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      一種閃存單元器件及閃存的制作方法

      文檔序號:11252662閱讀:917來源:國知局
      一種閃存單元器件及閃存的制造方法與工藝

      本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,尤其涉及一種閃存單元器件及閃存。



      背景技術(shù):

      閃存以其低成本、低功耗、存取速度快等性能優(yōu)勢,已經(jīng)在非易失存儲器領(lǐng)域占據(jù)主導(dǎo)地位。隨著科技的發(fā)展,數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)應(yīng)用也由一些傳統(tǒng)的非易失存儲器專向閃存型存儲器,以閃存為主要存儲介質(zhì)的大容量固態(tài)存儲設(shè)備已經(jīng)成為當(dāng)今數(shù)據(jù)存儲的主流方案之一。

      現(xiàn)有閃存單元為一體的多晶硅浮柵結(jié)構(gòu),通過閃存單元中的控制柵(controlgate,cg)加高電壓,使載流子在電場的加速下具有一定能量,利用量子遂穿效應(yīng)越過氧化層,并保存在浮柵中,浮柵保證數(shù)據(jù)的正常存取和擦除,以完成數(shù)據(jù)讀寫操作,閃存單元存儲內(nèi)容取決于浮柵所存儲的電荷數(shù)量?,F(xiàn)有閃存單元在老化和浮柵漏電情況下會導(dǎo)致數(shù)據(jù)丟失或損壞,因此,現(xiàn)有閃存單元中存儲數(shù)據(jù)的可靠性不高。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明實(shí)施例通過提供一種閃存單元器件及閃存,解決了現(xiàn)有閃存單元中存儲數(shù)據(jù)的可靠性不高的技術(shù)問題。

      第一方面,本發(fā)明實(shí)施例提供一種閃存單元器件,包括:

      半導(dǎo)體襯底;

      位于所述半導(dǎo)體襯底中的溝道區(qū)、源區(qū)和漏區(qū),其中,所述源區(qū)和所述漏區(qū)分別與所述溝道區(qū)連接,所述漏區(qū)包括多個相互隔離的子漏區(qū);

      位于所述溝道區(qū)上方的浮柵層和位于所述浮柵層上方的控制柵層,所述浮柵層與所述溝道區(qū)之間、所述浮柵層與所述控制柵層之間、以及覆蓋所述控制柵層的均為氧化物隔離區(qū)域,所述浮柵層包括多個相互隔離的浮柵塊,浮柵塊的個數(shù)與子漏區(qū)的個數(shù)相同。

      可選的,各個相互隔離的子漏區(qū)均為條狀浮柵塊,沿著所述源區(qū)與所述漏區(qū)之間的垂線方向并列排布,其中,相鄰的條狀浮柵塊之間為氧化物隔離層。

      可選的,各個相互隔離的子漏區(qū)沿著所述源區(qū)與所述漏區(qū)之間的垂線方向并列排布。

      第二方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種閃存,包括第一方面任一所述的閃存單元器件,所述閃存還包括:

      引線層;

      讀出電路,所述讀出電路通過所述引線層與所述漏區(qū)中的全部數(shù)量或部分?jǐn)?shù)量的子漏區(qū)一一對應(yīng)的連接;

      表決電路,包括n個輸入端口,所述表決電路的n個輸入端口與所述讀出電路中的n個輸出端口一一對應(yīng)的連接,n為大于1的奇數(shù),所述n個輸出端口為所述讀出電路的全部或部分輸出端口。

      5、如權(quán)利要求4所述的閃存,其特征在于,如果所述漏區(qū)包括相互隔離的m個子漏區(qū),m為大于n的整數(shù);

      所述引線層包括n個金屬引線,所述讀出電路包括n個輸入端口和n個輸出端口,其中,所述讀出電路的n個輸入端口通過所述n個金屬引線與所述漏區(qū)中的任意n個子漏區(qū)一一對應(yīng)的連接。

      6、如權(quán)利要求5所述的閃存,其特征在于,所述讀出電路為包括n個輸入端口和n個輸出端口的讀出電路單體結(jié)構(gòu),或者

      所述讀出電路包括相互獨(dú)立的n個數(shù)據(jù)讀取子電路,其中,每個數(shù)據(jù)讀取子電路包括一輸入端口和一輸出端口。

      7、如權(quán)利要求4所述的閃存,其特征在于,如果所述漏區(qū)包括相互隔離的m個子漏區(qū),m為大于n的整數(shù);

      所述引線層包括m個金屬引線;

      所述讀出電路包括m個輸入端口和m個輸出端口,所述讀出電路的m個輸入端口通過所述m個金屬引線與所述m個子漏區(qū)一一對應(yīng)的連接。

      8、如權(quán)利要求7所述的閃存,其特征在于,所述讀出電路為包括m個輸入端口和m個輸出端口的讀出電路單體結(jié)構(gòu),或者

      所述讀出電路包括相互獨(dú)立的m個數(shù)據(jù)讀取子電路,其中,每個數(shù)據(jù)讀取子電路包括一輸入端口和一輸出端口。

      本發(fā)明實(shí)施例中提供的一個或多個技術(shù)方案,至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn):

      由于本發(fā)明實(shí)施例提供的閃存單元器件,漏區(qū)包括多個相互隔離的子漏區(qū),浮柵層包括相互隔離的浮柵塊的個數(shù)與漏區(qū)中的子漏區(qū)個數(shù)相同,使得浮柵層被劃分為多個獨(dú)立的區(qū)域來存儲數(shù)據(jù),從而實(shí)現(xiàn)了數(shù)據(jù)的多備份存儲。在浮柵層中的部分浮柵塊因外力或閃存單元老化造成數(shù)據(jù)損壞的情況下,其他浮柵塊上保存的數(shù)據(jù)仍然可以輸出,因此只要浮柵層中的浮柵塊沒有全部損壞,就可以讀取到閃存單元器件中保存的數(shù)據(jù),因此,增加了閃存單元器件中存儲數(shù)據(jù)的可靠性。

      附圖說明

      為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案,下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

      圖1為本發(fā)明提供的閃存單元器件的結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖2為圖1的aa'方向剖面示意圖;

      圖3為圖1的bb'方向剖面示意圖;

      圖4為本發(fā)明提供的閃存的局部剖面圖;

      圖5為本發(fā)明提供的閃存的結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實(shí)施方式

      鑒于現(xiàn)有閃存單元易數(shù)據(jù)丟失或損壞而導(dǎo)致現(xiàn)有閃存單元中存儲數(shù)據(jù)的可靠性不高的技術(shù)問題,本發(fā)明實(shí)施例提供一種閃存單元器件及閃存,總體思路如下:

      包括:半導(dǎo)體襯底;位于半導(dǎo)體襯底中的溝道區(qū)、源區(qū)和漏區(qū),其中,源區(qū)和漏區(qū)分別與溝道區(qū)連接,漏區(qū)包括多個相互隔離的子漏區(qū);位于溝道區(qū)上方的浮柵層和位于浮柵層上方的控制柵層,浮柵層與溝道區(qū)之間、浮柵層與控制柵層之間、以及控制柵層的上方均為氧化物隔離區(qū)域,浮柵層包括多個相互隔離的浮柵塊,浮柵塊的個數(shù)與子漏區(qū)的個數(shù)相同。

      通過上述技術(shù)方案,浮柵層包括的浮柵塊個數(shù)與漏區(qū)包括得子漏區(qū)個數(shù)相同,使得浮柵層被劃分為多個獨(dú)立的區(qū)域,與對應(yīng)的子漏區(qū)配合來存儲數(shù)據(jù),從而實(shí)現(xiàn)了閃存單元器件中數(shù)據(jù)的多備份存儲,因此在浮柵層中的部分浮柵塊因外力或閃存單元老化造成數(shù)據(jù)損壞的情況下,其他浮柵塊上保存的數(shù)據(jù)仍然可以正確輸出,因此,增加了閃存單元中存儲數(shù)據(jù)的可靠性。

      為了更好的理解上述技術(shù)方案,下面將結(jié)合具體的實(shí)施方式對上述技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說明,應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明實(shí)施例以及實(shí)施例中的具體特征是對本申請技術(shù)方案的詳細(xì)的說明,而不是對本申請技術(shù)方案的限定,在不沖突的情況下,本申請實(shí)施例以及實(shí)施例中的技術(shù)特征可以相互組合。

      參考圖1~圖3所示,本發(fā)明實(shí)施例提供的閃存單元器件,包括:半導(dǎo)體襯底200;位于半導(dǎo)體襯底200中的溝道區(qū)203、源區(qū)201和漏區(qū),其中,源區(qū)201和漏區(qū)分別與溝道區(qū)203連接,漏區(qū)包括多個相互隔離的子漏區(qū)202;位于溝道區(qū)203上方的浮柵層206和位于浮柵層206上方的控制柵層207,浮柵層206與溝道區(qū)203之間、浮柵層206與控制柵層207之間、以及控制柵層207的上方均為氧化物隔離區(qū)域,浮柵層206包括多個相互隔離的浮柵塊206-1,浮柵塊206-1的個數(shù)與子漏區(qū)202的個數(shù)相同。

      在半導(dǎo)體襯底200中還形成有場氧化區(qū)204,覆蓋在源區(qū)201和各個相互隔離的子漏區(qū)202的上方,以隔絕其他器件與本發(fā)明實(shí)施例中的閃存單元器件。

      具體的,如果浮柵層206包括5個浮柵塊206-1,對應(yīng)的,漏區(qū)包括5個子漏區(qū)202;如果浮柵層206包括3個浮柵塊206-1,對應(yīng)的,漏區(qū)包括3個子漏區(qū)202;如果浮柵層206包括7個浮柵塊206-1,對應(yīng)的,漏區(qū)包括7個子漏區(qū)202;…以此類推,可以設(shè)置更多個浮柵塊206-1和對應(yīng)的漏區(qū)202,子漏區(qū)202的個數(shù)和浮柵層206的個數(shù)越多,閃存單元器件的可靠性就更高。

      各個子漏區(qū)202之間均有隔離層208隔開,保證了各個子漏區(qū)202相互之間的獨(dú)立,形成了非一體結(jié)構(gòu)的漏區(qū)。

      在一實(shí)施例中,各個相互隔離的浮柵塊206-1均為條狀浮柵塊206-1,各個條狀浮柵塊206-1沿著源區(qū)201與漏區(qū)之間的垂線方向并列排布。其中,相鄰的條狀浮柵塊206-1之間通過氧化物隔離層205-3隔離,從而使各個條狀浮柵塊206-1之間均相互獨(dú)立,形成了非一體結(jié)構(gòu)的浮柵層206。

      需要說明的是,各個條狀浮柵塊206-1各自的存儲電荷數(shù)量代表其存儲的數(shù)據(jù)。

      氧化物隔離區(qū)域包括:位于浮柵層206與溝道區(qū)203之間的柵氧化層205-2、位于浮柵層206與控制柵層207之間的氧化層205-1、位于相鄰的浮柵塊206-1之間的氧化物隔離層205-3、覆蓋在控制柵層207上的氧化層205-4。

      進(jìn)一步的,各個相互隔離的子漏區(qū)202的排布方向與m個相互隔離的浮柵塊206-1的排布方向相同,即:各個相互隔離的子漏區(qū)202也沿著源區(qū)201與漏區(qū)之間的垂線方向并列排布,從而一個浮柵塊206-1與對應(yīng)的一個子漏區(qū)202構(gòu)成一組。

      基于同一發(fā)明構(gòu)思,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種閃存,參考圖4和圖5所示,包括本發(fā)明在前述實(shí)施例提供的閃存單元器件,還包括:引線層209、讀出電路210和表決電路211。其中,閃存單元器件的結(jié)構(gòu)參考圖1~圖3和前述閃存單元器件實(shí)施例所述,為了說明書的簡潔,不再贅述。

      讀出電路210通過引線層209與漏區(qū)中的全部數(shù)量或部分?jǐn)?shù)量的子漏區(qū)202一一對應(yīng)的連接;表決電路211,包括n個輸入端口,表決電路211的n個輸入端口與讀出電路210中的n個輸出端口一一對應(yīng)的連接,n為大于1的奇數(shù),n個輸出端口為讀出電路210的全部或部分輸出端口。

      如果漏區(qū)包括相互隔離的m個子漏區(qū)202,m為大于n的整數(shù),則針對讀出電路210和引線層209可以有如下兩種實(shí)施方式:

      一種實(shí)施方式為:引線層209包括n個金屬引線,讀出電路210包括n個輸入端口和n個輸出端口,其中,讀出電路210的n個輸入端口通過n個金屬引線與漏區(qū)中的任意n個子漏區(qū)202一一對應(yīng)的連接;表決電路211的n個輸入端口與讀出電路的全部數(shù)量的輸出端口一一對應(yīng)的連接。

      在本實(shí)施方式下,讀出電路210為包括n個輸入端口和n個輸出端口的讀出電路單體結(jié)構(gòu),或者所述讀出電路210包括相互獨(dú)立的n個數(shù)據(jù)讀取子電路,其中,每個數(shù)據(jù)讀取子電路包括一輸入端口和一輸出端口。

      可以看出,在本實(shí)施方式中,讀出電路210中的輸入端口、輸出端口,表決電路211中的輸入端口、以及引線層209中的金屬引線數(shù)目均相同,且為少于漏區(qū)的子漏區(qū)202個數(shù)的奇數(shù)。

      另一種實(shí)施方式為:引線層209包括m個金屬引線;讀出電路210包括m個輸入端口和m個輸出端口,讀出電路210的m個輸入端口通過m個金屬引線與m個子漏區(qū)202一一對應(yīng)的連接,表決電路211的n個輸入端口與讀出電路的m個輸出端口中的任意n個輸出端口一一對應(yīng)的連接。

      在本實(shí)施方式下,讀出電路210為包括m個輸入端口和m個輸出端口的讀出電路單體結(jié)構(gòu),或者讀出電路210包括相互獨(dú)立的m個數(shù)據(jù)讀取子電路,其中,每個數(shù)據(jù)讀取子電路包括一輸入端口和一輸出端口。

      可以看出,在本實(shí)施方式中,表決電路211的輸入端口數(shù)目n為小于m的奇數(shù),而讀出電路210中的輸入端口、輸出端口,以及引線層209中的金屬引線數(shù)目均相同,且與漏區(qū)的子漏區(qū)202個數(shù)相同,均為m個。

      在某一個或多個浮柵塊206-1因外力或閃存單元老化造成數(shù)據(jù)損壞并且損壞數(shù)據(jù)的個數(shù)小于正確數(shù)據(jù)的個數(shù)的情況下,浮柵塊206-1上保存的數(shù)據(jù)仍然可以通過讀出電路210預(yù)讀出,再通過表決電路211對預(yù)讀出的全部數(shù)據(jù)進(jìn)行表決,以少數(shù)服從多數(shù)的方式,從全部數(shù)據(jù)中表決出重復(fù)次數(shù)最多的數(shù)據(jù)并輸出,因此只要損壞數(shù)據(jù)的個數(shù)小于正確數(shù)據(jù)的個數(shù),就一定能從閃存單元器件中讀取到正確數(shù)據(jù)。而浮柵塊206-1中的數(shù)據(jù)大量損壞發(fā)生的可能性極低,因此大大提高了閃存中數(shù)據(jù)存儲的可靠性。

      比如,以讀出電路210從7個浮柵塊206-1中讀出6個a數(shù)據(jù),1個b數(shù)據(jù)為例,則表決電路211表決出a數(shù)據(jù)并輸出(認(rèn)為b數(shù)據(jù)為損壞的數(shù)據(jù),a數(shù)據(jù)為正確數(shù)據(jù))。

      又比如,以讀出電路210從7個浮柵塊206-1中讀出5個a數(shù)據(jù)、1個c數(shù)據(jù)、1個d數(shù)據(jù)為例,則表決電路211表決出a數(shù)據(jù)并輸出。認(rèn)為c數(shù)據(jù)和d數(shù)據(jù)為不同損壞數(shù)據(jù),而a數(shù)據(jù)為正確數(shù)據(jù)。

      由于引線層209中的金屬引線、讀出電路210的輸入端口、輸出端口,以及表決電路211的輸入端口均為奇數(shù)個,因此可以避免表決電路211表決出正確數(shù)據(jù)的個數(shù)與損壞數(shù)據(jù)的個數(shù)相等的情況,因此進(jìn)一步提高了從閃存中讀取到正確數(shù)據(jù)的可靠性。

      具體的,n個數(shù)據(jù)讀取子電路可以互為相同的電路。

      具體的,讀出電路210可以有多種實(shí)施方式,下面分別進(jìn)行描述:

      實(shí)施方式一:

      如果浮柵層206中的浮柵塊206-1和漏區(qū)中的子漏區(qū)202為相同奇數(shù)個,表決電路211中輸入端口的個數(shù)可以與子漏區(qū)202的個數(shù)相同,表決電路211中輸入端口的個數(shù)也可以為少于子漏區(qū)202個數(shù)的奇數(shù)個,則讀出電路210可以為讀出電路單體結(jié)構(gòu),并且該讀出電路單體結(jié)構(gòu)包括了等于或少于子漏區(qū)202個數(shù)的奇數(shù)個輸入端口、輸出端口。

      需要說明的是,在本實(shí)施方式一中,讀出電路單體結(jié)構(gòu)為一個具有奇數(shù)個輸入端口、輸出端口的整體功能模塊。

      在實(shí)施方式一中,如果表決電路211中輸入端口的個數(shù)多于子漏區(qū)202的個數(shù),讀出電路單體結(jié)構(gòu)的各個輸入端口通過引線層209的各個金屬引線,從漏區(qū)中全部數(shù)量的子漏區(qū)202中選擇任意n個子漏區(qū)202一一對應(yīng)的連接。

      以浮柵層206為5個相互隔離的浮柵塊206-1在沿著源區(qū)201與漏區(qū)之間的垂線方向并列排布為例,則讀出電路210可以為包括5個輸入端口和5個輸出端口的讀出電路單體結(jié)構(gòu),也可以為包括3個輸入端口和3個輸出端口的讀出電路單體結(jié)構(gòu)。

      實(shí)施方式二:

      如果浮柵層206中的浮柵塊206-1和漏區(qū)中的子漏區(qū)202均為相同奇數(shù)個,表決電路211中輸入端口的個數(shù)可以與子漏區(qū)202的個數(shù)相同,決電路211中輸入端口也可以為少于子漏區(qū)202個數(shù)的奇數(shù)個。

      則讀出電路210可以為等于或少于子漏區(qū)202個數(shù)的奇數(shù)個數(shù)據(jù)讀取子電路組成。

      以浮柵層206為5個相互隔離的浮柵塊206-1在沿著源區(qū)201與漏區(qū)之間的垂線方向并列排布為例,則讀出電路210由5個相互獨(dú)立的數(shù)據(jù)讀取子電路組成,或者由3個相互獨(dú)立的數(shù)據(jù)讀取子電路組成。

      實(shí)施方式三,如果浮柵層206中的浮柵塊206-1和漏區(qū)中的子漏區(qū)202均為相同偶數(shù)個,表決電路211中輸入端口的個數(shù)少于子漏區(qū)202的個數(shù),并且表決電路211中輸入端口為奇數(shù)個,則讀出電路210為讀出電路單體結(jié)構(gòu),并且該讀出電路單體結(jié)構(gòu)包括了少于子漏區(qū)202個數(shù)的奇數(shù)個輸入、輸出端口。

      以浮柵層206為8個相互隔離的浮柵塊206-1在沿著源區(qū)201與漏區(qū)之間的垂線方向并列排布為例,則一實(shí)施例、讀出電路210為包括7個輸入端口、7個輸出端口的讀出電路單體結(jié)構(gòu),讀出電路單體結(jié)構(gòu)的7個輸入端口與8個子漏區(qū)202中的任意7個子漏區(qū)202一一對應(yīng)的連接。則二實(shí)施例、讀出電路210為包括5個輸入端口、5個輸出端口的讀出電路單體結(jié)構(gòu),讀出電路單體結(jié)構(gòu)的5個輸入端口與8個子漏區(qū)202中的任意5個子漏區(qū)202一一對應(yīng)的連接。則三實(shí)施例、讀出電路210為包括3個輸入端口、3個輸出端口的讀出電路單體結(jié)構(gòu),讀出電路單體結(jié)構(gòu)的3個輸入端口與8個子漏區(qū)202中的任意3個子漏區(qū)202一一對應(yīng)的連接。

      需要說明的是,在本實(shí)施方式三中,讀出電路單體結(jié)構(gòu)為一個具有奇數(shù)個輸入端口、輸出端口的整體功能模塊。

      實(shí)施方式四:

      如果浮柵層206中的浮柵塊206-1和漏區(qū)中的子漏區(qū)202為相同偶數(shù)個,表決電路211包括奇數(shù)個輸入端口,并且表決電路211的輸入端口的個數(shù)少于子漏區(qū)202個數(shù),則讀出電路210為少于子漏區(qū)202個數(shù)的奇數(shù)個數(shù)據(jù)讀取子電路組成。

      以浮柵層206為6個相互隔離的浮柵塊206-1沿著源區(qū)201與漏區(qū)之間的垂線方向并列排布為例,則讀出電路210可以為5個數(shù)據(jù)讀取子電路組成,也可以為3個數(shù)據(jù)讀取子電路組成。

      上述本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案,至少具有如下的技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn):

      由于本發(fā)明實(shí)施例提供的閃存單元器件,漏區(qū)包括多個相互隔離的子漏區(qū)202,浮柵層包括多個相互隔離的浮柵塊206-1,使得浮柵層206被劃分為多個獨(dú)立的區(qū)域來存儲數(shù)據(jù),從而實(shí)現(xiàn)了數(shù)據(jù)的多備份存儲。在浮柵層206中的部分浮柵塊206-1因外力或閃存單元老化造成數(shù)據(jù)損壞的情況下,其他浮柵塊206-1上保存的數(shù)據(jù)仍然可以輸出,因此只要浮柵層206中的浮柵塊206-1沒有全部損壞,就可以讀取到閃存單元器件中保存的數(shù)據(jù),因此,增加了閃存單元器件中存儲數(shù)據(jù)的可靠性。

      盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念,則可對這些實(shí)施例作出另外的變更和修改。所以,所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實(shí)施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。

      顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣,倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi),則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。

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