度在蒸鍍起始時(shí)被設(shè)定為5°C~320 °C程 度，之后維持該溫度直到蒸鍍結(jié)束時(shí)，或者進(jìn)行升溫，使與蒸鍍起始時(shí)的蒸鍍用基板43溫 度的差直到蒸鍍結(jié)束為止超過〇°C且處于200°C左右的范圍內(nèi)。
[0281] 蒸鍍裝置的真空容器內(nèi)的真空度優(yōu)選以蒸鍍結(jié)束時(shí)比蒸鍍起始時(shí)低的方式進(jìn) 行控制，具體而言，優(yōu)選以蒸鍍結(jié)束時(shí)的上述真空度相對(duì)于蒸鍍起始時(shí)的上述真空度低 1. 0X 10 ~9. 0X 10 的方式進(jìn)行控制。蒸發(fā)起始時(shí)的上述真空度優(yōu)選為10 X 10 2~ 10Pa (絕對(duì)壓力）。
[0282] 另外，優(yōu)選地，與蒸鍍用基板43的升溫相應(yīng)地適當(dāng)選擇、控制該蒸鍍時(shí)的蒸鍍?cè)?的蒸發(fā)速度。只要蒸鍍用基板43的溫度及蒸鍍裝置的真空容器內(nèi)的真空度處于上述范圍 內(nèi)，蒸鍍?cè)吹恼舭l(fā)速度通常都被控制在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)。
[0283] 如上所述，通過適當(dāng)控制蒸鍍用基板43的溫度、蒸鍍裝置的真空容器內(nèi)的真空 度、蒸鍍?cè)吹恼舭l(fā)速度，能夠?qū)㈤W爍體層的、在切削到距柱狀晶體生長起始面的厚度變成 5 μπι以后向柱狀晶體生長結(jié)束面照射X射線進(jìn)行測定時(shí)的特定面指數(shù)的X射線搖擺曲線 的半值寬度（a)、未切削而向柱狀晶體生長結(jié)束面照射X射線進(jìn)行測定時(shí)的特定面指數(shù)的X 射線搖擺曲線的半值寬度（b)、及其比率（a/b)控制在上述范圍內(nèi)。另外，如果蒸鍍熒光體 的被蒸鍍層的表面能量處于特定的范圍內(nèi)，就能夠更精密地控制上述半值寬度（a)、上述半 值寬度（b)、及其比率（a/b)。
[0284] 為了形成根部彼此獨(dú)立的柱狀晶體，只要控制形成于蒸鍍用基板43的熒光體的 柱狀晶體的根部的晶體直徑即可，熒光體的柱狀晶體的根部的晶體直徑可通過改變蒸鍍用 基板43的溫度來進(jìn)行控制。此外，通過改變蒸鍍用基板43的溫度，也能夠控制熒光體的柱 狀晶體的根部以外的部分的晶體直徑。因?yàn)樵浇档驼翦冇没?3的溫度，越能夠降低晶體 直徑，所以只要降低形成閃爍體層的蒸鍍用基板43的蒸鍍起始時(shí)的溫度即可，具體而言， 如上所述，優(yōu)選設(shè)定為5°C~120°C。另外，為了適度減小高度3 μ m的位置的上述柱狀晶體 的平均晶體直徑i相對(duì)于高度1 μπι的位置的上述柱狀晶體的平均晶體直徑h的比率（i/ h)，優(yōu)選適度減小蒸鍍初期的蒸鍍用基板43的升溫速度，例如，優(yōu)選地，將蒸鍍用基板43的 升溫速度控制成，將根部3 μ m程度的熒光體蒸鍍于蒸鍍用基板43為止的基板溫度相對(duì)于 蒸鍍用基板43的蒸鍍起始時(shí)的溫度之差在100°C以內(nèi)。這里，如果針對(duì)柱狀晶體的高度，則 "蒸鍍起始時(shí)"是柱狀晶體的高度為〇 μ m的時(shí)點(diǎn)，同理，"將根部3 μ m程度的熒光體蒸鍍于 蒸鍍用基板43為止"是直到柱狀晶體的高度變成3 μπι為止。其后，在直到蒸鍍結(jié)束期間， 優(yōu)選將蒸鍍用基板43的溫度維持在150°C~320°C。
[0285] 在閃爍體層含有包含基底層在內(nèi)的兩層以上的層的情況下，為了將基底層的膜厚 控制在上述優(yōu)選的范圍內(nèi)，只要調(diào)節(jié)填充在具備基底層蒸鍍用加熱裝置的容器內(nèi)的熒光體 母材化合物等的量、進(jìn)一步地/或者調(diào)節(jié)開閉擋板48的時(shí)機(jī)及開放、阻擋時(shí)間來進(jìn)行蒸鍍 即可。在此，若制造形成含有根部彼此獨(dú)立的柱狀晶體的閃爍體層，且能夠提供亮度更高、 清晰性更優(yōu)異的X射線圖像等放射線圖像的閃爍體面板，在形成基底層期間，優(yōu)選將蒸鍍 用基板43的溫度設(shè)為5°C~320°C，更優(yōu)選設(shè)為15°C~50°C，特別優(yōu)選不將蒸鍍用基板53 加熱而是將蒸鍍用基板53的溫度設(shè)為15°C~室溫（通常25°C )程度。
[0286] 另外，基底層以外的層，通過在具備加熱裝置的容器內(nèi)填充熒光體母材化合物及 激活劑的混合物，或者將熒光體母材化合物及激活劑分別填充在具備加熱裝置的不同容器 內(nèi)，然后應(yīng)用與上述同樣的蒸鍍條件、方法使蒸鍍晶體沉積在基底層上來形成?；讓右酝?的層的膜厚的調(diào)節(jié)可通過調(diào)節(jié)填充在具備基底層以外的層形成用的加熱裝置的容器內(nèi)的 熒光體母材化合物（及激活劑）的量、進(jìn)一步地/或者調(diào)節(jié)開閉擋板48的時(shí)機(jī)及開放、阻 擋時(shí)間來進(jìn)行。
[0287] 遮光層的形成
[0288] 作為用遮光層覆蓋支承體的一側(cè)主面的整個(gè)面的方法，沒有特別限制，例如可舉 出：通過蒸鍍、濺射而將遮光層形成于支承體的一側(cè)主面整體的方法、或者將金屬箱即遮光 層貼合于支承體的一側(cè)主面整體的方法，但從遮光層向支承體的粘附性的觀點(diǎn)來看，最優(yōu) 選通過濺射而將遮光層形成于支承體的一側(cè)主面整體的方法。
[0289] 顏料層的形成
[0290] 作為用顏料層覆蓋支承體的一側(cè)主面整體的方法，可通過將含有上述顏料及溶劑 等的顏料層形成用涂布液涂布、干燥于支承體的一側(cè)主面上整體的方法來形成。
[0291] 反射層的形成
[0292] 反射層可通過利用真空蒸鍍、濺射蒸鍍、或電鍍使反射層用原材料直接附著在所 期望的層上例如支承體上來形成，但從生產(chǎn)效率的觀點(diǎn)來看，優(yōu)選濺射蒸鍍。
[0293] 反射層用保護(hù)層的形成
[0294] 從提高反射層用保護(hù)層的對(duì)反射層及閃爍體層的柱狀晶體的粘接性或提高閃爍 體面板的生產(chǎn)效率的觀點(diǎn)來看，反射層用保護(hù)層優(yōu)選將成為反射層用保護(hù)層的原材料的樹 脂等溶解于溶劑而得到的涂料進(jìn)行涂布、干燥而形成。作為溶解于溶劑的樹脂，在反射層用 保護(hù)層的對(duì)反射層及閃爍體層的柱狀晶體的膜附方面，優(yōu)選在反射層的說明部分所述的、 玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為30~100°C的聚合物。
[0295] 作為用于形成反射層用保護(hù)層的涂布液所使用的溶劑，可舉出：甲醇、乙醇、正丙 醇、正丁醇等低級(jí)醇；二氯甲烷、氯乙烯等含有氯原子的烴；丙酮、甲基乙基甲酮、甲基異丁 基酮等酮；甲苯、苯、環(huán)己烷、環(huán)己酮、二甲苯等芳香族化合物；醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁 酯等低級(jí)脂肪酸和低級(jí)醇的酯；二噁烷、乙二醇單乙醚、乙二醇單甲醚等醚；及它們的混合 物。
[0296] 耐濕保護(hù)臘的形成
[0297] 耐濕保護(hù)膜只要按照現(xiàn)有公知的方法形成于閃爍體面板的規(guī)定的區(qū)域即可。
[0298] 在耐濕保護(hù)膜為熱熔敷層的情況下，例如，通過用配置于未密封的閃爍體面板的 上下的熱熔敷層用樹脂薄膜夾住閃爍體面板，然后在減壓氣氛中將上下的樹脂薄膜接觸的 端部熔敷而密封，從而能夠在閃爍體面板的外周整體上形成耐濕保護(hù)膜。
[0299] 另外，在使用聚對(duì)二甲苯等耐濕膜作為耐濕保護(hù)膜的情況下，通過將包含形成有 閃爍體層的支承體的閃爍體面板設(shè)置在CVD裝置的蒸鍍室內(nèi)，然后使其在二聚對(duì)二甲苯升 華后的蒸汽中露出，從而能夠得到由聚對(duì)二甲苯膜覆蓋外周整體的閃爍體面板。
[0300] 第一放射線檢測器的制誥方法
[0301] 對(duì)于本發(fā)明的第一放射線檢測器的制造方法，只要無損本發(fā)明的目的，就沒有特 別限制，基本上可采用與現(xiàn)有公知的放射線檢測器的制造方法相同的方法。
[0302] 例如，通過將光電轉(zhuǎn)換元件面板與上述閃爍體面板耦合，能夠得到本發(fā)明的第一 放射線檢測器。
[0303] 閃爍體面板的接合面是相對(duì)于支承體成為閃爍體層側(cè)的最表面層，根據(jù)閃爍體面 板的結(jié)構(gòu)，或是閃爍體層面，或是設(shè)置在閃爍體層上的耐濕保護(hù)膜的面。
[0304] 光電轉(zhuǎn)換元件面板和閃爍體層也可以經(jīng)由中間樹脂層耦合。
[0305] 下面，以閃爍體面板的接合面為閃爍體層，將閃爍體面板的閃爍體層面和光電轉(zhuǎn) 換元件面板面接合的情況為例進(jìn)行說明。
[0306] 將上述閃爍體面板和光電轉(zhuǎn)換元件面板耦合時(shí)，優(yōu)選選擇能夠抑制在兩者接合面 的光擴(kuò)散的貼合方法。通過抑制在上述接合面的光散射，能夠抑制要得到的放射線圖像的 清晰性劣化。作為此類貼合方法，例如可舉出：通過任意加壓裝置使閃爍體面板的閃爍體層 面和光電轉(zhuǎn)換元件面板面貼緊的方法、或利用具有閃爍體面板的閃爍體的折射率的值和光 電轉(zhuǎn)換元件面板的受光元件的折射率的值的中間的值的折射率的接合劑進(jìn)行接合的方法 等。
[0307] 作為將閃爍體面板的閃爍體層面和光電轉(zhuǎn)換元件面板面接合的接合劑，例如可舉 出粘接劑、光學(xué)潤滑脂、及對(duì)閃爍體面板和光電轉(zhuǎn)換元件面板具有粘結(jié)性的光學(xué)油脂等。
[0308] 作為粘接劑，例如可舉出：丙稀fe系粘接劑、環(huán)氧系粘接劑、娃系粘接劑等常溫固 化型（RTV型）的粘接劑、或含有具有彈性的粘接樹脂的橡膠系粘接劑。
[0309] 作為丙烯酸系粘接劑，也可以使用含有在主鏈或側(cè)鏈上帶有硅成分的丙烯酸系聚 合物的粘接劑。
[0310] 作為硅粘接劑，可舉出過氧化物交聯(lián)式或加成縮合式的硅粘接劑，也可以單體地 或混合使用它們。
[0311] 作為橡膠系粘接劑，可舉出：含有苯乙烯異戊二烯苯乙烯等嵌段共聚物、或聚丁二 烯、聚丁烯等均聚物的合成橡膠系粘接劑、及天然橡膠系粘接劑等。作為市售的橡膠系粘接 劑的例子，可優(yōu)選舉出一液型RTV橡膠KE420 (信越化學(xué)工業(yè)（株）制）等。
[0312] 上述粘接劑可以單獨(dú)使用一種，也可以混合使用兩種以上。例如，可混合使用丙烯 酉支系粘接劑或橡膠系粘接劑。
[0313] 光學(xué)油脂只要透明性高且具有粘結(jié)性，就可使用包含市售品在內(nèi)的公知的任一種 光學(xué)油脂。例如，優(yōu)選使用KF96H(100萬CS :信越化學(xué)工業(yè)（株）制）、CArgille Immersion Oil Type37(CArgille(株）制、折射液）等。
[0314] 在用粘接劑將閃爍體面板和光電轉(zhuǎn)換元件面板貼合的情況下，通常將閃爍體面 板、粘接劑、光電轉(zhuǎn)換元件面板依次層疊，然后從相對(duì)于層疊體的主面垂直的方向，對(duì)所得 到的層疊體施加10~500g/cm 2的壓力，直到粘接劑固化為止。通過加壓，從粘接劑層中去 除氣泡。在使用熱熔樹脂作為粘接劑的情況下，一邊從相對(duì)于層疊體的主面垂直的方向?qū)?上述層疊體施加 10~500g/cm2的壓力，一邊將該層疊體加熱到比熱熔樹脂的熔融起始溫 度高10°C以上的溫度，靜置1~2小時(shí)后，慢慢冷卻。當(dāng)急冷時(shí)，因熱熔樹脂的收縮應(yīng)力，會(huì) 有光電轉(zhuǎn)換元件面板所含的受光元件受損的傾向。優(yōu)選以20°C /hour以下的速度冷卻到 50°C以下。
[0315] 另外，與在閃爍體面板和光電轉(zhuǎn)換元件面板的接合面的光擴(kuò)散所引起的放射線圖 像的清晰性劣化有關(guān)的問題，也可通過對(duì)閃爍體面板的閃爍體層面及光電轉(zhuǎn)換元件面板的 受光元件面實(shí)施防散射加工來解決。防散射加工例如可通過在閃爍體面板的閃爍體層面上 設(shè)置光擴(kuò)散防止層，或者在閃爍體面板的閃爍體層面及光電轉(zhuǎn)換元件面板的受光元件面上 的至少一方設(shè)置反射防止層，或者將相互相對(duì)的閃爍體層面及光電轉(zhuǎn)換元件面板的受光元 件面中的任一面或雙方的表面粗糙度（Ra)制成0. 5 μπι以上5. 0 μπι以下來實(shí)施。
[0316] 另外，將這些防散射加工和上述的已知的接合方法組合時(shí)，能夠更有效地防止在 上述接合面的光散射，能夠得到清晰性及其均勻性更優(yōu)異的放射線圖像。
[0317] 這里，光擴(kuò)散防止層對(duì)于波長550nm的光具有60%以上99%以下的透光率，且具 有使在光擴(kuò)散防止層中以較長的光路進(jìn)行傳播的發(fā)光光的強(qiáng)度衰減的功能。從閃爍體面板 的閃爍體層內(nèi)的發(fā)光位置直接射向光電轉(zhuǎn)換元件面板的受光元件的發(fā)光光因?yàn)樵诠鈹U(kuò)散 防止層中的發(fā)光光的光路短，所以在光擴(kuò)散防止層中，強(qiáng)度幾乎不下降。在光擴(kuò)散防止層內(nèi) 以與受光元件面接近平行的角度行進(jìn)的散射光等因?yàn)樵诠鈹U(kuò)散防止層中的光路長，所以在 光擴(kuò)散防止層內(nèi)被有效地去除。根據(jù)被設(shè)置的位置，光擴(kuò)散防止層也作為上述的耐濕保護(hù) 膜或反射層用保護(hù)層發(fā)揮功能。
[0318] 作為上述光擴(kuò)散防止層，例如可舉出樹脂層，作為該樹脂層所含的樹脂，例如可舉 出與作為形成反射層的粘合劑樹脂而例示的樹脂同樣的樹脂等。光擴(kuò)散防止層所含的樹脂 與形成反射層的粘合劑樹脂同樣地，可以由單獨(dú)的樹脂構(gòu)成，也可以由兩種以上的樹脂的 混合物構(gòu)成。另外，光擴(kuò)散防止層也可以為由通過CVD法（氣相化學(xué)生長法）而形成的聚 對(duì)二甲苯膜構(gòu)成的層，若光擴(kuò)散防止層為由這種聚對(duì)二甲苯膜構(gòu)成的層，向閃爍體面板的 閃爍體層面或受光元件面的形成就會(huì)容易，從還具有作為該閃爍體層的耐濕保護(hù)膜或反射 層用保護(hù)層的功能等觀點(diǎn)來看，特別優(yōu)選。在這種情況下，聚對(duì)二甲苯膜除作為光散射防止 層發(fā)揮功能以外，也作為耐濕保護(hù)膜或反射層用保護(hù)層發(fā)揮功能，因此不必另外設(shè)置耐濕 保護(hù)膜或反射層用保護(hù)層。另外，聚對(duì)二甲苯膜也作為防反射層發(fā)揮功能。
[0319] 在通過使光擴(kuò)散防止層含有顏色材料來調(diào)節(jié)光擴(kuò)散防止層的透光率的情況下，作 為顏色材料，從吸收在各波長的光中更容易發(fā)生光散射的紅色的長波光這一觀點(diǎn)來看，優(yōu) 選吸收紅色的長波光的藍(lán)色的著色材料。作為藍(lán)色的著色材料，可舉出與作為顏料層的藍(lán) 色顏料而例示的顏料同樣的顏料。
[0320] 防反射層通過防止在閃爍體面板的閃爍體層產(chǎn)生的發(fā)光光的反射，來防止該發(fā)光 光在閃爍體面板的閃爍體層面一光電轉(zhuǎn)換元件面板的受光元件面之間反復(fù)反射，在閃爍體 層面一受光元件面之間進(jìn)行傳播等的現(xiàn)象，進(jìn)而防止在遠(yuǎn)離發(fā)光位置的位置的受光元件部 的像素區(qū)域被誤檢測。防反射層在被設(shè)置在閃爍體層面上的情況下，是具有比閃爍體層的 折射率還小的折射率的樹脂層，在被設(shè)置在受光元件面上的情況下，是具有比受光元件的 折射率還小的折射率的樹脂層。作為防反射層即樹脂層所含的樹脂，可舉出與作為形成反 射層的粘合劑樹脂而例示的樹脂同樣的樹脂等。光擴(kuò)散防止層所含的樹脂與形成反射層 的粘合劑樹脂同樣地，可以由單獨(dú)的樹脂構(gòu)成，也可以由兩種以上的樹脂的混合物構(gòu)成。另 外，從與光擴(kuò)散防止層為由通過CVD法（氣相化學(xué)生長法）而形成的聚對(duì)二甲苯膜構(gòu)成的 層的實(shí)施方式中所述的觀點(diǎn)相同的觀點(diǎn)來看，防反射層優(yōu)選為由通過CVD法（氣相化學(xué)生 長法）而形成的聚對(duì)二甲苯膜構(gòu)成的層。
[0321] 從還能夠賦予作為上述光擴(kuò)散防止層的功能的觀點(diǎn)來看，防反射層對(duì)于波長 550nm的光的透光率優(yōu)選以成為60%以上99%以下的方式進(jìn)行設(shè)計(jì)。
[0322] 如果將相互相對(duì)的閃爍體層面及光電轉(zhuǎn)換元件面板面中的任一面或雙方的表面 粗糙度制成〇. 5 μπι以上5. 0 μπι以下，由于能夠抑制光的入射面的凹凸造成的光的正反射 及全反射，因此能夠有效地防止產(chǎn)生于閃爍體層的發(fā)光光在閃爍體層面一受光元件面之間 的光擴(kuò)散。這里，"表面粗糙度"為"算術(shù)平均粗糙度（Ra)"。
[0323] 另外，對(duì)于設(shè)置在閃爍體層面上或光電轉(zhuǎn)換元件面板上的光擴(kuò)散防止層或防反射 層，從能夠得到防止上述光擴(kuò)散的復(fù)合效果的觀點(diǎn)來看，更優(yōu)選分別將與閃爍體面板面或 光電轉(zhuǎn)換元件面板面接觸的面（表面）的算術(shù)平均粗糙度設(shè)為〇. 5 μπι以上5. 0 μπι以下。
[0324] 第二放射線檢測器的制誥方法
[0325] 與第一放射線檢測器的制造方法相比，本發(fā)明的第二放射線檢測器的制造方法在 使用同樣的閃爍體層、反射層、遮光層、顏料層及光電轉(zhuǎn)換元件面板方面、以及它們的形成 方法方面等是相同的，區(qū)別在于，不是將閃爍體層形成在支承體上，而是形成在光電轉(zhuǎn)換元 件面板上。另外，在本發(fā)明的第二放射線檢測器的制造方法中形成反射層、遮光層、顏料層 的位置，也與本發(fā)明的第一放射線檢測器的制造方法不同，它們的位置不是在支承體和閃 爍體層之間、或支承體的成為非閃爍體層側(cè)的面上，而是在閃爍體層的成為非光電轉(zhuǎn)換元 件面板側(cè)的面上。
[0326] 此外，在使用如圖6或圖7所示的蒸鍍裝置進(jìn)行構(gòu)成第二放射線檢測器的閃爍體 層的形成的情況下，只要使用光電轉(zhuǎn)換元件面板作為蒸鍍用基板即可，且只要將光電轉(zhuǎn)換 元件面板面中的、設(shè)有光電轉(zhuǎn)換元件的一側(cè)的面作為被蒸鍍面進(jìn)行蒸鍍即可。
[0327] 此時(shí)，為了防止光電轉(zhuǎn)換元件面板因加熱而受損傷，也可以采用在將未形成閃爍 體層121'的一側(cè)固定于托架54的狀態(tài)下，邊冷卻光電轉(zhuǎn)換元件面板20邊將形成閃爍體層 121'的一側(cè)的溫度保持在150~320°C的方法。這里，冷卻光電轉(zhuǎn)換元件面板20的具體裝 置沒有特別限定，例如，可通過使水或制冷劑在配置于托架54內(nèi)部的配管（圖示略）流動(dòng)、 及/或通過使用珀耳帖元件等冷卻光電轉(zhuǎn)換元件面板20。
[0328] 中間樹脂層優(yōu)選將使樹脂溶解于溶劑而得到的涂布液涂布、干燥而形成。
[0329] 作為用于制作中間樹脂層的涂布液所使用的溶劑，可使用與閃爍體面板的制造方 法的說明部分中所述的、為形成反射層用保護(hù)層而使用的溶劑同樣的溶劑。
[0330] 另外，中間樹脂層也可以通過使用CVD裝置等而在光電轉(zhuǎn)換元件面板上形成例如 聚對(duì)二甲苯等膜來形成。
[0331] 【實(shí)施例】
[0332] 通過下面的實(shí)施例進(jìn)一步對(duì)本發(fā)明進(jìn)行具體說明。此外，