本發(fā)明涉及電磁散射輻射應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種具有箏形橫截面的低RCS金屬支架。

背景技術(shù)：

以下對(duì)本發(fā)明的相關(guān)技術(shù)背景進(jìn)行說(shuō)明，但這些說(shuō)明并不一定構(gòu)成本發(fā)明的現(xiàn)有技術(shù)。

雷達(dá)散射特性測(cè)量過(guò)程中，需將被測(cè)目標(biāo)支撐到一定的高度，使被測(cè)目標(biāo)在空中實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)或者仰俯動(dòng)作，以模仿被測(cè)目標(biāo)在實(shí)際工作中的各種姿態(tài)，并通過(guò)在相應(yīng)的方位進(jìn)行測(cè)試，獲得被測(cè)試目標(biāo)的雷達(dá)散射特性。

現(xiàn)有的支架及支撐技術(shù)包括繩索吊掛、充氣包支架、聚苯乙烯泡沫支架、介質(zhì)桿支架、直立的套有劈柱形外罩的金屬支架等。但隨著目標(biāo)特性、目標(biāo)識(shí)別、隱身技術(shù)的發(fā)展，需要進(jìn)行輻相測(cè)量、低RCS測(cè)量、二維成像測(cè)量，這就要求支架自身RCS很低，且測(cè)試中支架的散射信號(hào)輻相要穩(wěn)定，以對(duì)背景進(jìn)行對(duì)消處理。國(guó)內(nèi)目前采用的支架截面外形大多為雙弧線、對(duì)數(shù)螺旋線等，加工難度大。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提出一種具有箏形橫截面的低RCS金屬支架，既能滿足對(duì)散射金屬支架的低RCS要求，又能降低散射金屬支架的加工難度及制作成本。

本發(fā)明具有箏形橫截面的低RCS金屬支架在高度方向上朝一側(cè)傾斜，其橫截面面積從上而下均勻增加；其中：低RCS金屬支架的橫截面為箏形，箏形關(guān)于低RCS金屬支架的傾斜方向?qū)ΨQ。

優(yōu)選地，箏形的邊長(zhǎng)滿足如下關(guān)系：

式中，A為位于低RCS金屬支架后緣的箏形的邊長(zhǎng)，B為位于低RCS金屬支架前緣的箏形的邊長(zhǎng)，L為低RCS金屬支架底面長(zhǎng)對(duì)角線的長(zhǎng)度，H為箏形所在平面的高度，單位為m；λ₁為后緣角，即位于低RCS金屬支架后緣的箏形的兩條邊之間的夾角，λ₂為前緣角，即位于低RCS金屬支架前緣的箏形的兩條邊之間的夾角，單位為°；α為低RCS金屬支架的前緣與水平面之間的夾角，β為低RCS金屬支架的后緣與水平面之間的夾角，單位為°；其中，前緣是指低RCS金屬支架的朝向傾斜方向的一側(cè)，后緣是指低RCS金屬支架的背對(duì)傾斜方向的一側(cè)。

優(yōu)選地，箏形的后緣角采用曲率過(guò)度；或者，箏形的除了前緣角和后緣角之外的其他兩個(gè)內(nèi)角采用曲率過(guò)度；或者，箏形的除了前緣角之外的其他三個(gè)內(nèi)角全部采用曲率過(guò)度。

優(yōu)選地，低RCS金屬支架的頂面與水平面之間不平行。

優(yōu)選地，頂面與水平面之間呈銳角夾角，位于前緣的頂面的一側(cè)高于位于后緣的一側(cè)。

優(yōu)選地，頂面與水平面之間的銳角夾角為0～30°。

優(yōu)選地，α為55°±2°，和/或，β為65°±2°。

優(yōu)選地，前緣角為30.2°～100.2°，和/或，后緣角為100.2°～30.2°。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有箏形橫截面的低RCS金屬支架具有如下有益效果：

(1)低RCS金屬支架的外形具有很好的表面電流導(dǎo)向作用，在較大頻域內(nèi)都具有很低的散射效果；

(2)采用通用化設(shè)計(jì)，適用于各種大型電磁散射測(cè)試場(chǎng)支架系統(tǒng)；

(3)低RCS金屬支架的橫截面均為平面，沒(méi)有曲率過(guò)度，方便加工制作，加工成本低；

(4)低RCS金屬支架的可具有較大尺寸，其尺寸可達(dá)1～10m。

附圖說(shuō)明

通過(guò)以下參照附圖而提供的具體實(shí)施方式部分，本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更加容易理解，在附圖中：

圖1是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中低RCS金屬支架的立體圖；

圖2是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中低RCS金屬支架的左視圖；

圖3是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中低RCS金屬支架的主視圖；

圖4是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中低RCS金屬支架的示意圖；

圖5a是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中低RCS金屬支架的橫截面示意圖，圖5b是本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中低RCS金屬支架的橫截面示意圖。

具體實(shí)施方式

下面參照附圖對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)描述。對(duì)示例性實(shí)施方式的描述僅僅是出于示范目的，而絕不是對(duì)本發(fā)明及其應(yīng)用或用法的限制。

參見(jiàn)圖1-圖4，本發(fā)明具有箏形橫截面的低RCS(雷達(dá)散射截面，Radar Cross-Section)金屬支架在高度方向上朝一側(cè)傾斜。為了便于描述，本發(fā)明中以低RCS金屬支架的朝向傾斜方向的一側(cè)作為低RCS金屬支架的前緣，以低RCS金屬支架的背對(duì)傾斜方向的一側(cè)作為低RCS金屬支架的后緣。低RCS金屬支架的橫截面為箏形，該箏形關(guān)于低RCS金屬支架的傾斜方向?qū)ΨQ。也就是說(shuō)，低RCS金屬支架前緣的兩條箏形邊長(zhǎng)相等，低RCS金屬支架后緣的兩條箏形邊長(zhǎng)相等。

具有箏形橫截面的低RCS金屬支架具有很好的表面電流導(dǎo)向作用，能夠在較大頻域內(nèi)獲得低散射效果，降低目標(biāo)RCS測(cè)試時(shí)的背景噪聲，為目標(biāo)RCS測(cè)試提供更有效的參考信息。這種支架適用于各種載體及不同形態(tài)的目標(biāo)。與現(xiàn)有技術(shù)采用具有雙弧線、對(duì)數(shù)螺旋線等橫截面的復(fù)雜支架相比，本發(fā)明的低RCS金屬支架結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，采用通用化設(shè)計(jì)，能夠適用于各種大型電磁散射測(cè)試場(chǎng)支架系統(tǒng)。此外，由于本發(fā)明的支架橫截面均為平面、沒(méi)有曲率過(guò)度，因此方便加工制作，加工成本低。

低RCS金屬支架的橫截面面積從上而下均勻增加。優(yōu)選地，當(dāng)箏形的邊長(zhǎng)滿足如下關(guān)系時(shí)，金屬支架的表面電流導(dǎo)向作用更好，并且能夠在更大的頻域內(nèi)獲得更低的散射效果：

式中，A為位于低RCS金屬支架后緣的箏形的邊長(zhǎng)，B為位于低RCS金屬支架前緣的箏形的邊長(zhǎng)，L為低RCS金屬支架底面長(zhǎng)對(duì)角線的長(zhǎng)度，H為箏形所在平面的高度，單位為m；λ₁為后緣角，即位于低RCS金屬支架后緣的箏形的兩條邊之間的夾角，λ₂為前緣角，即位于低RCS金屬支架前緣的箏形的兩條邊之間的夾角，單位為°；α為低RCS金屬支架的前緣與水平面之間的夾角，β為低RCS金屬支架的后緣與水平面之間的夾角，單位為°。

箏形的后緣角可以采用曲率過(guò)度。箏形的除了前緣角和后緣角之外的其他兩個(gè)內(nèi)角也可以采用曲率過(guò)度。當(dāng)然，本領(lǐng)域技術(shù)人員也可以根據(jù)實(shí)際需要將箏形的除了前緣角之外的其他三個(gè)內(nèi)角全部采用曲率過(guò)度。采用曲率過(guò)度，能夠避免由于存在尖角而導(dǎo)致的RCS突變。

實(shí)際使用過(guò)程中，目標(biāo)及轉(zhuǎn)臺(tái)安裝在本發(fā)明低RCS金屬支架的頂端。轉(zhuǎn)臺(tái)可以在支架頂端轉(zhuǎn)動(dòng)。轉(zhuǎn)臺(tái)可以直接設(shè)置在支架的頂面上，并在頂面上轉(zhuǎn)臺(tái)；當(dāng)然，也可以使支架的頂面與水平面之間不平行，轉(zhuǎn)臺(tái)可以在頂面上方以及頂面與水平面之間的夾角范圍內(nèi)轉(zhuǎn)臺(tái)。在圖1至圖4示出的實(shí)施例中，頂面與水平面之間呈銳角夾角，位于前緣的頂面的一側(cè)高于位于后緣的一側(cè)。由于位于前緣的頂面的一側(cè)高于位于后緣的一側(cè)，一方面，當(dāng)轉(zhuǎn)臺(tái)向下轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)不會(huì)受到阻礙，另一方面，能夠使目標(biāo)及轉(zhuǎn)臺(tái)朝向背對(duì)于支架傾斜方向的方向傾斜，從而使包括目標(biāo)、轉(zhuǎn)臺(tái)及支架的整個(gè)結(jié)構(gòu)更加平穩(wěn)。頂面與水平面之間的夾角越大，轉(zhuǎn)臺(tái)的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍越大，優(yōu)選地，頂面與水平面之間的銳角夾角θ為0～30°。

低RCS金屬支架在高度方向上的傾斜角度越大，低RCS金屬支架的前緣與水平面之間的夾角α以及低RCS金屬支架的后緣與水平面之間的夾角β越小，優(yōu)選地，α為55°±2°，和/或，β為65°±2°。

圖4是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中低RCS金屬支架的示意圖；圖5a是一個(gè)實(shí)施例中沿著中X線的橫截面示意圖，圖5b是另一個(gè)實(shí)施例中沿著中X線的橫截面示意圖。前緣角λ₂或后緣角λ₁越小，低RCS金屬支架的垂直極化越好，但是水平極化越差。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)低RCS金屬支架的實(shí)際服役環(huán)境選擇合適的前緣角λ₂和后緣角λ₁。優(yōu)選地，前緣角λ₂為30.2°～100.2°，和/或，后緣角λ₁為100.2°～30.2°。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明采用具有箏形橫截面的低RCS金屬支架，不僅具有很好的表面電流導(dǎo)向作用，在較大頻域內(nèi)獲得低散射效果，而且由于采用通用化設(shè)計(jì)，還能夠適用于各種大型電磁散射測(cè)試場(chǎng)支架系統(tǒng)。此外，由于本發(fā)明的支架橫截面均為平面、沒(méi)有曲率過(guò)度，因此方便加工制作，加工成本低。

雖然參照示例性實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明并不局限于文中詳細(xì)描述和示出的具體實(shí)施方式，在不偏離權(quán)利要求書(shū)所限定的范圍的情況下，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對(duì)所述示例性實(shí)施方式做出各種改變。