需改變倍率(視野)，因此例如⑴在被測物含有凹凸的情況下、和/或⑵在從外部環(huán)境施加微小振動的情況下等，也都能夠高精度測定該被測物的平面內(nèi)尺寸。
[0084](形狀測定裝置Ia達(dá)到的效果)
[0085]如上所述，形狀測定裝置Ia不必具備切換低倍率的成像光學(xué)系統(tǒng)和高倍率的成像光學(xué)系統(tǒng)、或改變成像光學(xué)系統(tǒng)的倍率的機構(gòu)(利用簡單的結(jié)構(gòu))，就能夠?qū)崿F(xiàn)與調(diào)焦相同的功能。
[0086]〔實施方式2〕
[0087]基于圖8說明本實用新型的第二實施方式(實施方式2)。此外，在實施方式2中僅說明在上述實施方式I上追加的結(jié)構(gòu)、以及與實施方式I的結(jié)構(gòu)不同的結(jié)構(gòu)。即，實施方式I中記載的結(jié)構(gòu)能夠全部包含在實施方式2中(反之亦然)。另外，實施方式I中記載的用語的定義，在實施方式2中也是相同的。
[0088]圖8是通過明示從光源5射出的光的行進(jìn)路徑來概略性表示形狀測定裝置Ib的原理的概略圖。實施方式2涉及的形狀測定裝置Ib在照明光學(xué)系統(tǒng)30中包含的第二照明透鏡組33和、成像光學(xué)系統(tǒng)40中包含的第一成像透鏡組42作為一個光學(xué)系統(tǒng)(共有透鏡51)而共有這一點，與實施方式I涉及的形狀測定裝置Ia不同。形狀測定裝置Ib取代第二照明透鏡組33和第一成像透鏡組42而具備共有透鏡51，由此能夠進(jìn)一步實現(xiàn):(I)抑制裝置的制造成本、和/或(2)減小裝置的尺寸這樣的效果。
[0089]〔實施方式3〕
[0090]基于圖9說明本實用新型的第三實施方式(實施方式3)。此外，在實施方式3中僅說明在上述的實施方式I或2上追加的結(jié)構(gòu)，以及與實施方式I或2不同的結(jié)構(gòu)。S卩，實施方式I或2中記載的結(jié)構(gòu)能夠全部包含在實施方式3中(反之亦然)。另外，實施方式I或2中記載的用語的定義，在實施方式3中也是相同的。
[0091]圖9是通過明示從光源5射出的光的行進(jìn)路徑來概略性表示形狀測定裝置Ic的原理的概略圖。實施方式3涉及的形狀測定裝置Ic具備鏡子10，來取代實施方式I中涉及的形狀測定裝置Ia或?qū)嵤┓绞?中涉及的形狀測定裝置Ib具備的半透半反鏡9。該鏡子10反射從照明光學(xué)系統(tǒng)30射出的光，并使所述光入射至成像光學(xué)系統(tǒng)40中。S卩，相對于形狀測定裝置Ia和形狀測定裝置Ib利用了落射照明這一情況，形狀測定裝置Ic利用了透射照明。由此，形狀測定裝置Ic進(jìn)一步實現(xiàn)能夠高精度測定被測物W的輪廓這樣的效果。
[0092]〔實施方式4〕
[0093]基于圖10說明本實用新型的第四實施方式(實施方式4)。此外，在實施方式4中僅說明在上述的實施方式I?3上追加的結(jié)構(gòu)、以及與實施方式I?3的結(jié)構(gòu)不同的結(jié)構(gòu)。SP，記載于實施方式I?3中的結(jié)構(gòu)也能夠全部包含在實施方式4中(反之亦然)。此外，在實施方式I?3中記載的用語的定義在實施方式4中也是相同的。
[0094]圖10是表示形狀測定裝置Id(測量控制部7)在測定具有厚度的被測物W(在側(cè)面有傷痕)時所執(zhí)行的處理的一例的流程圖。首先，測量控制部7調(diào)整照明系統(tǒng)光圈31和成像系統(tǒng)光圈41，并較深地設(shè)定景深(Sll)。其次，測量控制部7通過移動配置面，以將被測物W的側(cè)面(斜面)整體進(jìn)入深度內(nèi)的方式來對齊成像光學(xué)系統(tǒng)40的焦點位置(S12)，并測定被測物W(S13)。
[0095]然后，測量控制部7調(diào)整照明系統(tǒng)光圈31和成像系統(tǒng)光圈41，較高地設(shè)定分辨率(S14) ο最后，測量控制部7以位于被測物W的側(cè)面的傷痕的附近進(jìn)入深度內(nèi)的方式來對齊成像光學(xué)系統(tǒng)40的焦點位置(S15)，并測定被測物W(S16)。
[0096]如上所述，形狀測定裝置Id通過簡單的結(jié)構(gòu)就能夠?qū)崿F(xiàn)與調(diào)焦相同的功能，因此，即使是在測定具有厚度的被測物W(在側(cè)面有傷痕)的情況下，僅僅調(diào)整照明系統(tǒng)光圈31和成像系統(tǒng)光圈41，就能夠?qū)崿F(xiàn)恰當(dāng)?shù)販y定側(cè)面整體和傷痕這兩者的效果。
[0097]〔基于軟件的實現(xiàn)例〕
[0098]形狀測定裝置la、形狀測定裝置lb、形狀測定裝置lc、以及形狀測定裝置Id所分別具備的測量控制部7可以通過在集成電路(IC芯片)等上形成的邏輯電路(硬件)來實現(xiàn)，還可以使用CPU (Central Processing Unit:中央處理器)而通過軟件來實現(xiàn)。后者的情況下，上述測量控制部7具備:執(zhí)行實現(xiàn)測量控制功能的軟件即形狀測定程序的命令的CPU、以計算機(或者CPU)能夠讀取的方式記錄了上述形狀測定程序及各種數(shù)據(jù)的ROM (Read Only Memory:只讀存儲器)或存儲裝置(將這些稱為“記錄介質(zhì)”)、擴展上述形狀測定程序的RAM (Random Access Memory:隨機存取存儲器)等。而且，通過計算機(或者CPU)從上述記錄介質(zhì)讀取并執(zhí)行上述形狀測定程序，實現(xiàn)本實用新型的目的。作為上述記錄介質(zhì)可以使用“非臨時的有形介質(zhì)”，例如磁帶、光盤、卡、半導(dǎo)體存儲器、可編程邏輯電路等。另外，上述形狀測定程序也可以經(jīng)由能夠傳輸該形狀測定程序的任意的傳輸介質(zhì)(通信網(wǎng)絡(luò)、廣播電波等)而提供給上述計算機。本實用新型還能夠通過利用電傳輸來完成上述形狀測定程序的、以嵌入到載波的數(shù)據(jù)信號的方式而得以實現(xiàn)。
[0099]具體而言，本實用新型的實施方式涉及的形狀測定程序是測定被測物的形狀的形狀測定程序，由計算機(形狀測定裝置)實現(xiàn)測量控制功能。上述測量控制功能能夠由上述的測量控制部7來實現(xiàn)。詳細(xì)情況如上所述。
[0100]〔備注事項〕
[0101]本實用新型并非限定于上述的各個實施方式，在權(quán)利要求公開的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變更，恰當(dāng)?shù)亟M合不同實施方式分別公開的技術(shù)方案而得到的實施方式也包含在本實用新型的技術(shù)范圍內(nèi)。進(jìn)而，通過組合各實施方式分別公開的技術(shù)方案能夠形成新的技術(shù)特征。
[0102]〔工業(yè)可利用性〕
[0103]本實用新型能夠廣泛適用于測定被測物的形狀的形狀測定裝置中。
【主權(quán)項】
1.一種測定被測物的形狀的形狀測定裝置，其特征在于，具備: 照明光學(xué)系統(tǒng)，其包含能夠調(diào)節(jié)從光源射出的光的量的照明系統(tǒng)光圈，并且在所述被測物一側(cè)為遠(yuǎn)心；以及 成像光學(xué)系統(tǒng)，其包含成像系統(tǒng)光圈，所述成像系統(tǒng)光圈使所述被測物和接受由該被測物投影的圖像的受光面成光學(xué)共軛的關(guān)系，并且所述成像系統(tǒng)光圈與所述照明系統(tǒng)光圈成共軛關(guān)系，所述成像光學(xué)系統(tǒng)在該被測物一側(cè)為遠(yuǎn)心， 所述照明系統(tǒng)光圈和所述成像系統(tǒng)光圈中的至少一者具備可變機構(gòu)。2.如權(quán)利要求1所述的形狀測定裝置，其特征在于， 所述形狀測定裝置還具備:對從所述光源射出的光的強度分布進(jìn)行均勻化的均勻化部， 所述均勻化部的射出面和所述被測物具有光學(xué)共軛的關(guān)系。3.如權(quán)利要求1或2所述的形狀測定裝置，其特征在于， 所述形狀測定裝置還具備:反射穿過了所述照明系統(tǒng)光圈的光、并透過照射到所述被測物的光的半透半反鏡， 所述照明光學(xué)系統(tǒng)通過將由所述半透半反鏡反射的光落射到所述被測物來進(jìn)行照明。
【專利摘要】本實用新型提供一種形狀測定裝置，其通過簡單的結(jié)構(gòu)而以維持高分辨的狀態(tài)加大景深，所述形狀測定裝置包括：照明光學(xué)系統(tǒng)，其包含能夠調(diào)節(jié)從光源射出的光的量的照明系統(tǒng)光圈，并且在被測物一側(cè)為遠(yuǎn)心；以及成像光學(xué)系統(tǒng)，其包含成像系統(tǒng)光圈，所述成像系統(tǒng)光圈使被測物和接受由該被測物投影的圖像的受光面成光學(xué)共軛的關(guān)系，并且所述成像系統(tǒng)光圈與照明系統(tǒng)光圈成共軛關(guān)系，所述成像系統(tǒng)光圈在該被測物一側(cè)為遠(yuǎn)心；照明系統(tǒng)光圈和成像系統(tǒng)光圈中的至少一者具備可變機構(gòu)。
【IPC分類】G01B11/24
【公開號】CN204831214
【申請?zhí)枴緾N201520431706
【發(fā)明人】吉田太郎, 上原誠
【申請人】株式會社V技術(shù)
【公開日】2015年12月2日
【申請日】2015年6月19日