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      一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料及制備方法與流程

      文檔序號:11137156閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      1.一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料,其特征在于:所述基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料包括磁流體復合涂層和半導體涂層,所述磁流體復合涂層包括石墨烯改性Fe3O4磁流體、環(huán)氧樹脂、乙二胺和高導磁合金粉末,所述半導體涂層包括環(huán)氧樹脂、乙二胺和半導體SiC粉末,所述石墨烯改性Fe3O4磁流體包括Fe3O4納米顆粒、石墨烯、羧基硅氧烷和二甲基硅油,所述羧基硅氧烷的化學式為(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]x[(CH3)2 SiO]ySi CH3)3。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料,其特征在于:所述高導磁合金粉末為羰基鎳粉、羰基鐵粉或者鐵基合金磁性粉末。

      3.一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:

      (1)按照摩爾比Fe3+:Fe2+為1-2:1,將FeCl3·7H2O、FeSO4·6H2O加入到盛有70℃超純水的三口燒瓶中,同時向反應(yīng)體系中持續(xù)通入稀有氣體排出空氣,攪拌至固體顆粒完全溶解后,按照Fe3+與氫氧化鈉的摩爾比為1:4-10,迅速加入過量的氫氧化鈉水溶液,同時進行強烈攪拌,攪拌30min,得到Fe3O4納米磁性顆粒溶液,將Fe3O4納米磁性顆粒溶液溫度調(diào)節(jié)至40-70℃,反應(yīng)液pH值調(diào)節(jié)至5-7,然后按照Fe3O4納米磁性顆粒與羧基硅氧烷的質(zhì)量比為1-10:1,加入羧基硅氧烷,攪拌5-10h,用磁鐵進行固液分離,并用超純水和無水乙醇多次清洗得到黑色粘稠物,將黑色粘稠物離心干燥研磨,得到羧基硅氧烷包覆的磁性顆粒;

      (2)將石墨烯分散于二甲基硅油中形成石墨烯分散液,加入步驟(1)制備的羧基硅氧烷包覆的磁性顆粒,在80-100℃下混合均勻,超聲分散,得到改性Fe3O4磁流體,將改性Fe3O4磁流體與環(huán)氧樹脂、乙二胺和高導磁合金粉末攪拌均勻,消除氣泡,形成混合溶液,將混合溶液均勻涂抹于鋁合金薄板上,調(diào)整混合液體的狀態(tài),固化,形成磁流體復合涂層;

      (3)將環(huán)氧樹脂中依次加入乙二胺和半導體SiC粉末,攪拌均勻,消除氣泡,形成半導體液體,將半導體液體均勻涂抹于步驟(2)制備的磁流體復合涂層表面,固化,形成半導體涂層,磁流體復合涂層與半導體涂層組成了基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中,羧基硅氧烷的化學式為(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]x[(CH3)2 SiO]ySi CH3)3,呈淺稻草色或者清澈的液體,粘度為2500cSt,折射率為1.408,COOH的含量為1.3%。

      5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中,離心干燥研磨的工藝為:離心的速度為2000rpm,離心的時間為30min,干燥的溫度為40-70℃,時間為8-10h,研磨的設(shè)備為瑪瑙研缽,研磨的時間為30-60min。

      6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(2)中,改性Fe3O4磁流體中石墨烯與Fe3O4的質(zhì)量比為1:3-10。

      7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(2)中,混合溶液中改性Fe3O4磁流體、環(huán)氧樹脂、乙二胺和高導磁合金粉末的用料比為1ml:0.1-0.8g:0.01-0.1g:0.05-0.2g。

      8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(2)中,調(diào)整的方法為:將磁鐵從垂直方向由遠及近接近鋁合金薄板的下表面,至混合液體剛好出現(xiàn)磁性各向異性的現(xiàn)象。

      9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(3)中,半導體液體中的組分,按百分比計,包括環(huán)氧樹脂45-70%,乙二胺5-15%,半導體SiC粉末為15-45%,總量為100%。

      10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(3)中,基于羧基硅氧烷的硅油磁流體吸波材料中磁流體復合涂層與半導體涂層的總厚度為0.5-0.8mm,磁流體復合涂層與半導體涂層的厚度為1:1-2。

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