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      一種濕法刻蝕工藝中去磷硅玻璃槽的配置方法與流程

      文檔序號(hào):11100682閱讀:來源:國知局
      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明公開了一種濕法刻蝕工藝中去磷硅玻璃槽的配置方法,其特征在于去磷硅玻璃槽中加入去離子水與氫氟酸、鹽酸混合液,氫氟酸的摩爾濃度為15?20%,同時(shí)通入臭氧。本發(fā)明在去磷硅玻璃槽中加入一定比例的鹽酸,加大HF的濃度,同時(shí)通入一定流量的臭氧,既可起到傳統(tǒng)方法中去磷硅玻璃和殘留堿的作用,又可有效去除硅片表面金屬雜質(zhì)(臭氧對(duì)硅片進(jìn)行氧化生成SiO2,HF再去除SiO2),這樣可有效提高電池片正面的氫鈍化和背面的鋁背場鈍化效果,從而提高電池片的轉(zhuǎn)換效率。

      技術(shù)研發(fā)人員:吳俊清;徐強(qiáng);錢明明;樊華;蔣志強(qiáng);徐建
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:東方環(huán)晟光伏(江蘇)有限公司
      文檔號(hào)碼:201611235160
      技術(shù)研發(fā)日:2016.12.28
      技術(shù)公布日:2017.05.10

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