1.一種等離子刻蝕設(shè)備,其特征在于,包括:
反應(yīng)腔體;
靜電吸附盤,設(shè)置于所述反應(yīng)腔體內(nèi)部;
多個(gè)支撐腳,設(shè)置于所述反應(yīng)腔體內(nèi)部,所述多個(gè)支撐腳連接并托舉所述靜電吸附盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子刻蝕設(shè)備,其特征在于,所述多個(gè)支撐腳均勻分布于所述靜電吸附盤下方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子刻蝕設(shè)備,其特征在于,所述多個(gè)支撐腳傾斜設(shè)置于所述靜電吸附盤下方。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子刻蝕設(shè)備,其特征在于,所述多個(gè)支撐腳一端緊靠所述反應(yīng)腔體底部?jī)?nèi)側(cè),另一端連接于所述靜電吸附盤底部周邊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子刻蝕設(shè)備,其特征在于,所述多個(gè)支撐腳的數(shù)量為3個(gè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子刻蝕設(shè)備,其特征在于,所述多個(gè)支撐腳內(nèi)部為中空結(jié)構(gòu)設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子刻蝕設(shè)備,其特征在于,所述多個(gè)支撐腳的中空結(jié)構(gòu)內(nèi)分別設(shè)置有電線管路,供氣管路,及冷卻液管路。