中。在殼體2內(nèi)，在進口 3的下游設有離心分離器4,其外邊界由殼體2的柱形內(nèi)壁構(gòu) 成。在殼體2上設有單元5。在此實施方式中，單元5與殼體2呈一體地構(gòu)成。單元5的一 部分經(jīng)殼體2的頂面突入該殼體，確切說是突入設于殼體2內(nèi)的離心分離器4。單元5的突 入殼體2中的部分被構(gòu)造成管13。管13的外壁因此形成離心分離器4的內(nèi)邊界。在管13 的下端設有開口 6。根據(jù)在此所示的實施方式，管13的整個底面是敞開的，即形成開口 6。
[0057] 待清潔物質(zhì)經(jīng)進口 3進入離心分離器4并如圖1所示以環(huán)狀形式向下運動通過心 分離器4。在此情況下，存在于物質(zhì)內(nèi)的材料通過離心力作用被分離，并向殼體2的內(nèi)壁移 動，最終因重力作用而下沉向底部12。底部12可（在此未示出）至少部分地與殼體2分離 以便從殼體2中取出沉淀物。
[0058] 如圖1所示，待清潔物質(zhì)經(jīng)開口 6從離心分離器6被送入管13。如圖1所示，該物 質(zhì)經(jīng)管13向上移動到達設于單元5內(nèi)的過濾芯7。在根據(jù)圖1的實施方式中，過濾芯由該 單元5內(nèi)的具有開口的兩個板9、10和設于所述板9、10之間的過濾介質(zhì)11構(gòu)成，過濾介質(zhì) 11優(yōu)選地是不銹鋼絨。
[0059] 如圖1所示，該物質(zhì)在流過過濾芯7之后經(jīng)設于過濾芯7下游的出口8離開清潔 裝置1。
[0060] 如圖1所示，單元5的管13在殼體2外通向單元5的部段14,過濾芯7位于部段 14內(nèi)并優(yōu)選在部段14側(cè)旁設置出口 8。單元5的部段14在根據(jù)圖1的實施方式中具有呈 可至少部分取下的蓋形式的可關閉開口 15。
[0061] 在根據(jù)圖1的實施方式中，在單元5上設有（未完整示出）用于測量過濾芯7的 壓力損失的裝置。在在此所示的實施方式中，測壓裝置包括在過濾芯7的上游通向單元5 的管16和在過濾芯7的下游通向單元5的管17以及與管16、17相連（未示出）的壓力測 量單元。
[0062] 在進口 3和出口 8處設有（未示出）用于清潔裝置1與設備部件之間的優(yōu)選為密 封地連接的裝置。
[0063] 圖2示出本發(fā)明的壓鑄裝置的實施方式的示意圖。圖2所示的冷室壓鑄裝置包括 水平設置的壓鑄室18,其具有可在壓鑄室18內(nèi)運動的壓鑄活塞20和用于將鑄造材料澆注 入壓鑄室18的澆注口 19。
[0064] 鑄模由兩個半模21、22構(gòu)成，它們在閉合位置共同形成空腔23,該空腔是制造鑄 件的真正型腔?？涨?3通過流道24與清潔裝置1相連通。這種連通可以借助關斷閥25 被斷開。清潔裝置1的出口與真空栗26相連。
[0065] 如果壓鑄活塞20在壓鑄室18內(nèi)朝右移動，則壓鑄活塞20從某個位置起封閉澆注 口 19。壓鑄室18的右側(cè)部分（活塞腔）以及空腔23在閥25關閉情況下與環(huán)境密封隔絕。 當打開閥25且啟動栗26時，位于壓鑄室18的活塞腔以及空腔23內(nèi)的氣體與一部分鑄造 材料一起經(jīng)流道24被吸入清潔裝置1，物質(zhì)在清潔裝置1中以如上所述的方式被清潔。經(jīng) 過清潔的物質(zhì)（在此是氣體）離開清潔裝置1并到達真空栗26。此時可以按照如上所述的 方式執(zhí)行真空壓鑄法。
[0066] 圖3示出本發(fā)明的壓鑄裝置的另一個實施方式的示意圖。根據(jù)圖3的壓鑄裝置大 部分對應于圖2所示的壓鑄裝置。在圖2和圖3中的相同的附圖標記表示相同的零部件。 但在根據(jù)圖3的實施方式中，本發(fā)明的清潔裝置1通過關斷閥27與壓鑄室18直接相連?？?腔23通過關斷閥25和流道24與標準過濾件28相連。清潔裝置1的出口和標準過濾件28 的出口與真空栗26相連。
[0067] 如果壓鑄活塞20在壓鑄室18內(nèi)朝右移動，則壓鑄活塞20從某個位置起封閉該澆 注口 19。壓鑄室18的右側(cè)部分（活塞腔）和空腔23在閥25、27關閉的情況下與環(huán)境密封 隔絕。當打開閥27并且啟動栗26時，位于壓鑄室18的活塞腔內(nèi)的氣體與一部分鑄造材料 一起被吸入清潔裝置1中，物質(zhì)在清潔裝置1以如上所述的方式被清潔。經(jīng)過清潔的物質(zhì) (在此是氣體）離開清潔裝置1并且到達真空栗26。當另外打開閥25時，留在空腔23內(nèi) 的氣體經(jīng)標準過濾件28被吸入真空栗26?，F(xiàn)在，可以按照如上所述的方式執(zhí)行真空壓鑄 法。
【主權項】
1. 一種尤其用于壓鑄裝置的清潔裝置（1)，包括： 具有用于待清潔物質(zhì)的進口（3)的殼體（2); 在該殼體（2)內(nèi)設于該進口（3)下游的離心分離器（4); 設置在該殼體（2)上且突入該離心分離器（4)中的單元（5)，該單元（5)在其下端、優(yōu) 選地在其底面具有至少一個開口（6)，其中，待清潔物質(zhì)能通過所述至少一個開口（6)進入 該單元（5); 設置在該單元（5)內(nèi)的過濾芯（7);以及 設于該過濾芯（7)下游的出口（8)。2. 根據(jù)權利要求1所述的清潔裝置，其特征是，該過濾芯（7)由該單元（5)內(nèi)的具有開 口的兩個板（9, 10)和設于所述板（9, 10)之間的過濾介質(zhì)（11)構(gòu)成，該過濾介質(zhì)（11)優(yōu) 選是不銹鋼絨。3. 根據(jù)權利要求1或2所述的清潔裝置，其特征是，該殼體⑵具有用于取出沉淀物的 可關閉開口，該可關閉開口優(yōu)選呈能至少部分與該殼體分離的底部（12)形式。4. 根據(jù)權利要求1至3之一所述的清潔裝置，其特征是，該單元（5)包括突入該離心分 離器⑷中的管（13)。5. 根據(jù)權利要求4所述的清潔裝置，其特征是，該管（13)在該殼體（2)外通向該單元 (5)的部段（14)，該過濾芯（7)位于該部段（14)內(nèi)且優(yōu)選在該部段（14)側(cè)旁設有該出口6. 根據(jù)權利要求5所述的清潔裝置，其特征是，該單元（5)的部段（14)具有可關閉開 口（15)，該可關閉開口（15)優(yōu)選呈能至少部分取下的蓋形式。7. 根據(jù)權利要求1至6之一所述的清潔裝置，其特征是，在該單元（5)上設有用于測 量該過濾芯（7)上的壓力損失的裝置，該裝置優(yōu)選包括在該過濾芯（7)的上游通向該單元 (5)的管（16)和在該過濾芯（7)下游通向該單元（5)的管（17)和與管（16, 17)相連的壓 力測量單元。8. 根據(jù)權利要求1至7之一所述的清潔裝置，其特征是，在該進口（3)和該出口（4)處 設有用于該清潔裝置（1)與設備部件之間的優(yōu)選為密封連接的裝置。9. 一種鑄件制造裝置且優(yōu)選是壓鑄裝置，包括根據(jù)權利要求1至8之一所述的清潔裝 置⑴。10. 根據(jù)權利要求9所述的裝置，其特征是，該清潔裝置（1)的進口（3)與鑄模（21，22) 的內(nèi)部（23)或壓鑄室（18)的內(nèi)部連通，所述連通優(yōu)選通過流道（24)并利用設于該流道內(nèi) 的關斷裝置尤其是閥（25)實現(xiàn)，或者通過設于該壓鑄室（18)內(nèi)的管路并通過設于該管路 內(nèi)的關斷裝置尤其是閥（27)實現(xiàn)。11. 根據(jù)權利要求9或10所述的裝置，其特征是，該清潔單元（1)的出口（8)與栗（26) 優(yōu)選是真空栗連通。12. 將根據(jù)權利要求1至8之一所述的清潔裝置（1)用于鑄件鑄造裝置且優(yōu)選用于壓 鑄裝置中的用途。13. -種利用根據(jù)權利要求9至11之一所述的裝置且優(yōu)選是壓鑄裝置優(yōu)選由金屬或金 屬合金制造鑄件的方法，包括以下步驟： 使鑄模（21，22)的空腔（23)與環(huán)境密封隔絕； 從該壓鑄室（18)和該鑄模（21，22)的空腔（23)至少部分地排出氣體； 將鑄造材料澆注入該鑄模的空腔（23); 其中，從該壓鑄室（18)和/或該空腔（23)排出的氣體被引導經(jīng)過清潔單元（1)。14. 根據(jù)權利要求13所述的方法，其特征是，使鑄模（21，22)的空腔（23)與環(huán)境密封 隔絕的步驟通過如下方式實現(xiàn)，壓鑄活塞（19)在壓鑄室（18)內(nèi)運動使得該壓鑄室（18)的 澆注口（20)不再與該鑄模（21，22)的空腔（23)流體連通。15. 將根據(jù)權利要求9至11之一所述的裝置優(yōu)選是壓鑄裝置用于優(yōu)選在真空鑄造過程 中優(yōu)選由金屬或金屬合金制造鑄件的用途。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種尤其用于壓鑄裝置的清潔裝置(1)，其包括：具有用于待清潔物質(zhì)的進口(3)的殼體(2)；在該殼體(2)內(nèi)設于該進口(3)下游的離心分離器(4)；設置在該殼體(2)上且突入該離心分離器(4)中的單元(5)，該單元在其下端、優(yōu)選在其底面具有至少一個開口(6)，其中，待清潔物質(zhì)能通過所述至少一個開口(6)進入該單元(5)；設置在該單元(5)內(nèi)的過濾芯(7)；以及設于該過濾芯(7)下游的出口(8)。本發(fā)明還涉及鑄件制造裝置且優(yōu)選為壓鑄裝置，該裝置包括清潔裝置(1)。本發(fā)明還涉及利用真空壓鑄裝置優(yōu)選由金屬或金屬合金制造鑄件的方法。本發(fā)明還涉及清潔單元和壓鑄裝置在該方法中的用途。
【IPC分類】B22C9/06, B01D50/00, B22D17/14
【公開號】CN105408001
【申請?zhí)枴緾N201480042764
【發(fā)明人】C·斯塔爾德
【申請人】布勒股份公司
【公開日】2016年3月16日
【申請日】2014年6月17日
【公告號】EP2832418A1, US20160167128, WO2015014532A1