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      一種適用于上軟下硬地層的地鐵車站暗挖施工工藝的制作方法

      文檔序號:12427427閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      1.一種適用于上軟下硬地層的地鐵車站暗挖施工工藝,其特征是,包括以下步驟:

      步驟1:車站拱部開挖及支護:先開挖兩側(cè)拱肩及拱腳處,再由上至下開挖該部的中部剩余部分,并施作拱部初期支護和拱架;

      步驟2:車站主體開挖:待車站拱部穩(wěn)定后采用三臺階法開挖車站主體部分,每級臺階先開挖兩側(cè)部分,在隧洞側(cè)壁施作加固支護,再開挖該部的中部剩余部分;

      步驟3:二次襯砌施作及支護:車站拱部及主體全部開挖完成后,進行拱部和隧洞的二次襯砌施作;進行拱部二次襯砌施作時與拱架拆卸交替進行,二次襯砌模筑一次性封閉成環(huán)。

      2.如權(quán)利要求1所述的地鐵車站暗挖施工工藝,其特征是,所述步驟1中,車站拱部采用人工機械開挖,不進行爆破或進行弱爆破。

      3.如權(quán)利要求1所述的地鐵車站暗挖施工工藝,其特征是,所述步驟1中,車站拱部開挖過程中,每開挖完一榀對應(yīng)的地層立即施作格柵鋼架,并掛網(wǎng)噴射混凝土進行拱部初期支護,拱部初期支護完成后施作拱架,拱架坐落于預(yù)制好的支座上。

      4.如權(quán)利要求1或3所述的地鐵車站暗挖施工工藝,其特征是,所述步驟1中,在車站拱部每一榀對應(yīng)的地層開挖之前均沿隧洞輪廓線布設(shè)一排超前小導(dǎo)管,當(dāng)圍巖情況較差時可采用超前帷幕注漿、水平旋噴樁方式對圍巖及掌子面進行加固。

      5.如權(quán)利要求1或3所述的地鐵車站暗挖施工工藝,其特征是,所述步驟1中,拱架緊貼拱部初期支護設(shè)置,每兩品榀間距30~70cm。

      6.如權(quán)利要求3所述的地鐵車站暗挖施工工藝,其特征是,所述拱架分三段設(shè)置,三段拱架之間通過法蘭盤連接,拱架與支座通過連接件連接。

      7.如權(quán)利要求1或3或6所述的地鐵車站暗挖施工工藝,其特征是,所述步驟1中,支座沿隧洞軸向連續(xù)設(shè)置,支座由鋼筋混凝土澆筑而成。

      8.如權(quán)利要求7所述的地鐵車站暗挖施工工藝,其特征是,在拱腳開挖完成后由支座處向斜下方施作錨桿,然后進行支座澆筑,錨桿末端與支座內(nèi)鋼筋連接成一體,支座上表面預(yù)制與拱架連接的連接件。

      9.如權(quán)利要求1所述的地鐵車站暗挖施工工藝,其特征是,所述步驟2中,車站主體開挖位置與車站拱部開挖位置間距50~100m,每級臺階間距7~9m。

      10.如權(quán)利要求1所述的地鐵車站暗挖施工工藝,其特征是,所述步驟2中,加固支護的方法為:在隧洞側(cè)壁向斜下方施作錨桿,并對隧洞側(cè)壁進行掛網(wǎng)噴混凝土處理。

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