1.一種供氣及排氣裝置，其作為用于顯示器基板的RGB熱處理工藝的供氣及排氣裝置，其特征在于，包括：
多個流動氣體噴射部，所述多個流動氣體噴射部外面形成有至少一個噴射流動氣體的流動氣體噴射口，并且所述多個流動氣體噴射部相互間形成一定間隔而配置；以及
蒸發(fā)氣體排氣部，所述蒸發(fā)氣體排氣部設(shè)置在所述多個流動氣體噴射部的上部，提供所述顯示器基板上的蒸發(fā)氣體排出到外部的通路。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
所述多個流動氣體噴射部的兩端與流動氣體分配部連通，
從所述流動氣體分配部的一側(cè)連通的流動氣體供給管接收流動氣體，從而向所述多個流動氣體噴射部供給。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
所述流動氣體分配部的兩內(nèi)側(cè)面交錯突出形成多個流路形成膜，從而將流路劃分為多層，并通過最下層流路向所述多個流動氣體噴射部供給所述流動氣體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
所述流動氣體噴射口朝向所述流動氣體噴射部的下側(cè)方向形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
所述蒸發(fā)氣體排氣部具有從下部到上部橫截面積越來越小的形狀，所述蒸發(fā)氣體排氣部的上端形成有排氣口。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
所述流動氣體向下部噴射，使得所述顯示器基板上的蒸發(fā)氣體流動，在所述蒸發(fā)氣體排氣部形成排氣壓力，從而將所述蒸發(fā)氣體吸入。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
所述蒸發(fā)氣體通過形成一定間隔而配置的所述流動氣體噴射部的間隙，向所述蒸發(fā)氣體排氣部排氣。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
還包括輔助流動氣體噴射部，所述輔助流動氣體噴射部與所述顯示器基板的一條邊平行并且分離設(shè)置，并在外面形成至少一個噴射流動氣體的輔助流動氣體噴射口，從而向所述顯示器基板的側(cè)面噴射流動氣體。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
為了使所述輔助流動氣體噴射部與所述顯示器基板的各邊相對應(yīng)，所述輔助流動氣體噴射部具有由第一噴射部、第二噴射部、第三噴射部、第四噴射部形成的四方環(huán)形管狀，從在各角處形成的輔助流動氣體供給管接收流動氣體，從而向所述輔助流動氣體噴射部供給。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
從所述流動氣體噴射部的兩端到中間，所述流動氣體噴射口的直徑逐漸增加。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
從所述流動氣體噴射部的兩端到中間，所述流動氣體噴射口間的間隔逐漸變窄。
12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
所述流動氣體供給管包括：
流量調(diào)節(jié)閥，所述流量調(diào)節(jié)閥在所述流動氣體供給管的一側(cè)形成，以便能夠調(diào)節(jié)向所述流動氣體分配部供給的所述流動氣體的壓力；以及
控制部，所述控制部對所述流量調(diào)節(jié)閥的開放量進(jìn)行控制。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
還包括多個加熱器，所述多個加熱器位于形成一定間隔而配置的流動氣體噴射部的間隙，與所述流動氣體噴射部平行配置。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
還包括流動氣體噴射管，所述流動氣體噴射管一端與所述流動氣體噴射口連接，另一端朝向流動氣體噴射部的下側(cè)方向延長形成。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
還包括多個加熱器，所述多個加熱器與所述流動氣體噴射部垂直配置，
配置在所述流動氣體噴射管和與其相鄰的流動氣體噴射管的間隙。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
在所述流動氣體噴射部的下部配置收容所述加熱器的加熱器支撐部，
在所述加熱器支撐部上形成至少一個排氣縫。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
所述蒸發(fā)氣體通過所述排氣縫，向所述蒸發(fā)氣體排氣部排氣。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
所述加熱器支撐部和所述蒸發(fā)氣體排氣部一體成型。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的供氣及排氣裝置，其特征在于，
所述加熱器支撐部貫通有所述流動氣體噴射管的另一端。
20.一種熱處理裝置，其作為執(zhí)行顯示器基板的RGB熱處理工藝的熱處理裝置，其特征在于，包括：
本體，所述本體包括作為所述顯示器基板的熱處理空間的腔室；
升降單元，所述升降單元上下運(yùn)動并且支撐所述基板；
加熱單元，所述加熱單元配置在所述本體的內(nèi)側(cè)上部和內(nèi)側(cè)下部；以及
權(quán)利要求1至19中任意一項(xiàng)的供氣及排氣裝置。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的熱處理裝置，其體征在于，
在所述本體的下部還包括腔室排氣部，所述腔室排氣部將所述腔室內(nèi)的氣體排出。
22.一種熱處理系統(tǒng)，其作為執(zhí)行顯示器基板的RGB熱處理工藝的熱處理系統(tǒng)，其特征在于，包括：
基板運(yùn)入部，所述基板運(yùn)入部接收從外部運(yùn)入的所述顯示器基板；
基板移送部，所述基板移送部移動所述顯示器基板；
多個熱處理裝置，所述多個熱處理裝置執(zhí)行所述顯示器基板的RGB熱處理，
在所述熱處理裝置的內(nèi)部配置權(quán)利要求1至17中任意一項(xiàng)的供氣及排氣裝置。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的熱處理系統(tǒng)，其特征在于，
各個所述熱處理裝置執(zhí)行RGB熱處理的腔室的溫度和壓力各不相同。