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      掩膜板設(shè)計(jì)中劃片槽結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的檢查方法_2

      文檔序號(hào):9810557閱讀:來源:國知局
      ark的尺寸大小 (長(zhǎng)度和高度)。Cut Layer表示該Mark區(qū)域不應(yīng)出現(xiàn)的劃片槽層次。Note是附注,說明 SCB002C1是為"for metal cap","for metal cap"表不此mark應(yīng)用于可選層次中;說明 SCB0361是"for 3AL process","for 3AL process"表示第3層錯(cuò)及以上的工藝要加此 mark。Number表示此Mark需要在劃片槽上放置的個(gè)數(shù)(如x4,是指劃片槽外圍上下左右 四個(gè)方向都需要放置該Mark。
      [0040] 步驟14、結(jié)合步驟11所確定的所述最低和最高金屬層數(shù)、步驟12確定的所述可選 層次以及步驟13所得到的信息進(jìn)行算法組合形成所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件所要求格式的各所述 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或各所述測(cè)試圖形的信息。
      [0041] 以工藝CZ6H工藝中所采用的類型為BOX Mark的兩個(gè)名稱為SCB002C1和SCB036 的box mark說明如下,其中表二為得到的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或各所述測(cè)試圖形的信息表。
      [0042] 表二
      [0043]
      [0044] 表二中Number-欄表示此Mark需要在劃片槽上放置的個(gè)數(shù)為4。For metal process-欄用于表示對(duì)應(yīng)mark應(yīng)用于的金屬層次;采用如下算法得到:如圖2所示,是本 發(fā)明實(shí)施例方法步驟一中對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或測(cè)試圖形應(yīng)用于金屬層的算法示意圖;由CZ6H工藝 應(yīng)用的金屬層數(shù)設(shè)置即最低2層鋁,最高4層鋁可知,可以包括了 3層金屬,分別對(duì)應(yīng)于圖 2中的金屬層二、三和四。設(shè)置二進(jìn)制數(shù)D2D1D0來表示對(duì)應(yīng)的標(biāo)記在這3層金屬中的應(yīng)用 情形,且D2、Dl、D0分別和金屬層二、三和四對(duì)應(yīng);二進(jìn)制數(shù)D2D1D0的設(shè)置規(guī)則為,如果某 一層金屬中應(yīng)用有對(duì)應(yīng)的mark,則二進(jìn)制數(shù)D2D1D0對(duì)應(yīng)的數(shù)為1,否則為0,如:一個(gè)mark, 當(dāng)金屬層數(shù)大于等于3時(shí)放置,那么D2D1D0為110,用十進(jìn)制表示為6,這種情況一般描述 為"for 3AL process"?,F(xiàn)分別把各種情形羅列如下:
      [0045] "for 3AL process":3鋁、及其以上工藝要加此mark,這時(shí)D2D1D0為6 ;
      [0046] "for 3AL only" :僅 3 鋁要加此 mark,這時(shí) D2D1D0 為 2 ;
      [0047] "for 2AL and 4AL process" :2 錯(cuò)、4 錯(cuò)加此 mark 這時(shí) D2D1D0 為 5 ;
      [0048] 特別的"一"表示全金屬層次,即2-4鋁加此mark這時(shí)D2D1D0為7 ;
      [0049] "for metal cap" :表不此 mark 為 option mark,與金屬層無關(guān),D2D1D0 為 0。
      [0050] Box mark 一欄表示對(duì)應(yīng)的mark的類型是否為Box mark,是為1,否為0。
      [0051] Option layer index 一欄對(duì)應(yīng)于可選層次情況,對(duì)應(yīng)值的設(shè)置為:
      [0052] 如工藝CZ6H包括的可選層次為:0^?、]\^六1^(:、?01^、1^0^,分別對(duì)應(yīng)序列號(hào) 1、2、3、4 ;根據(jù)mark的放置情況添加 index number :
      [0053] 如 "for metal cap" 即 METALC 對(duì)應(yīng)于 2,即 index number 為 2 ;
      [0054] 如果支持兩個(gè)或以上的可選層次時(shí)用","隔開,如"for metal cap (romcode) "對(duì) 應(yīng)的 index number 為 2, 4 〇
      [0055] 表二中 "for 3AL process" 和可選層次無關(guān),故 SCB0361 的 Option layer index 設(shè)置為0。
      [0056] 表一和表二對(duì)應(yīng)于本發(fā)明實(shí)施例方法所采用的算法組合的實(shí)例,其它任何能夠分 辨出各mark的信息組合如各mark的數(shù)量、名稱、應(yīng)用的層次、物理含義等信息組合都能應(yīng) 用于本發(fā)明實(shí)施例方法中。
      [0057] 步驟15、整理步驟14進(jìn)行算法組合形成的各所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或各所述測(cè)試圖形的 信息,每一行對(duì)應(yīng)于一個(gè)各所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或各所述測(cè)試圖形的信息記錄,由對(duì)應(yīng)工藝的所 有的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述測(cè)試圖形的信息記錄組成對(duì)應(yīng)的工藝的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件。
      [0058] 表三
      [0059]
      [0060] 如上面表三所示,表示中分別用一行列出了兩個(gè)Mark即SCB002C1和SCB0361的 信息,當(dāng)一個(gè)工藝中包括了多個(gè)Mark時(shí),每個(gè)Mark用一行記錄表示,所有的Mark所形成的 如表三所示的記錄就組成的對(duì)應(yīng)的工藝的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件。而當(dāng)實(shí)際工藝的Mark會(huì)由 增加或減少時(shí),只需對(duì)工藝的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件的對(duì)應(yīng)Mark記錄進(jìn)行增加或刪除即可。
      [0061] 步驟二、將各所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件導(dǎo)入到數(shù)據(jù)庫中進(jìn)行存儲(chǔ),所述數(shù)據(jù)庫中的各所 述標(biāo)準(zhǔn)配置文件按照對(duì)應(yīng)的工藝的名稱區(qū)分。
      [0062] 較佳為,所述數(shù)據(jù)庫為sqlite數(shù)據(jù)庫。本發(fā)明實(shí)施例能根據(jù)需要對(duì)存儲(chǔ)于所述數(shù) 據(jù)庫中的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件進(jìn)行修改、追加或刪除。追加即為增加一個(gè)全新工藝所對(duì)應(yīng)的 所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件;刪除即為刪除一個(gè)不再使用的工藝所對(duì)應(yīng)的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件;修改 即對(duì)已經(jīng)使用過的工藝的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件進(jìn)行修改,當(dāng)實(shí)際工藝的Mark會(huì)由增加或減 少時(shí),只需對(duì)工藝的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件的對(duì)應(yīng)Mark記錄進(jìn)行增加或刪除即可。
      [0063] 步驟三、根據(jù)實(shí)際的工藝需要進(jìn)行掩膜板設(shè)計(jì),在所述掩膜板設(shè)計(jì)中的劃片槽結(jié) 構(gòu)設(shè)計(jì)完成后,采用圖形用戶界面方式提取需要檢查的所述劃片槽結(jié)構(gòu)的版圖數(shù)據(jù),解析 所述劃片槽結(jié)構(gòu)的版圖數(shù)據(jù)的各類對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和測(cè)試圖形的信息;根據(jù)設(shè)計(jì)的所述劃片槽結(jié) 構(gòu)的版圖數(shù)據(jù),本領(lǐng)域技術(shù)人員很容易通過圖形用戶界面方式提取對(duì)應(yīng)的所述劃片槽結(jié)構(gòu) 的版圖數(shù)據(jù)并通過解析函數(shù)解析出所述劃片槽結(jié)構(gòu)的版圖數(shù)據(jù)的各類對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和測(cè)試圖 形的信息。
      [0064] 然后從所述數(shù)據(jù)庫中選擇所述掩膜板設(shè)計(jì)中的工藝所對(duì)應(yīng)的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件, 將解析的所述劃片槽結(jié)構(gòu)的版圖數(shù)據(jù)的各類對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的信息和所對(duì)應(yīng)的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文 件中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的信息進(jìn)行對(duì)比操作,將解析的所述劃片槽結(jié)構(gòu)的版圖數(shù)據(jù)的各類測(cè)試圖 形的信息和所對(duì)應(yīng)的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件中的測(cè)試圖形的信息進(jìn)行對(duì)比操作,并將所述對(duì)比 操作的檢查結(jié)果輸出。
      [0065] 本發(fā)明實(shí)施例中,當(dāng)步驟三中的所述掩膜板設(shè)計(jì)所對(duì)應(yīng)的實(shí)際工藝為以前所沒有 使用過的新工藝時(shí),該新工藝所對(duì)應(yīng)的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件不存在于所述數(shù)據(jù)庫中,需要進(jìn) 行步驟一和二將該新工藝所對(duì)應(yīng)的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件導(dǎo)入到所述數(shù)據(jù)庫。
      [0066] 當(dāng)步驟三中的所述掩膜板設(shè)計(jì)所對(duì)應(yīng)的實(shí)際工藝為以前使用過的舊工藝時(shí),該舊 工藝所對(duì)應(yīng)的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件存在于所述數(shù)據(jù)庫中,此時(shí)需要比較所述實(shí)際工藝和所述 舊工藝相比是否增加了或刪除了相應(yīng)的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形,如增加了或刪除了 相應(yīng)的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形則需要在所述數(shù)據(jù)庫中對(duì)所述舊工藝的所述標(biāo)準(zhǔn)配 置文件進(jìn)行相應(yīng)的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形的增加或刪減;如果需要比較所述實(shí)際工 藝和所述舊工藝相比所對(duì)應(yīng)的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形都相同,則不需要對(duì)所述舊工 藝的所述標(biāo)準(zhǔn)配置文件進(jìn)行修改。
      [0067] 較佳為,在所述掩膜板設(shè)計(jì)中的劃片槽結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)完成后、采用圖形用戶界面方 式提取需要檢查的所述劃片槽結(jié)構(gòu)的版圖數(shù)據(jù)之前,還包括進(jìn)行所述劃片槽的襯底檢查 (CHKCUT)的工藝步驟,所述劃片槽的襯底檢查屬于擴(kuò)展功能模塊,所述劃片槽的襯底檢查 包括:
      [0068] 步驟31、檢查所述劃片槽結(jié)構(gòu)的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形是否為于所述劃片 槽的中心。如圖3A所示,標(biāo)記101表示所述劃片槽,標(biāo)記102表示所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè) 試圖形,正常情形所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形要放置在所述劃片槽的中心,也即所述對(duì) 準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形的中心和所述劃片槽的中心重合,所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形的 邊緣和所述劃片槽的邊緣之間的上下間距相等、左右間距相等,圖3A正對(duì)應(yīng)于所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記或所述測(cè)試圖形要放置在所述劃片槽的中心的正常情形,此時(shí)檢測(cè)結(jié)果正常。如圖3B所 示,所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形要偏離于所述劃片槽的中心,此時(shí)整個(gè)所述劃片槽的襯 底檢查不通過,需要回到步驟三的初始步驟即根據(jù)實(shí)際的工藝需要重新進(jìn)行掩膜板設(shè)計(jì)。 [0069] 步驟32、檢查所述劃片槽結(jié)構(gòu)上的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形之間是否存在交 疊。如圖3C所示,標(biāo)記102a和102b對(duì)應(yīng)的兩個(gè)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形之間排列 良好,不存在交疊,此時(shí)檢測(cè)結(jié)果正常;如圖3D所示,標(biāo)記102a和102b對(duì)應(yīng)的兩個(gè)所述對(duì) 準(zhǔn)標(biāo)記或所述測(cè)試圖形之間存在交疊,交疊區(qū)域如虛線框103所示,此時(shí)整個(gè)所述劃片槽 的襯底檢查不通過,需要回到步驟三的初始步驟即根據(jù)實(shí)際的工藝需要重新進(jìn)行掩膜板設(shè) 計(jì)。
      [0070] 步驟四、分析所述圖形用戶界面上輸出的檢查結(jié)果并將所述檢查結(jié)果文件保存。 較佳為,分析所述圖形用戶界面
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