技術(shù)總結(jié)
本實用新型公開一種等離子體刻蝕機反應(yīng)腔的內(nèi)襯和具有其的等離子體刻蝕機反應(yīng)腔。等離子體刻蝕機反應(yīng)腔的內(nèi)襯以可拆卸的方式固定于所述等離子體刻蝕機反應(yīng)腔的內(nèi)壁，包括與等離子體刻蝕機反應(yīng)腔的內(nèi)壁相貼合的柱形側(cè)壁，所述柱形側(cè)壁設(shè)有與等離子體刻蝕機反應(yīng)腔基片進(jìn)出口位置對應(yīng)的開口、以及與等離子體刻蝕機反應(yīng)腔的抽氣孔位置對應(yīng)的勻流通路。本實用新型可以在保護(hù)反應(yīng)腔體內(nèi)壁不受污染的同時，大幅度的提高反應(yīng)腔獲得高真空度的速率，提高刻蝕效率。

技術(shù)研發(fā)人員：李娜;胡冬冬;程實然;許開東
受保護(hù)的技術(shù)使用者：江蘇魯汶儀器有限公司
文檔號碼：201621426926
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.23
技術(shù)公布日：2017.08.22