0] 這里，如圖3所示，"高度"指的是從上述閃爍體層的柱狀晶體生長起始面向柱狀晶 體生長結(jié)束面的垂直方向的距離。
[0161] 另外，在閃爍體面板的對于來自膜厚方向的按壓的強度這一點上，更優(yōu)選地，上述 (i/h)在上述范圍內(nèi)且上述平均晶體直徑i為3 μπι以下。這時，閃爍體面板即使是閃爍體 層沒有基底層，也具有某種程度的強度，但當(dāng)具有基底層時，強度優(yōu)異，能夠提供亮度高、清 晰性優(yōu)異的放射線圖像，這些性能平衡良好且優(yōu)異。
[0162] 進而，從確保上述清晰性的觀點來看，閃爍體層的、位于從柱狀晶體結(jié)束面向柱狀 晶體起始面降低10 μ m的高度的面的平均晶體直徑j(luò)優(yōu)選為10 μ m以下，更優(yōu)選為8 μ m以 下。
[0163] 此外，具體而言，"平均晶體直徑"是"平均圓當(dāng)量直徑"。該"平均圓當(dāng)量直徑"是 在用鉑、鈀、金、碳等導(dǎo)電性物質(zhì)將含有柱狀晶體的閃爍體層涂布以后，利用掃描電子顯微 鏡（SEM :Scanning Electron Microscope)(日立制作所制S - 800)進行觀察，對30根柱 狀晶體測定與各柱狀晶體截面外接的圓的直徑即圓當(dāng)量直徑，作為這些圓當(dāng)量直徑的平均 值而得到的平均晶體直徑。
[0164] 這里，高度1 μm的位置的上述柱狀晶體的平均晶體直徑h及高度3 μm的位置的 上述柱狀晶體的平均晶體直徑i分別是，用環(huán)氧樹脂等適當(dāng)?shù)臉渲钛a晶體內(nèi)，并對通過 拋光將晶體膜表面從閃爍體層的柱狀晶體生長起始面分別切削到1 μ m及3 μ m而得到的結(jié) 晶面進行觀察所得到的平均晶體直徑。
[0165] 另外，閃爍體層的、位于從柱狀晶體結(jié)束面向柱狀晶體起始面降低10 ym的高度 的截面的柱狀晶體的平均晶體直徑j(luò)是，用環(huán)氧樹脂等適當(dāng)?shù)臉渲钛a晶體內(nèi)，并對將柱 狀晶體從柱狀晶體結(jié)束面切削了 10 ym而得到的結(jié)晶面進行觀察所得到的平均晶體直徑。
[0166] 如后述的閃爍體面板的制造方法的部分所述，閃爍體層的在切削到距柱狀晶體生 長起始面的厚度變成5 μπι以后向柱狀晶體生長結(jié)束面照射X射線進行測定時的特定面指 數(shù)的X射線搖擺曲線的半值寬度（a)、未切削而向柱狀晶體生長結(jié)束面照射X射線進行測定 時的特定面指數(shù)的X射線搖擺曲線的半值寬度（b)、及其比率（a/b)、柱狀晶體的根部彼此 的獨立性、還有上述（i/h)，在例如對熒光體進行蒸鍍而形成閃爍體層的情況下，都可通過 調(diào)節(jié)蒸鍍時的直接形成閃爍體層的層的溫度、蒸鍍源的蒸鍍速度、及蒸鍍裝置的真空容器 內(nèi)的真空度即蒸鍍時的上述真空容器內(nèi)的壓力來實現(xiàn)。進而，如果蒸鍍熒光體的被蒸鍍層 的表面能量在特定的范圍內(nèi)，就能夠更精密地控制上述半值寬度（a)、上述半值寬度（b)、 其比率（a/b)、柱狀晶體的根部彼此的獨立性、及上述（i/h)。被蒸鍍層取決于閃爍體面板 的結(jié)構(gòu)，或是支承體，或是反射層。
[0167] 閃爍體層可以由一層構(gòu)成，也可以由兩層以上構(gòu)成。在閃爍體層由兩層以上構(gòu)成 的情況下，可以具有包含成為基底層的層且在支承體上依次層疊有基底層和其以外的層的 構(gòu)造，也可以具有不含基底層的構(gòu)造。在閃爍體層由含有基底層的兩層以上構(gòu)成的情況下， 這些層只要熒光體母材化合物相同，就可以由同一材質(zhì)構(gòu)成，或者也可以由不同的材質(zhì)構(gòu) 成。即，閃爍體層可以是：（1)只是由含有熒光體母材化合物和激活劑的原材料形成的一 層；（2)包括由僅由熒光體母材化合物構(gòu)成的原材料形成的基底層、和由含有熒光體母材 化合物和激活劑的原材料形成的與基底層不同的層；(3)包括由含有熒光體母材化合物和 第一激活劑的原材料形成的基底層、和由含有熒光體母材化合物和第二激活劑的原材料形 成的與基底層不同的層。
[0168] 此外，在形成柱狀晶體的根部相互獨立的閃爍體層的情況下，從能夠精度更好地 形成柱狀晶體的根部相互獨立的閃爍體層的觀點來看，作為形成基底層的原材料優(yōu)選不使 用激活劑，但在閃爍體層形成后，通過加熱等，通過來源于激活劑的成分從基底層以外的層 向基底層移動等，即使在基底層中含有來源于激活劑的成分，也不礙事。
[0169] 另外，在本說明書中，"基底層"是閃爍體層的一部分，指的是構(gòu)成閃爍體層的層中 的、柱狀晶體生長起始面?zhèn)鹊淖钔鈱印?br>[0170] 在本發(fā)明中，閃爍體層優(yōu)選為由（i)以熒光體母材化合物和激活劑為原材料的基 底層以外的層和（ii)基底層構(gòu)成的閃爍體層，其中，該（ii)基底層設(shè)置于支承體和該基底 層以外的層之間，以熒光體母材化合物為原材料，但不以激活劑為原材料，空隙率具有比該 基底層以外的層高的值。
[0171] 由于基底層的存在，柱狀晶體性變得良好，熒光體的發(fā)光量增加，所得到的放射線 圖像的亮度也提高，另外，閃爍體面板的保存性提高，可長期穩(wěn)定地得到提高了亮度的放射 線圖像。
[0172] 這里，空隙率是指，在將閃爍體層與柱狀晶體生長起始面平行地切斷的截面中，空 隙的截面積總和相對于熒光體的柱狀晶體的截面積總和及空隙的截面積總和的合計的比 率。
[0173] 空隙率可通過與柱狀晶體生長起始面平行地切開閃爍體面板的閃爍體層，對其截 面的掃描式電子顯微鏡照片，使用圖像處理軟件將熒光體的柱狀晶體部分及空隙部二值化 來求出。
[0174] 設(shè)基底層的熒光體母材化合物的量為100摩爾％時的、基底層的激活劑的相對含 量優(yōu)選為0. 01~1摩爾％，更優(yōu)選為0. 3~0. 7摩爾％。在放射線圖像的亮度提高及閃爍 體面板的保存性方面，非常優(yōu)選基底層的激活劑的相對含量在該范圍內(nèi)。
[0175] 從閃爍體層的發(fā)光效率等觀點來看，優(yōu)選地，不管閃爍體層的厚度方向的位置如 何，基于閃爍體層的熒光體的具有特定的面指數(shù)的面的X射線衍射光譜的取向度都在80~ 100%的范圍內(nèi)。例如，鉈激活碘化銫（Csl :T1)的柱狀晶體的面指數(shù)可以是（100)、（110)、 (111)、（200)、（211)、（220)、（311)等中的任一個，但在本發(fā)明中，X射線測定所利用的面指 數(shù)為（200)。關(guān)于面指數(shù)，在X射線解析入門（東京化學(xué)同人）的42~46頁有詳細(xì)記載。
[0176] 這里，如圖3的箭頭所示，閃爍體層的厚度方向為與閃爍體層的柱狀晶體生長起 始面平行的方向。
[0177] 另外，"基于特定的面指數(shù)的面的X射線衍射光譜的取向度"是某面指數(shù)的強度lx 在包括其他面指數(shù)的面的整體的總強度I中所占的比例。例如，X射線衍射光譜的（200)面 的強度1200的取向度為"取向度=1200/1"。
[0178] 作為用于確定取向度的面指數(shù)的測定方法，例如可舉出X射線衍射（XRD)。X射線 衍射是利用將特定波長的固有X射線照射到結(jié)晶性物質(zhì)而發(fā)生滿足Bragg式的衍射，能夠 得到與物質(zhì)的鑒定、晶相的構(gòu)造等有關(guān)的信息的通用性高的分析方法。作為照射系統(tǒng)的靶， 使用Cu、Fe、Co等，雖然取決于裝置能力，但通常照射時的輸出為0~50mA、0~50Kv程度。
[0179] 在本發(fā)明的閃爍體面板中，從經(jīng)由本發(fā)明的閃爍體面板而得到的放射線圖像的亮 度和清晰性的良好平衡方面來看，閃爍體層的厚度優(yōu)選為100~1000 μ m，更優(yōu)選為100~ 800 μ m，進一步優(yōu)選為120~700 μ m。
[0180] 從要得到的放射線圖像的亮度的大小、清晰性的維持方面來看，基底層的膜厚優(yōu) 選為0· 1 μ m~50 μ m，更優(yōu)選為3 μ m~50 μ m，進一步優(yōu)選為5 μ m~40 μ m。
[0181] I承體及閃爍體層以外的、構(gòu)成閃爍體而板的層
[0182] 本發(fā)明的閃爍體面板除含有支承體、閃爍體層以外，與現(xiàn)有公知的閃爍體面板同 樣地，例如出于調(diào)節(jié)其反射率的目的，還可含有例如反射層、遮光層、顏料層等，此外，還可 含有反射層用保護層、耐濕保護膜等。
[0183] 此外，如上所述，支承體也可以兼作反射層，在那種情況下，閃爍體面板可以僅含 有起到反射層的作用的支承體作為反射層，也可以除含有起到反射層作用的支承體以外， 還含有另外的反射層。
[0184] (反射層）
[0185] 下面的反射層的說明對于起到反射層的作用的支承體及除支承體外另行設(shè)置的 反射層通用。
[0186] 在本發(fā)明的閃爍體面板含有反射層的情況下，反射層例如設(shè)置在支承體和閃爍體 層之間，或支承體的成為非閃爍體層側(cè)的面上。
[0187] 作為那種閃爍體面板，例如可舉出具有"支承體/反射層/閃爍體層"這種層結(jié)構(gòu) 的閃爍體面板，在這種情況下，閃爍體面板的閃爍體層面貼附于光電轉(zhuǎn)換元件面板面。
[0188] 作為反射層，可舉出含有粘合劑樹脂和顏料的層。
[0189] 形成反射層的粘合劑樹脂只要無損本發(fā)明的目的，就沒有特別限制，可以是適當(dāng) 購買的市售的樹脂，也可以是適當(dāng)制造的樹脂。具體而言，可舉出：由氯乙烯共聚物、氯乙 烯-醋酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-偏氯乙烯共聚物、氯乙烯-丙烯腈共聚物、丁二烯-丙烯 腈共聚物、聚乙烯醇縮丁醛、硝基纖維素等纖維素衍生物或苯乙烯-丁二烯共聚物等構(gòu)成 的樹脂、聚氨酯樹脂、聚酰胺樹脂、聚酯樹脂、各種合成橡膠系樹脂、酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂、尿 素樹脂、三聚氰胺樹脂、苯氧基樹脂、硅樹脂、氟樹脂、丙烯酸系樹脂以及脲醛樹脂等。其中， 在相對于通過蒸鍍而形成的熒光體的柱狀晶體及支承體的膜粘附性優(yōu)異方面，優(yōu)選聚酯樹 月旨、聚氨酯樹脂等疏水性樹脂。另外，粘合劑樹脂可以由單獨地樹脂構(gòu)成，也可以由兩種以 上的樹脂混合物構(gòu)成。特別是，在粘合劑樹脂由具有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度（Tg)的高分子化合 物構(gòu)成的情況下，當(dāng)采用玻璃化轉(zhuǎn)變溫度（Tg)為5°C以上的不同的兩種以上樹脂的混合物 時，從能夠容易控制由配合有粘合劑樹脂等反射層用原材料的反射層形成用涂布液得到的 涂膜的物理性能的觀點來看，優(yōu)選。在這種情況下，兩種以上的樹脂只要彼此玻璃化轉(zhuǎn)變溫 度不同即可，全部或一部分可以為同種類，也可以為不同種類。
[0190] 作為配合在形成反射層的粘合劑樹脂中的顏料，例如可舉出：耐曬黃、雙偶氮黃、 吡唑啉酮橙、麗春紅4R、萘酚紅等非水溶性偶氮顏料；黃藻、紅藻等縮合偶氮顏料；立索爾 紅、麗春紅C、掛鐘紅、亮胭脂紅6B、波爾多10B等偶氮色淀顏料；萘酚綠B等亞硝基顏料；萘 酚黃S等硝基顏料；酞菁藍(lán)、堅牢天藍(lán)、酞菁綠等酞菁顏料；蒽黃、紫環(huán)酮橙、二萘嵌苯紅、硫 靛紅、陰丹士林藍(lán)等士林顏料；喹吖啶酮紅、喹吖啶酮紫等喹吖啶酮顏料；二惡嗪紫等二噁 嗪顏料；異吲哚啉黃等異吲哚啉顏料；孔雀藍(lán)、堿性湖藍(lán)等酸性藍(lán)染料；若丹明藍(lán)、甲基藍(lán)、 孔雀藍(lán)等堿性藍(lán)染料；炭黑等。
[0191] 作為白色顏料，可舉出氧化鋁、氧化紀(jì)、氧化錯、二氧化鈦、硫酸鋇、二氧化娃、氧化 鋅、碳酸鈣等。
[0192] 相對于形成反射層的粘合劑樹脂100重量份，顏料優(yōu)選為0. 01~10重量份。當(dāng) 顏料的量在上述范圍內(nèi)時，能夠得到充分著色的反射層，并且能夠防止過剩顏料造成的粘 合劑樹脂的伸長、強度等機械物理性能的下降。
[0193] 另外，作為反射層的另一例子，可舉出由如各種金屬膜或非晶碳板等的光反射性 或遮光性的原材料構(gòu)成的層。
[0194] 其中，優(yōu)選由反射率高的金屬構(gòu)成的金屬膜。作為構(gòu)成這種金屬膜的金屬的特性， 優(yōu)選導(dǎo)電率為6. OS/m以上，更優(yōu)選為30S/m以上。構(gòu)成金屬膜的金屬可以為單獨的一種， 也可以為兩種以上。
[0195] 作為反射率高的金屬膜，可舉出由含有選自由Al、Ag、Cr、Cu、Ni、Mg、pt、Au構(gòu)成 的組中的至少一種金屬的原材料構(gòu)成的金屬膜。在這些金屬膜中，在反射率方面，特別優(yōu)選 由 A1 (40S/m)、Ag(67S/m)、Au(46S/m)構(gòu)成的金屬膜。
[0196] 反射層可以由一層構(gòu)成，也可以由二層以上構(gòu)成。
[0197] 反射層的膜厚也取決于反射層的附著方法，在真空蒸鍍的情況下，優(yōu)選為50nm~ 400nm，在派射蒸鍍的情況下，優(yōu)選為20nm~200nm。
[0198] (遮光層）
[0199] 遮光層通常也可以設(shè)置在支承體和閃爍體層之間、或支承體的與閃爍體層相反的 一側(cè)的主面上。
[0200] 遮光層含有具有遮光性的材料。
[0201] 作為具有遮光性的材料，從能夠適當(dāng)調(diào)節(jié)支承體的反射率的觀點來看，更優(yōu)選為 選自含有鋁、銀、鉑、鈀、金、銅、鐵、鎳、鉻及鈷等中的一種或兩種以上的原子的金屬材料或 含有不銹鋼的金屬薄膜。另外，遮光層可以由一層上述金屬薄膜構(gòu)成，也可以由兩層以上的 上述金屬薄膜構(gòu)成。
[0202] 在將遮光層設(shè)置在支承體上的情況下，從提高遮光層和支承體的粘附性的觀點來 看，優(yōu)選在支承體和遮光層之間設(shè)置中間層。作為構(gòu)成中間層的原材料，除通常的容易粘接 的聚合物例如環(huán)氧樹脂等以外，還可舉出與遮光層的金屬不同的金屬即異種金屬。作為異 種金屬，例如可舉出鎳、鈷、鉻、鈀、鈦、鋯、鉬及鎢。中間層可以單獨含有這些異種金屬，也可 以含有兩種以上。從發(fā)光光輸出效率的觀點來看，遮光層的厚度優(yōu)選為〇. 〇〇5~0. 3 μ m，更 優(yōu)選為〇· 01~〇· 2 μπι。
[0203] 由于含有這種金屬原材料的遮光層也可起到防靜電層的作用，所以出于本發(fā)明的 閃爍體面板的防靜電的目的，也優(yōu)選使用。含有這種金屬原材料的遮光層作為防靜電層，也 可代替添加有成為防靜電劑的金屬原材料的反射層，或與其一同采用。在這種情況下，從本 發(fā)明的閃爍體面板的防靜電的觀點來看，以在支承體上設(shè)有含有金屬原材料的遮光層的層 疊體為試樣，在含有金屬原材料的遮光層的、與支承體相反的一側(cè)的表面上進行測定所得 的表面電阻值優(yōu)選為1. οχ 1012Ω / □以下，進一步優(yōu)選為1. ΟΧΙΟ11 Ω / □以下，最優(yōu)選為 1. 〇Χ1〇10Ω/ □以下。
[0204] (顏料層）
[0205] 顏料層通常設(shè)置在支承體和閃爍體層之間、或支承體的與閃爍體層相反的一側(cè)的 主面上。
[0206] 顏料層只要用顏料進行著色，且具有光吸收性，就沒有特別限制，例如，采用含有 顏料及粘合劑樹脂的層。作為顏料層的顏料，也可使用現(xiàn)有公知的顏料。從吸收更易發(fā)生 光散射的紅色的長波光成分的觀點來看，顏料優(yōu)選藍(lán)色的顏料。作為藍(lán)色的顏料，可舉出無 機藍(lán)色顏料或有機藍(lán)色顏料。作為無機藍(lán)色顏料，優(yōu)選以群青、亞鐵氰化鐵即普魯士藍(lán)等 為成分的顏料。另外，作為有機藍(lán)色顏料，優(yōu)選以偶氮、酞菁等為成分的顏料。在那些有機 藍(lán)色顏料中，從顏料層的放射線耐久性、紫外線耐久性等觀點來看，優(yōu)選以酞菁為成分的顏 料。作為顏料層的粘合劑樹脂，例如可舉出與作為形成反射層的粘合劑樹脂而例示的樹脂 同樣的樹脂等，其中，例如，在相對于通過蒸鍍而形成的熒光體的柱狀晶體及支承體的膜粘 附性優(yōu)異方面，優(yōu)選為聚酯樹脂、聚氨酯樹脂等疏水性樹脂，更優(yōu)選為聚酯樹脂、聚氨酯樹 月旨。顏料層的粘合劑樹脂與形成反射層的粘合劑樹脂同樣，可以由單一種類的樹脂構(gòu)成，也 可以由兩種以上的樹脂的混合物構(gòu)成（關(guān)于粘合劑樹脂的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度，也與形成反射 層的粘合劑樹脂相同。下同）。從顏料層的光吸收性的觀點來看，優(yōu)選顏料層的顏料量相對 于粘合劑樹脂100重量份為〇. 01~10重量份。
[0207] 從切斷性的觀點來看，顏料層的厚度優(yōu)選為1~500 μ m。
[0208] (反射層用保護層）
[0209] 在本發(fā)明的閃爍體面板含有反射層的情況下，為了防止閃爍體層中的熒光體引起 的反射層的腐蝕等，也可以在反射層和閃爍體層之間設(shè)置反射層用保護層。
[0210] 反射層用保護層通常是含有樹脂的層，作為反射層用保護層所含的樹脂，在對 反射層用保護層的反射層及閃爍體層中的柱狀晶體的保護方面，優(yōu)選玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為 30~100 °C的聚合物。
[0211] 作為反射層用保護層所含的樹脂的具體例，可舉出與作為形成反射層的粘合劑樹 脂而例示的樹脂同樣的樹脂等，特別優(yōu)選聚酯樹脂。反射層用保護層所含的樹脂與形成反 射層的粘合劑樹脂同樣，可以由單獨的樹脂構(gòu)成，也可以由兩種以上的樹脂的混合物構(gòu)成。
[0212] 反射層用保護層的膜厚從保護層的觀點來看，優(yōu)選為0. 1 μπι以上，從確保反射層 用保護層表面的平滑性的觀點來看，優(yōu)選為3. 0 μ m以下，更優(yōu)選為0. 2~2. 5 μ m。
[0213] (耐濕保護膜）
[0214] 本發(fā)明的閃爍體面板優(yōu)選外周整體由耐濕保護膜覆蓋。耐濕保護膜具有對閃爍體 面板整體進行防濕，且抑制閃爍體層的劣化的作用。作為這種劣化，例如，在閃爍體層的熒 光體具有潮解性的情況下，熒光體的潮解造成閃爍體層的劣化等。