1.一種晶體硅塊表面研磨及雜質(zhì)檢測(cè)一體化裝置，其特征在于，包括粗磨機(jī)(2)、精磨設(shè)備(3)、清洗干燥裝置、紅外探測(cè)裝置及帶輪機(jī)(11)；
其中，所述帶輪機(jī)(11)設(shè)有傳送履帶，傳送履帶用于放置硅塊(1)；傳送履帶的側(cè)面沿著傳送履帶的運(yùn)行方向依次設(shè)置有粗磨機(jī)(2)、精磨設(shè)備(3)、清洗干燥裝置及紅外探測(cè)裝置；
所述清洗干燥裝置包括清洗機(jī)(4)、烘干機(jī)(5)，相對(duì)設(shè)置在傳送履帶的兩側(cè)；
所述紅外探測(cè)裝置包括兩個(gè)機(jī)械臂(6,7)、紅外光源(8)、紅外攝像頭(9)以及計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)設(shè)備，其中紅外光源(8)、紅外攝像頭(9)相對(duì)設(shè)置在傳送履帶的兩側(cè)，紅外攝像頭(9)通過數(shù)據(jù)線連接到所述計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)設(shè)備上；兩個(gè)機(jī)械臂(6,7)用于夾持住硅塊(1)的兩端，通過伺服電機(jī)控制兩個(gè)機(jī)械臂(6,7)轉(zhuǎn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶體硅塊表面研磨及雜質(zhì)檢測(cè)一體化裝置，其特征在于，所述清洗機(jī)(4)為噴水式清洗機(jī)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶體硅塊表面研磨及雜質(zhì)檢測(cè)一體化裝置，其特征在于，所述烘干機(jī)(5)為吹風(fēng)式烘干機(jī)。