本申請涉及顯示領域，尤其涉及一種多層膜層圖案、多層膜層圖案的制作方法及陣列基板。

背景技術(shù)：

液晶顯示器，由于功耗很低，并且具有高畫質(zhì)、體積小、重量輕的特點，因此倍受大家青睞，成為當前顯示器的主流。目前液晶顯示器以薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)為主，其顯示面板通常包括相對設置的彩膜基板、陣列基板以及設置于兩基板之間的液晶層。

現(xiàn)有技術(shù)在制作陣列基板的柵極保護層圖案和柵極保護層上的有源層圖案時，通常是通過一次成膜，即，依次連續(xù)形成柵極保護層薄膜和有源層薄膜。而在形成有源層的圖案后，則將形成有源層圖案時所使用的第一光刻膠層通過剝離工藝去除，接著，再在圖案化后的有源層上形成制作柵極保護層圖案的第二光刻膠層薄膜，再通過曝光、顯影、刻蝕形成柵極保護層的圖案，最后，將制作該柵極保護層圖案的第二光刻膠層通過剝離工藝去除。即，現(xiàn)有技術(shù)在通過一次成膜形成兩層圖案化的功能層膜層時，例如，形成柵極保護層和有源層，通常都需要進行兩次光刻膠的剝離工藝，存在多層膜層圖案的制作效率較低的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本申請?zhí)峁┮环N多層膜層圖案、多層膜層圖案的制作方法及陣列基板，以解決現(xiàn)有技術(shù)中在通過一次成膜形成兩層圖案化的功能層膜層時，多層膜層圖案的制作效率較低的問題。

本申請實施例提供一種多層膜層圖案的制作方法，包括：

在襯底上依次形成第一功能層薄膜和第二功能層薄膜；

在所述第二功能層薄膜上形成圖案化的第一光刻膠層；

利用所述第一光刻膠層的遮擋，形成第二功能層的圖案；

在所述第一光刻膠層上形成圖案化的第二光刻膠層；

利用所述第二光刻膠層的遮擋，形成第一功能層的圖案，其中，所述第一功能層的圖案與所述第二功能層的圖案在所述襯底上的正投影互不交疊；

同時去除所述第二光刻膠層和所述第一光刻膠層。

優(yōu)選的，所述第一功能層為柵極保護層，所述第二功能層為有源層，在襯底上依次形成第一功能層薄膜和第二功能層薄膜之前，所述制作方法還包括：

在襯底上形成柵極層的圖案，其中，所述柵極層的圖案包括柵電極以及用作信號線的信號電極；

所述在襯底上依次形成第一功能層薄膜和第二功能層薄膜，具體包括：

在所述柵極層上依次形成柵極保護層薄膜和有源層薄膜；

所述利用所述第一光刻膠層的遮擋，形成第二功能層的圖案，具體包括：

利用所述第一光刻膠層的遮擋，對所述有源層薄膜的與所述柵電極對應區(qū)域的以外區(qū)域進行刻蝕，形成有源層圖案；

所述利用所述第二光刻膠層的遮擋，形成第一功能層的圖案，具體包括：

利用所述第二光刻膠層的遮擋，對所述柵極保護層薄膜的與所述信號電極對應的區(qū)域進行刻蝕，形成具有第一過孔的柵極保護層的圖案。

優(yōu)選的，所述在襯底上形成柵極層的圖案，具體包括：

在所述襯底上濺射形成柵極金屬薄膜；

在所述柵極金屬薄膜上形成第三光刻膠層薄膜，并形成具有第一遮擋部和第二遮擋部的第三光刻膠層的圖案；

在所述第一遮擋部和所述第二遮擋部的遮擋下，對所述柵極金屬薄膜刻蝕，形成具有與所述第一遮擋部對應的柵電極以及與所述第二遮擋部對應的信號電極的柵極層的圖案；

去除所述第三光刻膠層。

優(yōu)選的，所述在所述柵極層上依次形成柵極保護層薄膜以及有源層薄膜，具體包括：

通過化學氣相沉積，在所述柵極層上依次形成柵極保護層薄膜以及有源層薄膜。

優(yōu)選的，所述在所述第二功能層薄膜上形成圖案化的第一光刻膠層，具體包括：

在所述有源層薄膜上涂覆第一光刻膠層薄膜；

對所述第一光刻膠層薄膜進行層曝光、顯影，形成具有與所述柵電極對應的第三遮擋部的第一光刻膠層的圖案。

優(yōu)選的，所述對所述有源層薄膜的與所述柵電極對應區(qū)域的以外區(qū)域進行刻蝕，形成有源層圖案，具體包括：

對所述有源層薄膜的與所述柵電極對應區(qū)域的以外區(qū)域進行干刻刻蝕，形成有源層圖案。

優(yōu)選的，所述在所述第一光刻膠層上形成圖案化的第二光刻膠層，具體包括：

在所述第一光刻膠層上涂覆第二光刻膠層薄膜；

對所述第二光刻膠層薄膜進行曝光、顯影，形成具有與所述信號電極對應的第二過孔的第二層光刻膠的圖案。

優(yōu)選的，在同時去除所述第一光刻膠層和所述第二光刻膠層之后，所述制作方法還包括：

形成具有源極和漏極的源漏極層的圖案，其中，所述源極與所述信號電極連接。

本申請實施例還提供一種多層膜層圖案，包括：設置于襯底上的圖案化的第一功能層，以及設置于所述第一功能層上的圖案化的第二功能層，其中，所述第一功能層的圖案與所述第二功能層的圖案在所述襯底上的正投影互不交疊。

本申請實施例還提供一種陣列基板，包括：設置在襯底上的柵極層，其中，所述柵極層包括柵電極以及用作信號線的信號電極，設置在所述柵極層上具有暴露所述信號電極的第一過孔的柵極保護層，以及，設置在所述柵極保護層上的在與所述柵電極對應的區(qū)域設置有有源層薄膜的有源層。

優(yōu)選的，所述有源層上還設置有源漏極層，所述源漏極中的源極與所述信號電極連接。

本申請實施例有益效果如下：本申請實施例提供多層膜層圖案的制作方法，在利用第一光刻膠層形成第二功能層的圖案后，并不是直接將第一光刻膠層去除，而是在所述第一光刻膠層上繼續(xù)形成用于制作第一功能層圖案的第二光刻膠層，在形成第一功能層的圖案后，一并去除第一光刻膠層和第二光刻膠層，進而減少一次去除光刻膠的工藝，避免分別通過兩次剝離工藝去除用于制作第二功能層圖案的第一光刻膠層和用于制作第一功能層圖案的第二層光刻膠，提高了多層膜層圖案的制作效率。

附圖說明

圖1為本申請實施例提供的多層膜層圖案的制作方法的流程圖；

圖2為本申請實施例中，在柵極金屬薄膜上形成第三光刻膠層后的示意圖；

圖3為本申請實施例中，在襯底上形成柵極層后的示意圖；

圖4為本申請實施例中，在柵極層上形成柵極保護層薄膜和有源層薄膜后的示意圖；

圖5為本申請實施例中，在有源層薄膜上形成第一光刻膠層后的示意圖；

圖6為本申請實施例中，利用第一光刻膠層的遮擋形成有源層后的示意圖；

圖7為本申請實施例中，在第一光刻膠層上形成第二光刻膠層后的示意圖；

圖8為本申請實施例中，利用第二光刻膠層形成柵極保護層后的示意圖；

圖9為本申請實施例中，去除第二層光刻膠層和第一層光刻膠層后的示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合說明書附圖對本發(fā)明實施例的實現(xiàn)過程進行詳細說明。需要注意的是，自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。

參見圖1，本申請實施例提供一種多層膜層圖案的制作方法，包括：

步驟101，在襯底上依次形成第一功能層薄膜和第二功能層薄膜。

在具體實施時，多層膜層圖案可以為陣列基板上的多層膜層圖案，具體的第一功能層薄膜可以為制作陣列基板的柵極保護層時的柵極保護層薄膜，第二功能層薄膜可以為制作陣列基板的有源層時的有源層薄膜。襯底具體可以為玻璃基板。

步驟102，在第二功能層薄膜上形成圖案化的第一光刻膠層。

在具體實施時，第一光刻膠層的圖案需要根據(jù)要制作的第二功能層的圖案進行決定，例如，若第二功能層的圖案為陣列基板上的有源層的圖案時，由于有源層下方一般還形成有具有柵電極的柵極層，即，有源層需要在與柵電極對應的區(qū)域形成有源層薄膜，則，在第二功能層薄膜上形成圖案化的第一光刻膠層，具體可以包括：

在有源層薄膜上涂覆第一光刻膠層薄膜；

對第一光刻膠層薄膜進行層曝光、顯影，形成具有與柵電極對應的第三遮擋部的第一光刻膠層的圖案。

103，利用第一光刻膠層的遮擋，形成第二功能層的圖案。

在具體實施時，若第二功能層為有源層，即需要將形成的有源層薄膜在與柵電極對應區(qū)域的以外區(qū)域的有源層薄膜進行去除，則，利用第一光刻膠層的遮擋，形成第二功能層的圖案，具體包括：利用第一光刻膠層的遮擋，對有源層薄膜的與柵電極對應區(qū)域的以外區(qū)域進行刻蝕，形成有源層圖案。

104，在第一光刻膠層上形成圖案化的第二光刻膠層。

需要說明的是，本申請在形成第二功能層的圖案后，不將形成第二功能層圖案的第一光刻膠層去除，而是在該第一光刻膠層上直接形成制作第一功能層圖案的第二光刻膠層，以在形成第一功能層的圖案后，將第二光刻膠層和第一光刻膠層同時去除，以減少一次光刻膠的剝離工藝，提高多層膜層圖案的制作效率。

對于第二光刻膠層的圖案，在具體實施時，需要根據(jù)要制作的第一功能層的圖案進行決定，例如，若第一功能層的圖案為制作薄膜晶體管的柵極保護層的圖案，由于對于陣列基板而言，其一般不僅包括薄膜晶體管，還可能包括多種信號線，即，在陣列基板的柵極層，其包括薄膜晶體管的柵電極，還可能包括作為信號線的信號電極，而對于柵極保護層，則在陣列基板的GOA區(qū)域需要形成相應的過孔，以使柵極保護層下方的信號線能夠與柵極保護層上方的其它電極進行連通以傳遞信號，即，對于第一功能層為具有過孔的柵極保護層，為了能在第二光刻膠層的遮擋下刻蝕形成柵極保護層的過孔，相應的，第二光刻膠層的圖案也相應為具有過孔的圖案，此時，在第一光刻膠層上形成圖案化的第二光刻膠層，具體包括：

在第一光刻膠層上涂覆第二光刻膠層薄膜；

對第二光刻膠層薄膜進行曝光、顯影，形成具有與信號電極對應的第二過孔的第二層光刻膠的圖案。

105，利用第二光刻膠層的遮擋，形成第一功能層的圖案，其中，第一功能層的圖案與第二功能層的圖案在襯底上的正投影互不交疊。

需要說明的是，對于本申請實施例的第一功能層的圖案和第二功能層的圖案，二者在襯底上的正投影互不交疊，即，位于上方的第二功能層的圖案，其為不影響下方第一功能層的圖案制作的圖案，例如，上方的第二功能層在第一區(qū)域形成有圖案，在第一區(qū)域以外的第二區(qū)域的薄膜被全部刻蝕掉，而下方的第一功能層在與第二功能層的第二區(qū)域?qū)牡谌齾^(qū)域形成有圖案，即，第一功能層的形成圖案的第三區(qū)域上方不存在第二功能層薄膜，不會影響在第一功能層薄膜上刻蝕形成圖案，其中，第一功能層的第三區(qū)域為在襯底上的投影與第二功能層的第二區(qū)域在襯底上的正投影重合的區(qū)域。當然，以上是以第一功能層為柵極保護層，第二功能層為有源層進行舉例說明，對于本申請實施例提供的多層膜層圖案也可以為制作其它器件的多膜層圖案，或陣列基板的有源層與柵極保護層以外的其它膜層，只要第二功能層和第一功能層是通過一次連續(xù)成膜形成的，且第一功能層的圖案和第二功能層的圖案在襯底上的正投影互不重疊，即制作第一功能層的圖案和制作第二功能層的圖案相互不影響，均可以通過本申請實施例提供的多膜層圖案的制作方法來減少一次光刻膠的剝離工藝。

在具體實施時，若第一功能層的圖案為具有暴露柵極層的信號電極的過孔的柵極保護層圖案，則，利用第二光刻膠層的遮擋，形成第一功能層的圖案，具體包括：

利用第二光刻膠層的遮擋，對柵極保護層薄膜的與柵極層的信號電極對應的區(qū)域進行刻蝕，形成具有第一過孔的柵極保護層的圖案。

106，同時去除第二光刻膠層和第一光刻膠層。

本申請實施例提供多層膜層圖案的制作方法，在利用第一光刻膠層形成第二功能層的圖案后，并不是直接將第一光刻膠層去除，而是在所述第一光刻膠層上繼續(xù)形成用于制作第一功能層圖案的第二光刻膠層，在形成第一功能層的圖案后，一并去除第一光刻膠層和第二光刻膠層，進而減少一次去除光刻膠的工藝，避免分別通過兩次剝離工藝去除用于制作第二功能層圖案的第一光刻膠層和用于制作第一功能層圖案的第二層光刻膠，提高了多層膜層圖案的制作效率。

為了更詳細的對本申請?zhí)峁┑亩鄬幽訄D案的制作方法進行說明，以下以第一功能層為陣列基板的柵極保護層，第二功能層為陣列基板的有源層為例，結(jié)合附圖2至附圖9對本申請實施例提供的多層膜層圖案的制作方法進行如下舉例說明：

步驟一，在真空條件下，在襯底基板1上濺射形成柵極金屬薄膜2，并在柵極金屬薄膜2上形成第三光刻膠層薄膜，并形成具有第一遮擋部31和第二遮擋部32的第三光刻膠層3的圖案。在柵極金屬薄膜2上形成第三光刻膠層3后的示意圖如圖2所示。

步驟二，在第一遮擋部31和第二遮擋部32的遮擋下，對柵極金屬薄膜2刻蝕，形成具有與第一遮擋部31對應的柵電極41以及與第二遮擋部32對應的信號電極42的柵極層4的圖案，去除第三光刻膠層3。在襯底基板1上形成柵極層4后的示意圖如圖3所示。

步驟三，通過化學氣相沉積，在柵極層4上依次連續(xù)形成柵極保護層薄膜50和有源層薄膜60。形成柵極保護層薄膜50和有源層薄膜60后的示意圖如圖4所示。

步驟四，在有源層薄膜60上涂覆第一光刻膠層薄膜，對第一光刻膠層薄膜進行層曝光、顯影，形成具有與柵電極41對應的第三遮擋部的第一光刻膠層7的圖案。形成第一光刻膠層7后的示意圖如圖5所示。

步驟五，利用第一光刻膠層7的遮擋，對有源層薄膜60的與柵電極41對應區(qū)域的以外區(qū)域進行干刻刻蝕，形成有源層6圖案。形成有源層6圖案后的示意圖如圖6所示。

步驟六，在第一光刻膠層7上涂覆第二光刻膠層薄膜，對第二光刻膠層薄膜進行曝光、顯影，形成具有與信號電極42對應的第二過孔81的第二光刻膠層8的圖案。形成第二光刻膠層8后的示意圖如圖7所示。

步驟七，利用第二光刻膠層8的遮擋，對柵極保護層薄膜50的與信號電極42對應的區(qū)域進行刻蝕，形成具有第一過孔91的柵極保護層9的圖案。形成柵極保護層9后的示意圖如圖8所示。

步驟八，同時去除第二層光刻膠層8和第一層光刻膠層7。去除第二層光刻膠層8和第一層光刻膠層7后的示意圖如圖9所示。

本申請實施例還提供一種多層膜層圖案，包括：設置于襯底上的圖案化的第一功能層，以及設置于第一功能層上的圖案化的第二功能層，其中，第一功能層的圖案與第二功能層的圖案在襯底上的正投影互不交疊。

參見圖9，本申請實施例還提供一種陣列基板，包括：設置在襯底基板1上的柵極層4，其中，柵極層4包括柵電極41以及用作信號線的信號電極42，設置在柵極層4上具有暴露信號電極42的第一過孔91的柵極保護層9，以及，設置在柵極保護層9上的在與柵電極41對應的區(qū)域設置有有源層薄膜的有源層6。

優(yōu)選的，有源層6上還設置有源漏極層(圖中未示出)，源漏極中的源極與信號電極連接。

綜上所述，本申請實施例有益效果如下：本申請實施例提供多層膜層圖案的制作方法，在利用第一光刻膠層形成第二功能層的圖案后，并不是直接將第一光刻膠層去除，而是在所述第一光刻膠層上繼續(xù)形成用于制作第一功能層圖案的第二光刻膠層，在形成第一功能層的圖案后，一并去除第一光刻膠層和第二光刻膠層，進而減少一次去除光刻膠的工藝，避免分別通過兩次剝離工藝去除用于制作第二功能層圖案的第一光刻膠層和用于制作第一功能層圖案的第二層光刻膠，提高了多層膜層的制作效率。

顯然，本領域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。