1.一種等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)襯，以可拆卸的方式固定于所述等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)壁，其特征在于，
包括與等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)壁相貼合的柱形側(cè)壁，所述柱形側(cè)壁設(shè)有與等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔基片進(jìn)出口位置對(duì)應(yīng)的開口、以及與等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的抽氣孔位置對(duì)應(yīng)的勻流通路。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)襯，其特征在于，
所述柱形側(cè)壁的頂部設(shè)有凸緣，以配合安裝于等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的上表面臺(tái)階處。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)襯，其特征在于，
所述凸緣和所述等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的上表面臺(tái)階處對(duì)應(yīng)設(shè)置有定位銷孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)襯，其特征在于，
所述柱形側(cè)壁設(shè)置有與等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔觀察窗位置對(duì)應(yīng)的觀察孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)襯，其特征在于，
所述柱形側(cè)壁為鋁合金材質(zhì)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)襯，其特征在于，
所述勻流通路包括多個(gè)均勻分布的通孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)襯，其特征在于，
所述通孔的橫截面為圓形、橢圓形或多邊形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)襯，其特征在于，
所述勻流通路包括抽氣柵格結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)襯，其特征在于，
所述抽氣柵格結(jié)構(gòu)為均勻分布的向所述柱形側(cè)壁頂部和底部延伸的長槽。
10.一種等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔，設(shè)有基片進(jìn)出口、抽氣孔，其特征在于，
以可拆卸的方式安裝有權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述的等離子體刻蝕機(jī)反應(yīng)腔的內(nèi)襯。