噴涂設備及其用圖
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種噴涂設備及其用途，尤其是涉及一種在釹鐵硼永磁體高溫滲鏑滲鋱前對磁體進行重稀土氟化物涂敷的自清洗連續(xù)噴涂設備及其用途。
【背景技術】
[0002]表層滲鏑滲鋱技術是高性能釹鐵硼稀土永磁體燒結成坯塊后表層處理的新技術。對磁體表層2-3毫米深度范圍的滲鏑滲鋱?zhí)幚?，可顯著提高磁體的耐溫性和矯頑力，在高性能釹鐵硼稀土永磁制造領域得到了初步應用。
[0003]在表層滲鏑滲鋱前必須先將氟化鏑、氟化鋱均勻涂敷在磁體表面。涂敷層的厚度和均勻度都會影響后續(xù)的滲鏑滲鋱質(zhì)量。涂敷層太薄會導致滲鏑滲鋱后的滲透層深度不夠；涂敷層太厚會導致原料浪費；涂敷層厚度不均勻會導致滲透后的磁體各個區(qū)域性能高低不一。
[0004]對磁體進行真空高溫滲透時，需要涂敷物與磁體有較好的附著力。浸泡法是目前通常采用的一種涂覆磁體的方法。例如，CN101845637A公開了一種燒結釹鐵硼磁體合金改性的加工工藝:將適當重量的重稀土氧化物或氟化物的粉末溶于濃度適當?shù)乃崛軇﹥?nèi)，將磁體浸泡其中適當時間后，取出烘干，磁體表面即覆蓋重稀土粉末薄層，將此磁體置于氬氣爐內(nèi)先后進行熱擴散處理，然后進行退火處理。又如，CN102181820A公開了一種提高釹鐵硼磁體材料矯頑力的方法:a、首先配置稀土氟化物粉末與無水酒精的混合液；b、然后通過浸泡將上述混合液涂覆在釹鐵硼材料的表面；c、接著將表面涂覆有混合液的釹鐵硼材料放置于真空加熱爐中做滲透處理；d、最后做回火處理。再如，CN104388952A公開了一種加速燒結釹鐵硼磁體表面Dy/Tb附著層擴滲的方法:先對釹鐵硼磁體表面進行清潔處理，通過浸泡法在潔凈的釹鐵硼磁體表面附著上Dy/Tb元素，然后對其進行高壓熱處理，使Dy/Tb元素在磁體晶界快速擴滲，再經(jīng)過中溫熱處理使磁體邊界結構得到進一步改善，最終得到高矯頑力釹鐵硼磁體。
[0005]電鍍法是目前通常采用的另一種涂覆磁體的方法。例如，CN103839670A公開了一種提高燒結釹鐵硼永磁體矯頑力的磁體制備方法:a)、采用真空速凝技術制備釹鐵硼合金磁性材料毛坯；b)、將上述毛坯依次進行倒角-清洗處理-水洗-表面改性-水洗處理；c)、將處理好永磁體置于進行鎳/重稀土復合鍍層的電鍍；d)、將燒結釹鐵硼磁性材料置于真空熱處理爐內(nèi)進行熱處理。
[0006]手工霧化噴涂法是目前通常采用的另一種涂覆磁體的方法。例如，CN104134528A公開了一種提高燒結釹鐵硼薄片磁體磁性能的方法:首先在燒結釹鐵硼薄片磁體表面均勻噴涂含有重稀土元素且常溫常壓條件下粘度為0.1?500mpa.s的懸濁液，且含有重稀土元素的懸濁液，然后進行烘干處理，在燒結釹鐵硼薄片磁體表面獲得含重稀土元素的涂層，再在惰性氣體環(huán)境下對烘干后的燒結釹鐵硼薄片磁體進行擴散處理和時效處理。
[0007]上述方法都存在以下幾個弊端:(I)涂敷層不均勻；(2)工作效率低；(3)氟化鏑、氟化鋱粉末浪費嚴重。因此，迫切需要一種噴涂設備，其可以均勻涂覆且節(jié)約噴涂原料。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]為了克服現(xiàn)有技術的不足，本申請的發(fā)明人進行了深入研究。
[0009]本發(fā)明的一個目的在于提供一種噴涂設備，其可以均勻涂覆且節(jié)約噴涂原料。
[0010]本發(fā)明的另一個目的在于提供上述噴涂設備的用途，其用于磁體表面處理。
[0011]本發(fā)明提供一種噴涂設備，其包括:
[0012]傳送裝置，所述傳送裝置包括用于攜帶待噴涂物體的網(wǎng)狀履帶；
[0013]烘烤室，所述烘烤室用于加熱所述待噴涂物體；
[0014]噴涂室，所述噴涂室的內(nèi)部設置有至少一個霧化噴嘴，所述的霧化噴嘴用于將涂敷溶液均勻地噴涂在所述待噴涂物體的表面；
[0015]清洗室，所述清洗室用于清洗網(wǎng)狀履帶并回收網(wǎng)狀履帶攜帶的涂敷溶液；和
[0016]溶液存儲裝置，所述溶液存儲裝置用于存放所述噴涂室進行噴涂所需的涂敷溶液；
[0017]其中，所述的網(wǎng)狀履帶依次穿過烘烤室、噴涂室和清洗室。
[0018]根據(jù)本發(fā)明所述的噴涂設備，優(yōu)選地，所述噴涂室的內(nèi)部設置有至少四個霧化噴嘴，用于對所述待噴涂物體的全部表面進行噴涂。
[0019]根據(jù)本發(fā)明所述的噴涂設備，優(yōu)選地，所述噴涂室還包括噴涂室殼體、空心軸、排風口和清洗排放口 ；所述的空心軸可自由活動地安裝在所述噴涂室殼體上，用于輸送所述涂覆溶液；所述的排風口設置在所述噴涂室殼體的頂部，用于除去未附著于所述待噴涂物體的涂覆溶液；所述清洗排放口設置在所述噴涂室殼體的底部，用于排放清洗所述噴涂室形成的清洗液；
[0020]所述的至少四個霧化噴嘴包括至少兩個旋轉虹吸式霧化噴嘴，用于噴涂所述待噴涂物體的上表面、下表面、前表面和后表面；所述的至少兩個旋轉虹吸式霧化噴嘴安裝在所述空心軸上；所述的至少兩個旋轉虹吸式霧化噴嘴的一部分位于網(wǎng)狀履帶的上方，另一部分位于網(wǎng)狀履帶的下方；所述的至少四個霧化噴嘴還包括至少兩個固定虹吸式霧化噴嘴，分別安裝在所述噴涂室的側壁上，用于噴涂所述待噴涂物體的兩個側面。
[0021]根據(jù)本發(fā)明所述的噴涂設備，優(yōu)選地，所述的至少兩個旋轉虹吸式霧化噴嘴設置為能夠隨著所述空心軸進行360度旋轉、并能夠隨著所述空心軸前后移動；所述的至少兩個旋轉虹吸式霧化噴嘴與所述網(wǎng)狀履帶的行進方向呈30?60度的夾角。
[0022]根據(jù)本發(fā)明所述的噴涂設備，優(yōu)選地，所述網(wǎng)狀履帶由耐腐蝕金屬絲編織成網(wǎng)格，所述網(wǎng)格為正菱形，所述網(wǎng)格的邊長為所述待噴涂物體的底面的最短邊長度的1/6?1/5 ;所述耐腐蝕金屬絲的橫截面為圓形，直徑為0.4?0.6mm ;所述網(wǎng)狀履帶呈凹狀弧形，以保證所述網(wǎng)狀履帶與所述待噴涂物體的底面兩側邊之間的接觸點在12個以下。
[0023]根據(jù)本發(fā)明所述的噴涂設備，優(yōu)選地，所述的噴涂設備還包括抽風機，其設置在所述噴涂室的排風口與所述溶液存儲裝置之間的管線上，用于通過所述排風口將未附著于所述待噴涂物體的涂覆溶液抽入所述溶液存儲裝置。
[0024]根據(jù)本發(fā)明所述的噴涂設備，優(yōu)選地，所述傳送裝置還包括大導輪和小導輪；所述大導輪用于為所述網(wǎng)狀履帶的運動提供動力，所述小導輪設置在所述網(wǎng)狀履帶的下方，用于支撐所述網(wǎng)狀履帶；所述大導輪和小導輪均為兩端直徑大于中心直徑、母線為內(nèi)弧形的不等徑圓柱。
[0025]根據(jù)本發(fā)明所述的噴涂設備，優(yōu)選地，所述清洗室包括清洗室殼體、淋浴式噴嘴和循環(huán)排放口 ；所述淋浴式噴嘴設置在所述清洗室殼體的頂部，用于采用清洗液沖洗所述網(wǎng)狀履帶上殘留的溶液固化物；循環(huán)排放口設置在所述清洗室殼體的底部，用于將清洗液循環(huán)至所述淋浴式噴嘴。
[0026]根據(jù)本發(fā)明所述的噴涂設備，優(yōu)選地，所述烘烤室包括烘烤室殼體、保溫層和加熱板；烘烤室殼體的內(nèi)壁設置有保溫層，所述烘烤室內(nèi)設置有加熱板和溫度傳感器，用于將待噴涂物體加熱至固定溫度。
[0027]本發(fā)明還提供上述噴涂設備的用途，其用于待噴涂物體的表面處理，所述待噴涂物體為磁體。
[0028]本發(fā)明的噴涂設備采用先烘烤后噴涂的方式，噴涂時磁體自身的熱量可以使涂敷溶液迅速固化在磁體表面，防止涂敷溶液在磁體表面流動聚集，提高了噴涂的均勻度，同時涂敷溶液將磁體的溫度降到常溫，省去了冷卻環(huán)節(jié)，提高了工作效率。根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的技術方案，采用多個霧化噴嘴全方位自動噴涂，保證了噴涂時間的一致性和噴涂位的一致性，從而保證了涂敷層厚度的一致性。根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的技術方案，噴涂室對霧化后的涂覆溶液進行回收，清洗室對網(wǎng)狀履帶上的涂敷溶液進行回收，從而節(jié)約了原料。
【附圖說明】
[0029]圖1示出本發(fā)明實施例的噴涂機的示意性剖示圖。
[0030]圖2示出本發(fā)明實施例的噴涂機的噴涂室的仰視示意圖。
[0031]圖3示出本發(fā)明實施例的噴涂機的清洗室的俯視示意圖。
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