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      一種使用雙頻激光和衍射光柵的三維位移測(cè)量裝置的制造方法

      文檔序號(hào):8253775閱讀:405來(lái)源:國(guó)知局
      一種使用雙頻激光和衍射光柵的三維位移測(cè)量裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明設(shè)及一種超精密位移測(cè)量技術(shù)及光柵位移測(cè)量系統(tǒng),特別設(shè)及一種使用雙 頻激光和衍射光柵的=維位移測(cè)量裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 近年來(lái),超精密測(cè)量已成為世界測(cè)量領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。考慮到測(cè)量范圍、精度、系 統(tǒng)尺寸和工作環(huán)境等因素的影響,用小體積多自由度的測(cè)量方法來(lái)實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量在現(xiàn)代 位移測(cè)量中的需求也越來(lái)越突出。在半導(dǎo)體加工領(lǐng)域,光刻機(jī)中的掩膜臺(tái)和工件臺(tái)的定位 精度和運(yùn)動(dòng)精度是限制半導(dǎo)體巧片加工線寬的主要因素,為了保證掩膜臺(tái)和工件臺(tái)的定位 精度和運(yùn)動(dòng)精度,光刻機(jī)中通常采用具有高精度、大量程的雙頻激光干設(shè)儀測(cè)量系統(tǒng)進(jìn)行 位移測(cè)量。目前市場(chǎng)上現(xiàn)有的半導(dǎo)體巧片的線寬已經(jīng)逼近14nm,不斷提高的半導(dǎo)體加工要 求對(duì)超精密位移測(cè)量技術(shù)提出了更大的挑戰(zhàn),而雙頻激光干設(shè)儀測(cè)量系統(tǒng)由于其長(zhǎng)光程測(cè) 量易受環(huán)境影響,且存在系統(tǒng)體積大、價(jià)格高昂等一系列問(wèn)題,難W滿足新的測(cè)量需求。
      [0003] 針對(duì)上述問(wèn)題,國(guó)內(nèi)外超精密測(cè)量領(lǐng)域的各大公司及研究機(jī)構(gòu)都投入了大量精力 進(jìn)行研究,其中一個(gè)主要研究方向包括研發(fā)基于衍射光柵的新型位移測(cè)量系統(tǒng)?;谘苌?光柵的位移測(cè)量系統(tǒng)經(jīng)過(guò)數(shù)十年的發(fā)展,已有較多的研究成果,在諸多專利和論文中均有 揭露。
      [0004] 德國(guó)肥IDENHAIN公司的專利US477670U公開(kāi)日1988年10月11日)提出了利 用光束通過(guò)折射光柵和反射光柵后實(shí)現(xiàn)相干疊加與光學(xué)移相的方式來(lái)測(cè)量X方向位移的 方法。該方法利用光柵本身的結(jié)構(gòu)參數(shù)調(diào)整實(shí)現(xiàn)了干設(shè)信號(hào)移相,同時(shí)測(cè)量結(jié)果不受Y方 向和Z方向位移的影響。由于該方法不需額外的移相元件,因此系統(tǒng)體積較小,但是該方法 只能用于X方向的位移測(cè)量。
      [0005] 荷蘭ASML公司的專利US736244她2 (公開(kāi)日2008年4月22日)提出了一種利用 光柵衍射編碼器和干設(shè)儀原理測(cè)量標(biāo)尺光柵在X方向和Z方向位移的位置測(cè)量單元,利用 3個(gè)該位置測(cè)量單元能夠同時(shí)測(cè)量平臺(tái)的6個(gè)自由度;通過(guò)特殊的棱鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使得該位 置測(cè)量單元除了標(biāo)尺光柵W外的其他分光、移相、合光等光學(xué)元件組合成一個(gè)整體,達(dá)到減 輕單元尺寸和質(zhì)量,結(jié)構(gòu)緊湊的目的;該位置測(cè)量單元測(cè)量標(biāo)尺光柵X向位移所使用光柵 衍射編碼器的測(cè)量光來(lái)自標(biāo)尺光柵的衍射光,測(cè)量標(biāo)尺光柵Z向位移所使用干設(shè)儀的測(cè)量 光也來(lái)自標(biāo)尺光柵的衍射光,但來(lái)源于不同光束的衍射,是分立的。該方法可同時(shí)實(shí)現(xiàn)X向 和Z向的位移測(cè)量,但干設(shè)儀和光柵衍射測(cè)量的位置不同,棱鏡組結(jié)構(gòu)較復(fù)雜。
      [0006] 日本學(xué)者Wei Gao與清華大學(xué)學(xué)者曾理江等人聯(lián)合發(fā)表的論文 "Design and construction of a tw〇-degree-〇f-freedom linear encoder for nanometric measurement of stage position and straightness.Precision 化gineering34(2010) 145-155"中提出了一種利用衍射光柵干設(shè)原理的二維光柵測(cè)量裝 置。激光器出射的激光經(jīng)過(guò)偏振分光棱鏡分為測(cè)量光和參考光,二者分別入射到標(biāo)尺光柵 和參考光柵并發(fā)生反向衍射,反向衍射光在偏振分光棱鏡處匯聚后入射到光電探測(cè)單元發(fā) 生干設(shè),利用后續(xù)光路移相,可w在四組探測(cè)器表面接收到干設(shè)信號(hào)。通過(guò)對(duì)干設(shè)信號(hào)進(jìn)行 處理,可W解禪出光柵讀數(shù)頭相對(duì)于標(biāo)尺光柵在X向和Z向兩個(gè)方向的位移信息。該方法 為了實(shí)現(xiàn)對(duì)信號(hào)的移相,引入了很多的移相合光器件,體積較大;而且當(dāng)讀數(shù)頭與光柵產(chǎn)生 的Z向運(yùn)動(dòng)時(shí),干設(shè)區(qū)域的范圍變小,不利于Z向較大量程的測(cè)量。
      [0007] 清華大學(xué)學(xué)者朱燈的專利CN102937411A(公開(kāi)日2013年2月20日)和 CN102944176A(公開(kāi)日2013年2月27日)中,提出了利用衍射光柵干設(shè)原理設(shè)計(jì)的二維 光柵測(cè)量系統(tǒng),并引入了雙頻激光產(chǎn)生了拍頻信號(hào),增強(qiáng)了測(cè)量信號(hào)的抗干擾能力。該組專 利當(dāng)讀數(shù)頭相對(duì)于標(biāo)尺光柵發(fā)生Z向運(yùn)動(dòng)時(shí),干設(shè)區(qū)域范圍變小,不利于Z向較大量程的測(cè) 量。
      [0008] 日本株式會(huì)社S豐的專利CN102865817A(公開(kāi)日2013年1月9日)W及 US8604413B2(公開(kāi)日2013年12月10日)提出了一種二維位移傳感器的構(gòu)造,該構(gòu)造能夠 實(shí)現(xiàn)多維位移測(cè)量,但是整個(gè)系統(tǒng)采用透射方式,并且使用了棱鏡等光學(xué)器件用于折光,因 此系統(tǒng)體積較大。
      [0009] 哈爾濱工業(yè)大學(xué)學(xué)者胡鵬程等人的專利CN103604376A(公開(kāi)日2014年2月26日) 中,提出了一種抗光學(xué)頻率混疊的光柵干設(shè)儀系統(tǒng),通過(guò)激光器出射的雙頻激光在空間上 分開(kāi)傳輸?shù)脑O(shè)置,消除了光學(xué)頻率混疊和相應(yīng)的周期非線性誤差,并能夠?qū)崿F(xiàn)=維位移的 測(cè)量;哈爾濱工業(yè)大學(xué)學(xué)者林杰等人的專利CN103644849A(公開(kāi)日2014年3月19日)中, 通過(guò)引入自準(zhǔn)直原理提出了一種=維位移測(cè)量系統(tǒng),該系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)較大量程的Z向位移 測(cè)量,但是由于光束分光次數(shù)較多,不利于提高干設(shè)信號(hào)的質(zhì)量。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0010] 為解決上述方案的局限性,適應(yīng)和滿足前述的測(cè)量要求,本發(fā)明利用典型邁克爾 遜干設(shè)儀原理、多衍射光柵干設(shè)原理和光學(xué)拍頻原理,設(shè)計(jì)了一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊、體積小、 抗干擾能力強(qiáng)的使用雙頻激光和衍射光柵的=維位移測(cè)量裝置。當(dāng)本裝置的讀數(shù)頭相對(duì)于 標(biāo)尺光柵發(fā)生水平方向狂向)、豎直方向(Y向)、垂直方向狂向)的位移時(shí),可實(shí)現(xiàn)高精 度的=維位移實(shí)時(shí)測(cè)量。
      [0011] 本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
      [0012] 一種使用雙頻激光和衍射光柵的=維位移測(cè)量裝置,包括標(biāo)尺光柵和讀數(shù)頭,讀 數(shù)頭包括雙頻激光光源、Z向干設(shè)部件、掃描分光光柵部件、X向探測(cè)部件、Y向探測(cè)部件、 Z向探測(cè)部件、信號(hào)處理部件;所述的雙頻激光光源包括雙頻激光器、分光棱鏡、偏振片A ;Z 向干設(shè)部件包括偏振分光棱鏡、1/4波片A、反射部件、1/4波片B、偏振片B ;掃描分光光柵 部件包括掃描分光光柵、光闊;掃描分光光柵的柵線所在平面和標(biāo)尺光柵的柵線所在平面 平行;掃描分光光柵為組合光柵,包括位于掃描分光光柵中間區(qū)域的二維正交光柵W及位 于二維正交光柵兩側(cè)的一維光柵A和一維光柵B,二維正交光柵、一維光柵A和一維光柵B 的柵線共面,一維光柵A和一維光柵B的柵線方向相互垂直,且分別平行于二維正交光柵的 兩個(gè)柵線方向,二維正交光柵、一維光柵A和一維光柵B的光柵周期相等;掃描分光光柵在 放置時(shí),其柵線方向與標(biāo)尺光柵的柵線方向成45° ;標(biāo)尺光柵為二維正交光柵,具有后向零 級(jí)衍射光,其周期為掃描分光光柵周期的1/V5;X方向是與掃描分光光柵的柵線所在平面平 行,且垂直于一維光柵A柵線的方向;Y方向是與掃描分光光柵的柵線所在平面平行,且垂 直于一維光柵B柵線的方向;Z方向是與掃描分光光柵的柵線所在平面垂直的方向;雙頻激 光器出射的雙頻正交偏振光入射到分光棱鏡,其反射光透過(guò)偏振片A后入射到Z向探測(cè)部 件,形成的拍頻信號(hào)作為Z向測(cè)量的一路參考信號(hào),其透射光入射到偏振分光棱鏡后分為 參考光和測(cè)量光;參考光透過(guò)1/4波片A,并由反射部件反射后,依次透過(guò)1/4波片A、偏振 分光棱鏡、偏振片B入射到Z向探測(cè)部件;測(cè)量光透過(guò)1/4波片B后沿Z方向入射到掃描分 光光柵中間區(qū)域的二維正交光柵,經(jīng)二維正交光柵衍射后衍射光束入射到標(biāo)尺光柵并發(fā)生 反向衍射,得到九束測(cè)量光束與其他雜散光束;九束測(cè)量光束中,其中四束在掃描分光光柵 的一維光柵A上兩兩相交并衍射入射到X向探測(cè)部件形成四組干設(shè)信號(hào),通過(guò)信號(hào)處理單 元解算后得到讀數(shù)頭相對(duì)于標(biāo)尺光柵在X向發(fā)生的位移;九束測(cè)量光束中,另外四束在掃 描分光光柵的一維光柵B上兩兩相交并衍射入射到Y(jié)向探測(cè)部件形成另外四組干設(shè)信號(hào), 通過(guò)信號(hào)處理單元解算后得到讀數(shù)頭相對(duì)于標(biāo)尺光柵在Y向發(fā)生的位移;九束測(cè)量光束中 的另一沿入射方向返回的測(cè)量光束依次透過(guò)掃描分光光柵中間區(qū)域的二維正交光柵、1/4 波片B,并由偏振分光棱鏡反射后透過(guò)偏振片B入射到Z向探測(cè)部件;入射到Z向探測(cè)部件 的參考光和測(cè)量光相遇形成的拍頻信號(hào)作為Z向測(cè)量的一路測(cè)量信號(hào),Z向測(cè)量的參考信 號(hào)和測(cè)量信號(hào)通過(guò)信號(hào)處理單元解算后得到讀數(shù)頭相對(duì)于標(biāo)尺光柵在Z向發(fā)生的位移。
      [0013] 在掃描分光光柵部件中增設(shè)了光闊,并且光闊位于掃描分光光柵與X向探測(cè)部件 之間,光闊同時(shí)位于掃描分光光柵與Y向探測(cè)部件之間。
      [0014] 在雙頻激光器出射的透過(guò)掃描分光光柵的測(cè)量光的波長(zhǎng)A = 632. 8nm時(shí),掃描分 光光柵采用矩形光柵,一組優(yōu)選參數(shù)為二維正交光柵兩個(gè)柵線方向的光柵周期di= d 2 = 10 ym、光柵臺(tái)階高度h = 159皿、兩個(gè)柵線方向的光柵臺(tái)階寬度ai= a 2= 5. 67 ym,一維 光柵A和一維光柵B的光柵周期d = 10 ym、光柵臺(tái)階高度h = 488皿、光柵臺(tái)階寬度a = 3. 567 ym,標(biāo)尺光柵采用二維矩形光柵,其一組優(yōu)選參數(shù)為兩個(gè)柵線方向的光柵周期di = d2= 7.07 ym、光柵臺(tái)階高度h = 159皿、兩個(gè)柵線方向光柵臺(tái)階寬度a 1= 32= 4.01 ym。
      [0015] 本發(fā)明是利用典型邁克爾遜干設(shè)儀原理、多衍射光柵干設(shè)原理和光學(xué)拍頻原理提 出的一種使用雙頻激光和衍射光柵的的=維位移測(cè)量裝置,具有W下創(chuàng)新性和突出效果:
      [0016] 1.通過(guò)將標(biāo)尺光柵和掃描分光光柵平行放置、掃描分
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