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      一種含側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)的半導(dǎo)體鎖模激光器的制作方法

      文檔序號(hào):12515821閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

      技術(shù)特征:

      1.一種含側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)的半導(dǎo)體鎖模激光器,其特征在于,所述半導(dǎo)體鎖模激光器采用脊波導(dǎo)結(jié)構(gòu),在該脊波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的脊上依次形成脊增益區(qū)、脊波導(dǎo)電隔離區(qū)和脊波導(dǎo)飽和吸收區(qū),其中,脊波導(dǎo)電隔離區(qū)將脊增益區(qū)和脊波導(dǎo)飽和吸收區(qū)分隔開;在所述脊增益區(qū)側(cè)邊的任意位置形成側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體鎖模激光器,其特征在于,側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)被施加的電壓為反向偏壓或者正向偏壓,當(dāng)在側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)上施加反向偏壓時(shí),側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)作為吸收區(qū);當(dāng)在側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)上施加正向偏壓時(shí),側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)作為增益區(qū);當(dāng)側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)為多段時(shí),各段側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)被施加的電壓為相同方向或不同方向。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體鎖模激光器,其特征在于,脊增益區(qū)、脊波導(dǎo)飽和吸收區(qū)以及側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)上均設(shè)置平面電極,脊增益區(qū)、脊波導(dǎo)飽和吸收區(qū)以及側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)的電極之間相互不相連。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體鎖模激光器,其特征在于,所述脊增益區(qū)為長(zhǎng)條形,所述脊波導(dǎo)電隔離區(qū)位于脊增益區(qū)沿長(zhǎng)度方向的一端,脊增益區(qū)沿長(zhǎng)度方向遠(yuǎn)離脊波導(dǎo)電隔離區(qū)的一端的端面為出光端面,出光端面鍍有增透膜;在脊波導(dǎo)飽和吸收區(qū)遠(yuǎn)離脊波導(dǎo)電隔離區(qū)的一端的端面鍍有高反射率的光學(xué)介質(zhì)膜,端面與出光端面均垂直于脊增益區(qū)的長(zhǎng)度方向。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體鎖模激光器,其特征在于,在脊增益區(qū)一側(cè)邊的任意位置形成一段側(cè)邊電隔離區(qū)和所述側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū),側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)沿與脊增益區(qū)長(zhǎng)度方向相垂直的方向?qū)盈B制備,側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)均平行于脊增益區(qū)的長(zhǎng)度方向;

      或者,在脊增益區(qū)一側(cè)邊的任意位置并排間隔形成多段側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū);每段側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)沿與脊增益區(qū)長(zhǎng)度方向相垂直的方向?qū)盈B制備,每段側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)均平行于脊增益區(qū)的長(zhǎng)度方向。

      6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體鎖模激光器,其特征在于,在脊增益區(qū)兩側(cè)邊的任意位置各設(shè)置一段側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū),每段側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)沿與脊增益區(qū)長(zhǎng)度方向相垂直的方向?qū)盈B制備,每段側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)均平行于脊增益區(qū)的長(zhǎng)度方向。

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的半導(dǎo)體鎖模激光器,其特征在于,在脊增益區(qū)一側(cè)邊的側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)與另一側(cè)邊的側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)對(duì)稱分布。

      8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體鎖模激光器,其特征在于,在脊增益區(qū)的兩側(cè)邊各設(shè)置多段側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū),每段側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)沿與脊增益區(qū)長(zhǎng)度方向相垂直的方向?qū)盈B制備,每段側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)均平行于脊增益區(qū)的長(zhǎng)度方向。

      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體鎖模激光器,其特征在于,脊增益區(qū)兩側(cè)邊的各段側(cè)邊電隔離區(qū)和側(cè)邊可調(diào)增益/吸收區(qū)呈多段互補(bǔ)式對(duì)稱分布或鏡像對(duì)稱分布。

      10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體鎖模激光器,其特征在于,所述半導(dǎo)體鎖模激光器半導(dǎo)體鎖模激光器包括下波導(dǎo)層、有源區(qū)和上波導(dǎo)層,所述下波導(dǎo)層、有源區(qū)和上波導(dǎo)層依次設(shè)置構(gòu)成光限制層中心區(qū)域,在所述下波導(dǎo)層下依次設(shè)置下分離限制層、襯底和下電極,在上波導(dǎo)層上依次設(shè)置上分離限制層、蓋層、Si02電流隔離層和上電極。

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