瓦斯蓄熱氧化技術(shù)對(duì)瓦斯進(jìn)行氧化并回收利用,在取得較好的經(jīng)濟(jì)效益的同時(shí)來滿足環(huán)保和節(jié)能減排的要求。瓦斯蓄熱氧化裝置的工作原理是:把低濃瓦斯氣體加熱到800℃-950℃,使低濃瓦斯氣體中的ch4氧化分解成二氧化碳和水。氧化產(chǎn)生的高溫氣體一部分經(jīng)氧化室頂部的高溫?zé)煹懒飨蛴酂崂迷O(shè)備,另一部分流向陶瓷蓄熱體,使陶瓷蓄熱體升溫蓄熱,蓄熱狀態(tài)的蓄熱室用于后續(xù)進(jìn)來的低濃瓦斯氣。蓄熱室可分成兩室或多室,每個(gè)蓄熱室依次經(jīng)歷蓄熱、放熱等程序,如此周而復(fù)始,實(shí)現(xiàn)自維持運(yùn)行,連續(xù)工作。

      3、現(xiàn)有技術(shù)的瓦斯蓄熱氧化裝置大多采用側(cè)方進(jìn)氣、單個(gè)腔體的布置的方式且內(nèi)部未設(shè)置氣流分布層,該種形式的氧化裝置容易存在陶瓷溫度場(chǎng)分布不均勻、陶瓷高溫區(qū)下移、爐箅子直接接觸高溫陶瓷而造成使用壽命短、氧化裝置低溫排氣溫度高、有效產(chǎn)熱效率低、蓄熱體使用壽命短等問題,從而影響其瓦斯蓄熱氧化裝置的穩(wěn)定性和可靠性。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本實(shí)用新型的目的就是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷,提供一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置,解決了現(xiàn)有的瓦斯蓄熱氧化裝置由于進(jìn)氣方式不合理產(chǎn)生渦流,從而導(dǎo)致氧化室溫度場(chǎng)廠區(qū)存在高溫不均勻的問題。

      2、本實(shí)用新型提到的一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置,其技術(shù)方案是:包括左進(jìn)氣室(1)、右進(jìn)氣室(2)、左蓄熱室(3)、右蓄熱室(4)、氧化室(5)、第一連接通道(6)、高溫?zé)煹莱隹冢?)、第二連接通道(8)、燃燒器(9)、離心風(fēng)機(jī)裝置(10)、離心風(fēng)機(jī)裝置出口軟連接(11)、離心風(fēng)機(jī)后連接通道(12)、氣動(dòng)流量調(diào)節(jié)閥(13)、低溫排氣煙囪(14),所述左進(jìn)氣室(1)的外側(cè)通過離心風(fēng)機(jī)后連接通道(12)和離心風(fēng)機(jī)裝置出口軟連接(11)安裝離心風(fēng)機(jī)裝置(10),在右進(jìn)氣室(2)的外側(cè)通過氣動(dòng)流量調(diào)節(jié)閥(13)連接低溫排氣煙囪(14),所述的左進(jìn)氣室(1)和右進(jìn)氣室(2)通過第一連接通道(6)和第二連接通道(8)連通,所述的左進(jìn)氣室(1)和右進(jìn)氣室(2)內(nèi)腔通過折彎板分成多個(gè)獨(dú)立的腔體;所述左進(jìn)氣室(1)的上部安裝左蓄熱室(3),所述右進(jìn)氣室(2)的上部安裝右蓄熱室(4);所述的左蓄熱室(3)、右蓄熱室(4)的上部安裝氧化室(5),所述氧化室(5)的外側(cè)安裝燃燒器(9),氧化室(5)的頂部設(shè)有高溫?zé)煹莱隹冢?)。

      3、優(yōu)選的,上述的左進(jìn)氣室(1)上設(shè)有瓦斯進(jìn)氣口(101)、第一檢修人孔(102)、第一切換閥組(103)、第二切換閥組(104)、第一檢查孔(105)、第二檢查孔(106),且瓦斯進(jìn)氣口(101)、第一檢修人孔(102)位于左進(jìn)氣室(1)的外端,第一切換閥組(103)和第二切換閥組(104)位于左進(jìn)氣室(1)的內(nèi)部,第一檢查孔(105)和第二檢查孔(106)分別位于左進(jìn)氣室(1)的兩側(cè),在瓦斯進(jìn)氣口(101)的外側(cè)安裝離心風(fēng)機(jī)后連接通道(12);所述左進(jìn)氣室(1)內(nèi)設(shè)有第一導(dǎo)流格柵(107)、第一鋼板拖網(wǎng)(108)、第一馬鞍陶瓷(109),且第一導(dǎo)流格柵(107)與第一馬鞍陶瓷(109)之間設(shè)有第一鋼板拖網(wǎng)(108)。

      4、優(yōu)選的,上述右進(jìn)氣室(2)上設(shè)有低溫?zé)煔獬鰵饪冢?01)、第二檢修人孔(202)、第三切換閥組(203)、第四切換閥組(204)、第三檢查孔(205)、第四檢查孔(206),且低溫?zé)煔獬鰵饪冢?01)、第二檢修人孔(202)位于右進(jìn)氣室(2)的外端,第三切換閥組(203)和第四切換閥組(204)位于右進(jìn)氣室(2)的內(nèi)部,第三檢查孔(205)、第四檢查孔(206)分別位于右進(jìn)氣室(2)的兩側(cè),在低溫?zé)煔獬鰵饪冢?01)的外側(cè)安裝氣動(dòng)流量調(diào)節(jié)閥(13);所述右進(jìn)氣室(2)內(nèi)安裝第二導(dǎo)流格柵(207)、第二鋼板拖網(wǎng)(208)、第二馬鞍陶瓷(209),第二導(dǎo)流格柵(207)與第二馬鞍陶瓷(209)之間設(shè)有第二鋼板拖網(wǎng)(208)。

      5、優(yōu)選的,上述左蓄熱室(3)包括第一爐箅子(301)、第三鋼板脫網(wǎng)(302)、第一蓄熱陶瓷體(303)、第一陶瓷球(304),第一爐箅子(301)上方設(shè)有第三鋼板脫網(wǎng)(302),第三鋼板脫網(wǎng)(302)上布置有第一蓄熱陶瓷體(303),且所述第一爐箅子(301)和第三鋼板脫網(wǎng)(302)用于支撐蓄熱陶瓷體,在第一蓄熱陶瓷體(303)的上部鋪設(shè)一層以上的第一陶瓷球(304)。

      6、優(yōu)選的,上述右蓄熱室(4)包括第二爐箅子(401)、第四鋼板脫網(wǎng)(402)、第二蓄熱陶瓷體(403)、第二陶瓷球(404),第二爐箅子(401)上方設(shè)有第四鋼板脫網(wǎng)(402),第四鋼板脫網(wǎng)(402)上布置有第二蓄熱陶瓷體(403),第二蓄熱陶瓷體(403)的上層設(shè)有一層以上的第二陶瓷球(404)。

      7、優(yōu)選的,上述氧化室(5)的外壁上設(shè)有第三檢修人孔(501)和第四檢修人孔(502)。

      8、優(yōu)選的,上述第一切換閥組(103)和第二切換閥組(104)沿左進(jìn)氣室(1)水平中線對(duì)稱布置,第三切換閥組(203)和第四切換閥組(204)沿右進(jìn)氣室(2)水平中線對(duì)稱布置,所述第一切換閥組(103)和第二切換閥組(104)、第三切換閥組(203)和第四切換閥組(204)沿水平方向工作,且驅(qū)動(dòng)動(dòng)力為氣缸。

      9、優(yōu)選的,上述左進(jìn)氣室(1)內(nèi)被折彎板分成三個(gè)獨(dú)立腔體,分別為第一腔體(a1)、第二腔體(a2)和第三腔體(a3),且第一腔體(a1)、第二腔體(a2)和第三腔體(a3)之間留有圓形進(jìn)氣口;所述右進(jìn)氣室(2)被折彎板分成三個(gè)獨(dú)立腔體,分別為第四腔體(a4)、第五腔體(a5)和第六腔體(a6),且第四腔體(a4)、第五腔體(a5)和第六腔體(a6)之間留有圓形進(jìn)氣口。

      10、優(yōu)選的,上述第一導(dǎo)流格柵(107)、第一鋼板拖網(wǎng)(108)、第一馬鞍陶瓷(109)固定于第二腔體之上;第二導(dǎo)流格柵(207)、第二鋼板拖網(wǎng)(208)、第二馬鞍陶瓷(209)固定于第五腔體之上,且作為單獨(dú)氣流層的分布。

      11、優(yōu)選的,上述的左蓄熱室(3)、右蓄熱室(4)、氧化室(5)和高溫?zé)煹莱隹冢?)的內(nèi)壁設(shè)置有內(nèi)保溫層。

      12、本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型通過進(jìn)氣室的底部進(jìn)氣的設(shè)計(jì)和多種切換閥組間的不斷切換,并設(shè)置單獨(dú)氣流層的分布,用于氣體進(jìn)行導(dǎo)流,可以促使進(jìn)氣分布更加均勻并且,在蓄熱陶瓷體的上部鋪設(shè)一層以上的陶瓷球,陶瓷球的直徑大于蓄熱陶瓷體的孔的內(nèi)徑,可以使出氣更均勻,能夠?qū)崿F(xiàn)氧化室溫度均衡的問題,從而保證種底部氣式的瓦斯氧化裝置性能的穩(wěn)定性及安全性,解決了現(xiàn)有的瓦斯蓄熱氧化裝置由于進(jìn)氣方式不合理產(chǎn)生渦流,從而導(dǎo)致氧化室溫度場(chǎng)廠區(qū)存在高溫不均勻的問題。

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