1.一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置，其特征是：包括左進(jìn)氣室（1）、右進(jìn)氣室（2）、左蓄熱室（3）、右蓄熱室（4）、氧化室（5）、第一連接通道（6）、高溫?zé)煹莱隹冢?）、第二連接通道（8）、燃燒器（9）、離心風(fēng)機(jī)裝置（10）、離心風(fēng)機(jī)裝置出口軟連接（11）、離心風(fēng)機(jī)后連接通道（12）、氣動(dòng)流量調(diào)節(jié)閥（13）、低溫排氣煙囪（14），所述左進(jìn)氣室（1）的外側(cè)通過(guò)離心風(fēng)機(jī)后連接通道（12）和離心風(fēng)機(jī)裝置出口軟連接（11）安裝離心風(fēng)機(jī)裝置（10），在右進(jìn)氣室（2）的外側(cè)通過(guò)氣動(dòng)流量調(diào)節(jié)閥（13）連接低溫排氣煙囪（14），所述的左進(jìn)氣室（1）和右進(jìn)氣室（2）通過(guò)第一連接通道（6）和第二連接通道（8）連通，所述的左進(jìn)氣室（1）和右進(jìn)氣室（2）內(nèi)腔通過(guò)折彎板分成多個(gè)獨(dú)立的腔體；所述左進(jìn)氣室（1）的上部安裝左蓄熱室（3），所述右進(jìn)氣室（2）的上部安裝右蓄熱室（4）；所述的左蓄熱室（3）、右蓄熱室（4）的上部安裝氧化室（5），所述氧化室（5）的外側(cè)安裝燃燒器（9），氧化室（5）的頂部設(shè)有高溫?zé)煹莱隹冢?）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置，其特征是：所述的左進(jìn)氣室（1）上設(shè)有瓦斯進(jìn)氣口（101）、第一檢修人孔（102）、第一切換閥組（103）、第二切換閥組（104）、第一檢查孔（105）、第二檢查孔（106），且瓦斯進(jìn)氣口（101）、第一檢修人孔（102）位于左進(jìn)氣室（1）的外端，第一切換閥組（103）和第二切換閥組（104）位于左進(jìn)氣室（1）的內(nèi)部，第一檢查孔（105）和第二檢查孔（106）分別位于左進(jìn)氣室（1）的兩側(cè)，在瓦斯進(jìn)氣口（101）的外側(cè)安裝離心風(fēng)機(jī)后連接通道（12）；所述左進(jìn)氣室（1）內(nèi)設(shè)有第一導(dǎo)流格柵（107）、第一鋼板拖網(wǎng)（108）、第一馬鞍陶瓷（109），且第一導(dǎo)流格柵（107）與第一馬鞍陶瓷（109）之間設(shè)有第一鋼板拖網(wǎng)（108）。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置，其特征是：所述右進(jìn)氣室（2）上設(shè)有低溫?zé)煔獬鰵饪冢?01）、第二檢修人孔（202）、第三切換閥組（203）、第四切換閥組（204）、第三檢查孔（205）、第四檢查孔（206），且低溫?zé)煔獬鰵饪冢?01）、第二檢修人孔（202）位于右進(jìn)氣室（2）的外端，第三切換閥組（203）和第四切換閥組（204）位于右進(jìn)氣室（2）的內(nèi)部，第三檢查孔（205）、第四檢查孔（206）分別位于右進(jìn)氣室（2）的兩側(cè)，在低溫?zé)煔獬鰵饪冢?01）的外側(cè)安裝氣動(dòng)流量調(diào)節(jié)閥（13）；所述右進(jìn)氣室（2）內(nèi)安裝第二導(dǎo)流格柵（207）、第二鋼板拖網(wǎng)（208）、第二馬鞍陶瓷（209），第二導(dǎo)流格柵（207）與第二馬鞍陶瓷（209）之間設(shè)有第二鋼板拖網(wǎng)（208）。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置，其特征是：所述左蓄熱室（3）包括第一爐箅子（301）、第三鋼板脫網(wǎng)（302）、第一蓄熱陶瓷體（303）、第一陶瓷球（304），第一爐箅子（301）上方設(shè)有第三鋼板脫網(wǎng)（302），第三鋼板脫網(wǎng)（302）上布置有第一蓄熱陶瓷體（303），且所述第一爐箅子（301）和第三鋼板脫網(wǎng)（302）用于支撐蓄熱陶瓷體，在第一蓄熱陶瓷體（303）的上部鋪設(shè)一層以上的第一陶瓷球（304）。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置，其特征是：所述右蓄熱室（4）包括第二爐箅子（401）、第四鋼板脫網(wǎng)（402）、第二蓄熱陶瓷體（403）、第二陶瓷球（404），第二爐箅子（401）上方設(shè)有第四鋼板脫網(wǎng)（402），第四鋼板脫網(wǎng)（402）上布置有第二蓄熱陶瓷體（403），第二蓄熱陶瓷體（403）的上層設(shè)有一層以上的第二陶瓷球（404）。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置，其特征是：所述氧化室（5）的外壁上設(shè)有第三檢修人孔（501）和第四檢修人孔（502）。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置，其特征是：所述第一切換閥組（103）和第二切換閥組（104）沿左進(jìn)氣室（1）水平中線對(duì)稱布置，第三切換閥組（203）和第四切換閥組（204）沿右進(jìn)氣室（2）水平中線對(duì)稱布置，所述第一切換閥組（103）和第二切換閥組（104）、第三切換閥組（203）和第四切換閥組（204）沿水平方向工作，且驅(qū)動(dòng)動(dòng)力為氣缸。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置，其特征是：所述左進(jìn)氣室（1）內(nèi)被折彎板分成三個(gè)獨(dú)立腔體，分別為第一腔體（a1）、第二腔體（a2）和第三腔體（a3），且第一腔體（a1）、第二腔體（a2）和第三腔體（a3）之間留有圓形進(jìn)氣口；所述右進(jìn)氣室（2）被折彎板分成三個(gè)獨(dú)立腔體，分別為第四腔體（a4）、第五腔體（a5）和第六腔體（a6），且第四腔體（a4）、第五腔體（a5）和第六腔體（a6）之間留有圓形進(jìn)氣口。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置，其特征是：所述第一導(dǎo)流格柵（107）、第一鋼板拖網(wǎng)（108）、第一馬鞍陶瓷（109）固定于第二腔體之上；第二導(dǎo)流格柵（207）、第二鋼板拖網(wǎng)（208）、第二馬鞍陶瓷（209）固定于第五腔體之上，且作為單獨(dú)氣流層的分布。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種底部進(jìn)氣式瓦斯氧化裝置，其特征是：所述的左蓄熱室（3）、右蓄熱室（4）、氧化室（5）和高溫?zé)煹莱隹冢?）的內(nèi)壁設(shè)置有內(nèi)保溫層（15）。