1.一種濕法刻蝕工藝中去磷硅玻璃槽的配置方法，其特征在于去磷硅玻璃槽中加入去離子水與氫氟酸、鹽酸混合液，氫氟酸的摩爾濃度為15-20％，同時通入臭氧。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的配置方法，其特征在于鹽酸的摩爾濃度為2-5％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的配置方法，其特征在于臭氧的流速為40-60L/min。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的配置方法，其特征在于包含以下步驟：
(1)在去磷硅玻璃槽中加入去離子水，加入氫氟酸和鹽酸，氫氟酸的摩爾濃度為15-20％，鹽酸的摩爾濃度為2-5％，開啟循環(huán)，混合10分鐘；
(2)將臭氧通入循環(huán)管內(nèi)，臭氧流量40-60L/min，反應(yīng)前持續(xù)10分鐘以上，反應(yīng)過程中保持流量20-30L/min，溫度保持在25-35℃；
(3)將擴(kuò)散后的硅片放入濕法刻蝕機(jī)臺，工藝過程中在去磷硅玻璃槽中需保持0.5-2min。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的配置方法，其特征在于包含以下步驟：
(1)在去磷硅玻璃槽中加入去離子水，加入氫氟酸和鹽酸，氫氟酸的摩爾濃度為18％，鹽酸的摩爾濃度為4％，開啟循環(huán)，混合10分鐘；
(2)將臭氧通入循環(huán)管內(nèi)，臭氧流量50L/min，反應(yīng)前持續(xù)10分鐘，反應(yīng)過程中保持流量25L/min，溫度保持在30℃；
(3)將擴(kuò)散后的硅片放入濕法刻蝕機(jī)臺，工藝過程中在去磷硅玻璃槽中需保持1.5min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的配置方法，其特征在于所述臭氧由臭氧發(fā)生器制作。