本發(fā)明涉及一種供氣及排氣裝置，更詳細而言，涉及一種能夠噴射流動氣體及排出蒸發(fā)氣體的供氣及排氣裝置，以便在RGB熱處理工藝中使附著在基板整個表面的溶劑均勻蒸發(fā)。

背景技術(shù)：

為了使使用液晶、發(fā)光二極管等的顯示器裝置發(fā)出的光表現(xiàn)出色彩，需要使光通過由紅色(Red)、綠色(Green)、藍色(Blue)所構(gòu)成的彩色濾光片(color filter)。通過彩色濾光片的光通過偏光片等的同時透過率得到調(diào)節(jié)。

為了能夠在彩色濾光片上實現(xiàn)RGB，可在濾光片上滴上紅色墨水，并進行熱處理，并伴隨使紅色墨水中的溶劑(Solvent)蒸發(fā)的工藝。接下來，可依次進行在濾光片上滴上綠色墨水、藍色墨水并進行熱處理的工藝。但是，由于紅色、綠色、藍色墨水的成分各不相同，所需的工藝環(huán)境也有所差異，因此實際情況是必須將各個工藝分開進行。由此問題在于，需要分別設(shè)計并配置三個工藝溫度和壓力不同的熱處理裝置，并且可能導(dǎo)致裝置成本、工藝時間增加。

另外，將滴了墨水的濾光片進行熱處理，在墨水內(nèi)的溶劑蒸發(fā)的時候，須要使基板整個表面的溶劑均勻蒸發(fā)。特別是問題在于，在大面積的基板上，基板的棱角部分和基板的中央部分溶劑的蒸發(fā)程度不一樣，會給顯示器的色彩品質(zhì)、彩色濾光片的色彩品質(zhì)帶來負面影響。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

由此，本發(fā)明是為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的諸多問題而提出的，目的是提供一種能夠在一個系統(tǒng)中進行RGB熱處理工藝的熱處理系統(tǒng)。

另外，本發(fā)明的目的是提供一種能夠使基板整個表面的溶劑均勻蒸發(fā)的供氣及排氣裝置，以及包含所述供氣及排氣裝置的熱處理裝置。

為了達到所述目的，就根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的供氣及排氣裝置而言，作為用于顯示器基板的RGB熱處理工藝的供氣及排氣裝置，其特征在于，包括：多個流動氣體噴射部，所述多個流動氣體噴射部外面形成有至少一個噴射流動氣體的流動氣體噴射口，并且所述多個流動氣體噴射部相互間形成一定間隔而配置；以及蒸發(fā)氣體排氣部，所述蒸發(fā)氣體排氣部設(shè)置在所述多個流動氣體噴射部的上部，提供所述顯示器基板上的蒸發(fā)氣體排出到外部的通路。

所述多個流動氣體噴射部的兩端與流動氣體分配部連通，從所述流動氣體分配部的一側(cè)連通的流動氣體供給管接收流動氣體，從而可向所述多個流動氣體噴射部供給。

所述流動氣體分配部的兩內(nèi)側(cè)面交錯突出形成多個流路形成膜，從而將流路劃分為多層，并通過最下層流路向所述多個流動氣體噴射部供給所述流動氣體。

所述流動氣體噴射口朝向所述流動氣體噴射部的下側(cè)方向形成。

所述蒸發(fā)氣體排氣部具有從下部到上部橫截面積越來越小的形狀，所述蒸發(fā)氣體排氣部的上端形成排氣口。

所述流動氣體向下部噴射，使得所述顯示器基板上的蒸發(fā)氣體流動，在所述蒸發(fā)氣體排氣部形成排氣壓力，從而將所述蒸發(fā)氣體吸入。

所述蒸發(fā)氣體通過形成一定間隔而配置的所述流動氣體噴射部的間隙，向所述蒸發(fā)氣體排氣部排氣。

所述供氣及排氣裝置還可包括輔助流動氣體噴射部，所述輔助流動氣體噴射部與所述顯示器基板的一條邊平行并且分離設(shè)置，在外面形成至少一個噴射流動氣體的輔助流動氣體噴射口，從而向所述顯示器基板的側(cè)面噴射流動氣體。

為了使所述輔助流動氣體噴射部與所述顯示器基板的各邊相對應(yīng)，所述輔助流動氣體噴射部具有由第一噴射部、第二噴射部、第三噴射部、第四噴射部形成的四方環(huán)形管狀，從在各角處形成的輔助流動氣體供給管接收流動氣體，從而可向所述輔助流動氣體噴射部供給。

從所述流動氣體噴射部的兩端到中間，所述流動氣體噴射口的直徑可逐漸增加。

從所述流動氣體噴射部的兩端到中間，所述流動氣體噴射口間的間隔可逐漸變窄。

所述流動氣體供給管可包括：流量調(diào)節(jié)閥，所述流量調(diào)節(jié)閥在所述流動氣體供給管的一側(cè)形成，以便能夠調(diào)節(jié)向所述流動氣體分配部供給的所述流動氣體的壓力；以及控制部，所述控制部對所述流量調(diào)節(jié)閥的開放量進行控制。

還可包括多個加熱器，所述多個加熱器位于形成一定間隔而配置的流動氣體噴射部的間隙，與所述流動氣體噴射部平行配置。

還可包括流動氣體噴射管，所述流動氣體噴射管一端與所述流動氣體噴射口連接，另一端朝向流動氣體噴射部的下側(cè)方向延長形成。

還可包括多個加熱器，所述多個加熱器與所述流動氣體噴射部垂直配置，配置在所述流動氣體噴射管和與其相鄰的流動氣體噴射管的間隙。

在所述流動氣體噴射部的下部配置收容所述加熱器的加熱器支撐部，在所述加熱器支撐部可形成至少一個排氣縫。

所述蒸發(fā)氣體可通過所述排氣縫，向所述蒸發(fā)氣體排氣部排氣。

所述加熱器支撐部和所述蒸發(fā)氣體排氣部可一體成型。

所述加熱器支撐部可貫通有所述流動氣體噴射管的另一端。

此外，為了達到所述目的，就根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的熱處理裝置而言，作為一種執(zhí)行顯示器基板的RGB熱處理工藝的熱處理裝置，其包括：本體，所述本體包括作為所述顯示器基板的熱處理空間的腔室；升降單元，所述升降單元上下運動并且支撐所述基板；加熱單元，所述加熱單元配置在所述本體的內(nèi)側(cè)上部和內(nèi)側(cè)下部；以及供氣及排氣裝置。

在所述本體的下部還可包括腔室排氣部，所述腔室排氣部將所述腔室內(nèi)的氣體排出。

此外，為了達到所述目的，就根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的熱處理系統(tǒng)而言，其包括：基板運入部，所述基板運入部接收從外部運入的所述顯示器基板；基板移送部，所述基板移送部移動所述顯示器基板；多個熱處理裝置，所述多個熱處理裝置執(zhí)行所述顯示器基板的RGB熱處理，并且在所述熱處理裝置的內(nèi)部可配置有供氣及排氣裝置。

各個所述熱處理裝置執(zhí)行RGB熱處理的腔室的溫度和壓力可各不相同。

根據(jù)如上所構(gòu)成的本發(fā)明，效果在于，RGB熱處理工藝可以在一個系統(tǒng)內(nèi)進行，因此減少了設(shè)備成本和工藝時間。

同時，根據(jù)本發(fā)明，效果在于，能夠使溶劑在基板整體均勻蒸發(fā)。

附圖說明

圖1是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的RGB熱處理系統(tǒng)的構(gòu)成的示意圖。

圖2是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的RGB熱處理裝置的構(gòu)成的側(cè)剖面圖。

圖3是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的供氣及排氣裝置的構(gòu)成的側(cè)剖面圖。

圖4是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的供氣及排氣裝置的構(gòu)成的下部立體圖。

圖5是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的供氣及排氣裝置內(nèi)的蒸發(fā)氣體的移動的示意圖。

圖6是展示現(xiàn)有的供氣及排氣裝置內(nèi)的蒸發(fā)氣體的移動的示意圖。

圖7是展示根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的供氣及排氣裝置的構(gòu)成的正側(cè)剖面圖。

圖8是展示根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的供氣及排氣裝置的構(gòu)成的左側(cè)剖面圖。

圖9是展示根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的供氣及排氣裝置的構(gòu)成的仰視圖。

具體實施方式

以下所述的對于本發(fā)明的詳細說明，是能夠?qū)嵤┍景l(fā)明的特定實施例的示例，參見附圖。為了使所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠充分實施本發(fā)明，這些實施例會對本發(fā)明做出詳細說明。雖然本發(fā)明的多個實施例互相不一樣，但是應(yīng)當理解，它們相互之間沒有互相排斥的必要。例如，這里所記載的特定形狀、構(gòu)造及特性與其中一個實施例關(guān)聯(lián)，在不超出本發(fā)明的精神和范圍的前提下可以體現(xiàn)在另一個實施例中。另外，應(yīng)當理解，在不超出本發(fā)明的精神和范圍的前提下，所示的各個實施例中的個別構(gòu)成要素的位置或者布局有可能發(fā)生變更。因此，以下所述的詳細說明不是為了對本發(fā)明做出限定，而僅僅是為了對本發(fā)明的保護范圍做出適切的說明，本發(fā)明的保護范圍僅根據(jù)與權(quán)利要求的主張等同的全部范圍和一并附加的權(quán)利要求所限定。附圖中類似的參考標號指代多個方面相一致或者類似的功能，并且簡易地描述長度與面積、厚度等這些形態(tài)并可能夸張地做出表現(xiàn)。

就本說明書而言，基板可理解為包括使用在LED、LCD等顯示裝置上的基板。

另外，就本說明書而言，熱處理裝置100雖然是以單片式熱處理裝置為例進行說明，但如果增加晶舟(boat)結(jié)構(gòu)，從而使其升降的話，也能夠適用收容多個基板10的批量式熱處理裝置。

下面，參照附圖對本發(fā)明的實施例做出詳細說明。

圖1是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的熱處理系統(tǒng)1的構(gòu)成的示意圖。

本發(fā)明的熱處理系統(tǒng)1應(yīng)當理解為是執(zhí)行顯示器基板10的RGB(Red，Green，Blue)熱處理的系統(tǒng)。RGB熱處理應(yīng)當理解為意味著對基板10上滴有的RGB墨水進行熱處理，使RGB墨水中的溶劑等氣體成分蒸發(fā)，并使RGB墨水干燥形成彩色濾光片的一連串工藝。

參考圖1，熱處理系統(tǒng)1可包括基板運入部2、基板移送部3和多個熱處理裝置100(100a-100d)。

首先，向熱處理系統(tǒng)1裝載(loading)的基板10的材質(zhì)沒有特別的限制，能夠向其裝載玻璃(glass)、塑料(plastic)、聚合物(polymer)、硅晶片(silicone wafer)等多種材質(zhì)的基板。下面以平板顯示器最常用的矩形玻璃基板為例進行說明。

基板運入部2是從外部將基板10運入并送達至基板移送部3的結(jié)構(gòu)的通稱?；暹\入部2可包括裝載端口(load port)、基板對準(align)裝置等。

基板移送部3配置了基板移送機器人(robot)5，基板移送機器人5能夠向各個熱處理裝置100(100a-100d)裝載(loading)/卸載(unloading)通過基板運入部2運入的基板10?；逡扑蜋C器人5能夠上下運動或者旋轉(zhuǎn)運動，并且能夠移送至少一個以上的基板10。

在多個熱處理裝置100(100a-100d)中能夠?qū)Ω鱾€RGB墨水進行熱處理工藝。圖1中所示的是四個熱處理裝置，這并不是作為對本發(fā)明的限定，根據(jù)熱處理工藝環(huán)境的不同，熱處理裝置的個數(shù)可能有所增減。

各個熱處理裝置100中進行RGB熱處理的溫度和壓力可能有所差異。例如，第一熱處理裝置100a的腔室可以具備大氣壓、高溫?zé)崽幚憝h(huán)境，第二熱處理裝置100b的腔室可以具備真空、高溫?zé)崽幚憝h(huán)境，第三熱處理裝置100c的腔室可具備大氣壓、低溫?zé)崽幚憝h(huán)境，第四熱處理裝置100d的腔室可具備真空、低溫?zé)崽幚憝h(huán)境。可以在低溫?zé)崽幚憝h(huán)境下完成墨水的一次固化，并在高溫?zé)崽幚憝h(huán)境下完成二次固化。

一般情況下，對于紅色、綠色、藍色墨水而言，由于它們的成分各不相同，工藝環(huán)境有所差異，所以必須分開進行各個工藝。但是，就本發(fā)明的熱處理系統(tǒng)1而言，由于其具有多個溫度和壓力相異的熱處理裝置100，所以RGB熱處理工藝能夠全部在一個系統(tǒng)內(nèi)進行。例如，滴有紅色墨水的基板10通過基板運入部2、基板移送部3，在低溫度區(qū)的熱處理裝置100a中進行熱處理工藝，從而使紅色墨水固化，而在基板10上滴上綠色墨水后，在中溫度區(qū)的熱處理裝置100b中進行熱處理工藝，從而使綠色墨水固化，而在基板10上滴上藍色墨水后，在高溫度區(qū)的熱處理裝置100c中進行熱處理工藝，從而使藍色墨水固化。因此，沒有必要在各個不同的系統(tǒng)中建構(gòu)各個熱處理裝置100。由于可以在一個系統(tǒng)內(nèi)進行所有的RGB熱處理工藝，所以具有能夠節(jié)省裝置成本、工藝時間的優(yōu)點。

圖2是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的熱處理裝置100的構(gòu)成的側(cè)剖面圖。

參考圖2，本發(fā)明的熱處理裝置100可包括：本體110，所述本體110包括作為基板10的熱處理空間的腔室Tc、Bc；加熱單元120、240，所述加熱單元120、240配置在本體110的內(nèi)側(cè)上部和內(nèi)側(cè)下部；升降單元130，所述升降單元130上下運動并且支撐基板10。

本體110形成大約長方體形狀，從而形成熱處理裝置100的外觀，本體110的內(nèi)部可形成作為基板10熱處理的空間的腔室Tc、Bc。本體110不僅僅是長方體形狀，還可以根據(jù)基板10的形狀形成多樣的形狀。

腔室Tc、Bc可以設(shè)置為密閉空間，包括實際進行RGB熱處理的上部腔室區(qū)域Tc和維持待機(standby)溫度的下部腔室區(qū)域Bc。在這里上部腔室區(qū)域Tc和下部腔室區(qū)域Bc應(yīng)理解為不是在物理上嚴格分離的空間，而是根據(jù)溫度范圍的不同而區(qū)分的假想空間。換言之，上部腔室區(qū)域Tc應(yīng)理解為在通過后述的升降單元130而使得基板10上升的狀態(tài)[基板10位于上死點的狀態(tài)]下進行熱處理的空間，下部腔室區(qū)域Bc應(yīng)理解為在通過升降單元130而使得基板10下降的狀態(tài)[基板20位于下死點的狀態(tài)]的空間。

配置在下部腔室區(qū)域Bc的加熱單元120的下側(cè)能夠與升降單元130相連接。就加熱單元120而言，其根據(jù)升降單元130的上升，能夠支撐基板10的下部并與基板10一起上升。同時能夠?qū)?0的下部加熱。

在下部腔室區(qū)域Bc，基板10能夠被支撐在支撐梢(pin)140上，為了使支撐梢140能夠從加熱單元120貫通，加熱單元120形成有貫通洞(hole，未圖示)。

配置在上部腔室區(qū)域Tc的加熱單元240可以配置在本體110的內(nèi)側(cè)。加熱單元120可以以圍繞本體110的內(nèi)側(cè)的形式配置，換句話說，加熱單元120可以以在上部腔室區(qū)域Tc圍繞本體100的上部內(nèi)側(cè)及側(cè)部內(nèi)側(cè)的形式配置。加熱單元120由于配置在本體110的內(nèi)側(cè)，從而能夠直接向基板10傳遞熱量，具有能夠更為迅速地進行熱處理工藝的優(yōu)點。

升降單元130的一側(cè)位于腔室Tc、Bc的內(nèi)部，另一側(cè)位于腔室Tc、Bc的外部，可以以能夠升降的方式設(shè)置。為了使升降單元130能夠升降，升降單元130可以與外部的氣缸(cylinder)、發(fā)動機(motor)等驅(qū)動裝置(未圖示)連接。以使得降單元130能夠升降的形式連通的本體110的下部面可以帶有密封(sealing)部件(未圖示)。

升降單元130上升并位于上死點的時候，基板10從支撐梢140分離，通過加熱單元120支撐基板的下部面并加熱，在上部腔室區(qū)域Tc通過加熱單元240能夠迅速進行熱處理。相反，升降單元130下降并位于下死點的時候，基板10安放在支撐梢140上，加熱單元120從基板10分離，基板10的下部能夠保持預(yù)熱狀態(tài)或者待機狀態(tài)。

下部腔室區(qū)域Bc的正面[本體110的下部正面]可以形成從基板移送機器人5能夠裝載/卸載基板10的出入口(未圖示)，出入口可以通過門(door)115打開或者閉合。出入口和門115中間可以存在密封部件(未圖示)。

本體110的下部可以形成腔室排氣部150。腔室排氣部150可以與后述的蒸發(fā)氣體排氣部220一同起到將腔室Tc、Bc內(nèi)的氣體排出的作用。為了使腔室Tc、Bc內(nèi)部排氣達到低真空水平，可以僅驅(qū)動蒸發(fā)氣體排氣部220，而為了使排氣達到高真空水平，可以在驅(qū)動蒸發(fā)氣體排氣部220的同時一同驅(qū)動腔室排氣部150。

圖3是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的供氣及排氣裝置200的構(gòu)成的側(cè)剖面圖，圖4是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的供氣及排氣裝置200的構(gòu)成的下部立體圖。

參考圖3及圖4，本發(fā)明的供氣及排氣裝置200應(yīng)當理解為包括用于供給流動氣體g1、g2[參考圖5]并排出蒸發(fā)氣體的一連串裝置，所述流動氣體g1、g2使顯示器基板10的RGB熱處理工藝中生成的蒸發(fā)氣體s[參考圖5]流動。例如，蒸發(fā)氣體作為從RGB墨水中揮發(fā)的物質(zhì)，可以是溶劑，流動氣體是為了使蒸發(fā)氣體能夠更有效地蒸發(fā)，從而向顯示器基板10噴射的氣體，可以是作為非反應(yīng)/惰性氣體的氮氣、氬氣等。

供氣及排氣裝置200包括流動氣體供給部210及蒸發(fā)氣體排氣部220，所述流動氣體供給部210包括多個流動氣體噴射部211。

多個流動氣體噴射部211可以相互間形成一定間隔而配置。流動氣體噴射部211可在水平方向，即與基板10平行的方向配置。流動氣體噴射部211的外面可以形成至少一個噴射流動氣體的流動氣體噴射口212。流動氣體噴射口211可以具備洞(hole)形態(tài)或者噴嘴(nozzle)形態(tài)。并且，為了能夠直接噴射到基板10，優(yōu)選地，流動氣體噴射口212朝向基板10的上部，即朝向流動氣體噴射部211的下側(cè)方向形成。

各個流動氣體噴射部211的兩端可以和一對流動氣體分配部215連通。流動氣體分配部215能夠從與其一側(cè)(例如，上側(cè))連通的流動氣體供給管219接收流動氣體。流動氣體供給管219與本體110上部連通，能夠從外部的流動氣體供給裝置(未圖示)接收流動氣體。

就流動氣體供給管219而言，為了能夠調(diào)節(jié)從流動氣體分配部215供給的流動氣體的量和壓力，流動氣體供給管219的一側(cè)可以具有流量調(diào)節(jié)閥(valve，未圖示)以及控制流量調(diào)節(jié)閥的開放量的控制部(未圖示)。

就對向配置的一對流動氣體分配部215而言，其向各個流動氣體噴射部211的兩端傳達流動氣體，通過在流動氣體噴射部211的外面連通形成的流動氣體噴射口212，能夠在基板10上噴射流動氣體。

為了使流動氣體能夠在基板10的整個表面上均勻噴射，優(yōu)選地，通過流動氣體噴射部211的兩端提供均勻壓力的流動氣體。因此，流動氣體分配部215的兩內(nèi)側(cè)面交錯突出形成多個流路形成膜216，從而能夠?qū)⒘髀穭澐譃槎鄬?。流路形成?16作為向水平方向突出的板形的膜，在流動氣體分配部215內(nèi)長長地形成流動氣體的流路，當流動氣體將流動氣體分配部215的整體充滿后，能夠向流動氣體噴射部211供給氣體。這樣，流動氣體噴射部211的兩端能夠提供均勻壓力和流量的流動氣體。通過流動氣體分配部215的下端部，即通過劃分為多層的流路中的最下層的流路，能夠向流動氣體噴射部211供給流動氣體，當然流動氣體噴射部211也必須與流動氣體分配部215的最下層的流路連接。

另外，即使從流動氣體分配部215向流動氣體噴射部211供給均勻壓力和流量的流動氣體，在流動氣體噴射部211的兩端和中央部分，流動氣體的噴射也可能不是均勻的。因此，從流動氣體噴射部211的兩端到中間，流動氣體噴射口212的直徑逐漸增加，或者從流動氣體噴射部211的兩端到中間，流動氣體噴射口212形成的間隔逐漸變窄。于是，從流動氣體噴射部211的所有部分噴射出的流動氣體的壓力和流量就能夠變得更加均勻。

蒸發(fā)氣體排氣部220可以設(shè)置在多個流動氣體噴射部211[或者流動氣體供給部210]的上部。蒸發(fā)氣體排氣部220能夠提供將顯示器基板10上的蒸發(fā)氣體排出到外部的通路。蒸發(fā)氣體排氣部220的上端可以與本體110的上部面連通并與外部的排氣裝置(未圖示)連接。

蒸發(fā)氣體排氣部220的上端可以形成排氣口225，蒸發(fā)氣體排氣部220可以具有從下部到上部橫截面積越來越小的形狀。圖2及圖3中所示的是金字塔(pyramid)形狀的蒸發(fā)氣體排氣部220，這不是必須的限定，蒸發(fā)氣體能夠根據(jù)具有從下部到上部橫截面積越來越小的形狀，而被誘導(dǎo)到排氣口225并且順暢地排出，只要達到此目的就落入本發(fā)明的保護范圍，并不是限定其形狀。

由于蒸發(fā)氣體排氣部220通過排氣口225形成排氣壓力，所以基板10上的蒸發(fā)氣體能夠被吸入到蒸發(fā)氣體排氣部220。蒸發(fā)氣體通過形成一定間隔而配置的流動氣體噴射部211之間的空間，可被吸入到蒸發(fā)氣體排氣部220并被排放到外部。

另外，本發(fā)明的供氣及排氣裝置200還包括輔助流動氣體噴射部230，在顯示器基板10位于上死點的時候，所述輔助流動氣體噴射部230向顯示器基板10的側(cè)面噴射流動氣體。輔助流動氣體噴射部230可與顯示器基板10的一條邊平行并且分離設(shè)置。

輔助流動氣體噴射部230也同流動氣體噴射部211相似，可以在外面形成至少一個噴射流動氣體的輔助流動氣體噴射口235。輔助流動氣體噴射口235可以具有洞形態(tài)或者噴嘴形態(tài)。此外，為了能夠噴射到基板10，優(yōu)選地，輔助流動氣體噴射口235朝向基板10的側(cè)面，即朝向輔助流動氣體噴射口235的側(cè)面方向水平形成。另外，還可以朝向側(cè)面方向形成規(guī)定角度。

從輔助流動氣體噴射部230噴射的流動氣體不僅能夠使蒸發(fā)氣體流動，還起到類似于空氣幕(Air Curtain)或者空氣壁(Air Wall)的作用，作用在于能夠讓蒸發(fā)氣體只從蒸發(fā)氣體排氣部220排出，并防止蒸發(fā)氣體擴散到腔室Tc、Bc內(nèi)的其他區(qū)域。因此，具有能夠防止熱處理裝置100內(nèi)的其他構(gòu)成要素被蒸發(fā)氣體污染的優(yōu)點。

再次參考圖4，為了使輔助流動氣體噴射部230與顯示器基板10的各邊相對應(yīng)，所述輔助流動氣體噴射部230可以具有由第一噴射部231、第二噴射部232、第三噴射部233、第四噴射部234形成的四方環(huán)形管狀。另外，通過四方環(huán)形管狀的各角處形成的輔助流動氣體供給管237可從外部的流動氣體供給裝置(未圖示)接收流動氣體，從而向輔助流動氣體噴射部230供給。

因此，第一至第四噴射部231-234形成環(huán)繞基板10的形狀，并且輔助流動氣體噴射口235朝向基板10在水平方向形成，所以在基板10的四周均勻地噴射流動氣體，不僅能為基板10的整個表面均勻地供給流動氣體，還能使基板10上的蒸發(fā)氣體不側(cè)漏，并能夠引導(dǎo)(guide)通過蒸發(fā)氣體排氣部220進行排氣。

另外，在流動氣體噴射部211的間隙中還可包括與流動氣體噴射部211平行配置的多個加熱器(未圖示)。加熱器可以具有與流動氣體噴射部211類似的棒形。為了使蒸發(fā)氣體能夠通過并且被吸入到蒸發(fā)氣體排氣部220，優(yōu)選地，加熱器的大小為不會將流動氣體噴射部211的間隙全部擋住。

加熱器配置在流動氣體噴射部211的間隙，在加熱單元240中的本體上部內(nèi)側(cè)配置的加熱單元240可以被省略。加熱器更靠近基板10配置，能夠更為高效地傳遞熱量，同時具有向基板10整個表面均勻地傳遞熱量的效果。

圖5是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的供氣及排氣裝置200內(nèi)的蒸發(fā)氣體的移動的示意圖，圖6是展示現(xiàn)有的供氣及排氣裝置內(nèi)的蒸發(fā)氣體的移動的示意圖。

首先，參考圖6，就現(xiàn)有的熱處理裝置對滴有墨水的基板10進行熱處理，從而使墨水中的溶劑s(或者蒸發(fā)氣體)蒸發(fā)而言，只是單純地使用在基板10的下部通過加熱器12進行熱處理，并通過上部的排氣部22進行排氣的方式。因此，僅依賴加熱器12的熱量來蒸發(fā)溶劑s，而沒有使溶劑s流動的因素，所以具有蒸發(fā)速度慢的問題。此外，對于大面積的基板而言，根據(jù)基板的棱角部分和中央部分的溫度差異，溶劑蒸發(fā)的程度也有所差異，具有給RGB彩色濾光片的色彩品質(zhì)帶來負面影響的問題。另外，還會具有如下問題，溶劑s不只通過排氣部22排出，而從側(cè)面泄露污染本體內(nèi)壁，或者污染腔室內(nèi)的其他構(gòu)成要素。

相反地，參考圖5，就本發(fā)明的供氣及排氣裝置200而言，通過基板10下部的加熱單元120和環(huán)繞上部腔室區(qū)域Tc的加熱單元240進行熱處理，因此有熱量供給速度快的優(yōu)點。另外，從多個流動氣體噴射部210向下部供給的流動氣體g1使得蒸發(fā)氣體s流動，在蒸發(fā)活動加速化的同時，能夠使基板10整個表面的蒸發(fā)氣體s均勻地進行蒸發(fā)。另外，在蒸發(fā)氣體排氣部220形成排氣壓力，從而作為將蒸發(fā)氣體s吸入的力，蒸發(fā)氣體s通過流動氣體噴射部210配置的間隙(s→s’)，可通過蒸發(fā)氣體排氣部220進行排氣。

另外，再從輔助流動氣體噴射部230向基板10的側(cè)面噴射流動氣體g2，因此使蒸發(fā)氣體s流動，可以使蒸發(fā)活動進一步加速化，而且可以使蒸發(fā)氣體s只從蒸發(fā)氣體排氣部220排出，能夠防止蒸發(fā)氣體擴散至腔室Tc、Bc內(nèi)的其他區(qū)域。

圖7是展示根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的供氣及排氣裝置200’的構(gòu)成的正側(cè)剖面圖，圖8是展示根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的供氣及排氣裝置200’的構(gòu)成的左側(cè)剖面圖，圖9是展示根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的供氣及排氣裝置的構(gòu)成的仰視圖。以下僅僅對與通過圖3至圖5說明的實施例有差異的部分進行說明，省略對共同構(gòu)造的說明。

參考圖7至圖9，根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的供氣及排氣裝置包括多個流動氣體噴射部211、蒸發(fā)氣體排氣部220及輔助流動氣體噴射部230。

向流動氣體噴射部211的下側(cè)方向可以延長形成至少一個流動氣體噴射管213。流動氣體噴射管213的一端(上端)與流動氣體噴射口212連接，另一端(下端)可以朝向流動氣體噴射部211的下側(cè)方向延長形成。當然，流動氣體噴射管213的個數(shù)必須與流動氣體噴射口212的個數(shù)一致。

在圖8所示的實施例中，多個加熱器241與流動氣體噴射部211垂直配置，但是也可以與流動氣體噴射部211平行配置。加熱器241可以具有與流動氣體噴射部211類似的棒狀。

加熱器241與流動氣體噴射部211垂直配置時，加熱器241可以配置在流動氣體噴射管213和與其相鄰的流動氣體噴射管213的間隙。加熱器241與流動氣體噴射部211平行配置時，加熱器241可以配置在流動氣體噴射部211和與之相鄰的流動氣體噴射部211之間。

流動氣體噴射部211的下部可以配置加熱器支撐部227。在圖7及圖8中，加熱器支撐部227與蒸發(fā)氣體排氣部220一體成型形成盒(case)，如圖所示其內(nèi)部包括流動氣體噴射部211、流動氣體噴射管213，但加熱器支撐部227可以以與本體110的內(nèi)側(cè)壁相連接的形態(tài)，獨立配置在流動氣體噴射部211的下部。

加熱器支撐部227可以收容加熱器241。為了使加熱器241能夠被穩(wěn)定地收容，優(yōu)選地，在加熱器支撐部227上形成收容槽(未圖示)，并將加熱器241插入收容槽。

由于加熱器支撐部227配置在流動氣體噴射部211的下部，為了防止從流動氣體噴射部211噴射的流動氣體g1被擋住的問題，流動氣體噴射管213的另一端可以貫通加熱器支撐部227，并向加熱器支撐部227的下部噴射流動氣體g1。

另外，由于加熱器支撐部227配置在流動氣體噴射部211的下部，為了防止阻擋從基板10蒸發(fā)的蒸發(fā)氣體s向蒸發(fā)氣體排氣部220移動，加熱器支撐部227上可形成至少一個排氣縫228。為了使蒸發(fā)氣體s更加順暢地排出，優(yōu)選地，對加熱器支撐部227中除去加熱器241占有的部分和流動氣體噴射管213占有的部分之外的最大空間進行連通，從而形成排氣縫228。

根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的供氣及排氣裝置200’，在加熱器支撐部227配置加熱器241，可在離基板10上部較近的位置加熱基板10，因此具有能夠高效地傳遞熱量，且能夠向基板10整個表面均勻地傳遞熱量的優(yōu)點。此外，從流動氣體噴射管213向下部供給的流動氣體g1能夠使蒸發(fā)氣體s流動，使蒸發(fā)活動加速化的同時，還能使蒸發(fā)氣體s在基板10的整個表面均勻蒸發(fā)。另外，在蒸發(fā)氣體排氣部220處形成排氣壓力，從而作為將蒸發(fā)氣體s吸入的力，蒸發(fā)氣體s從形成于加熱器支撐部227的排氣縫228通過(s-＞s’)，從而可通過蒸發(fā)氣體排氣部220排出。

像這樣，本發(fā)明的熱處理系統(tǒng)具有多個熱處理裝置100(100a-100d)，RGB熱處理工藝能夠在一個系統(tǒng)內(nèi)進行。因而具有節(jié)省裝置成本、工藝時間的效果。另外，本發(fā)明的供氣及排氣裝置200、200’使溶劑在基板整個表面均勻蒸發(fā)，具有提高色彩品質(zhì)的效果。

本發(fā)明雖然對如上所述的優(yōu)選實施例進行了示出并說明，但是上述實施例不對本發(fā)明進行限定，在不超出本發(fā)明的精神的范圍內(nèi)，具有本技術(shù)領(lǐng)域一般知識的普通技術(shù)人員可能做出多種變形和變更。這些變形或變更應(yīng)當視為所屬于本發(fā)明及其權(quán)利要求范圍的范圍之內(nèi)。

標號說明

1：熱處理系統(tǒng)

2：基板運入部

3：基板移送部

5：基板移送機器人

10：基板

100、100a-100d：熱處理裝置

110：本體

115：門

120、240：加熱單元

130：升降單元

140：支撐梢

150：腔室排氣部

200、200’：供氣及排氣裝置

210：流動氣體供給部

211：流動氣體噴射部

212：流動氣體噴射口

213：流動氣體噴射管

215：流動氣體分配部

216：流路形成膜

219：流動氣體供給管

220：蒸發(fā)氣體排氣部

225：排氣口

227：加熱器支撐部

228：排氣縫

230：輔助流動氣體噴射部

231-234：第一噴射部-第四噴射部

235：輔助流動氣體噴射口

241：加熱器

g1、g2：流動氣體

s、s’：蒸發(fā)氣體、溶劑

Tc：上部腔室區(qū)域

Bc：下部腔室區(qū)域