技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種陣列基板的制作方法、陣列基板和顯示裝置，該方法包括：形成平坦化層；在平坦化層上形成透明導(dǎo)電氧化物層和金屬層；在金屬層上涂布光刻膠，并對(duì)光刻膠進(jìn)行構(gòu)圖，形成光刻膠全保留區(qū)、光刻膠半保留區(qū)和光刻膠全去除區(qū)；刻蝕掉光刻膠全去除區(qū)內(nèi)的金屬層；采用灰化工藝，去除光刻膠半保留區(qū)內(nèi)的全部光刻膠以及光刻膠全保留區(qū)域的部分光刻膠；刻蝕掉光刻膠全去除區(qū)內(nèi)的透明導(dǎo)電氧化物層，形成透明導(dǎo)電氧化物層圖形；刻蝕掉光刻膠半保留區(qū)內(nèi)的金屬層，形成金屬層圖形；剝離光刻膠全保留區(qū)內(nèi)的光刻膠。本發(fā)明中，在進(jìn)行灰化工藝之前，并不濕刻掉光刻膠全去除區(qū)內(nèi)的透明導(dǎo)電氧化層，在進(jìn)行灰化工藝時(shí)，透明導(dǎo)電氧化層對(duì)平坦化層進(jìn)行保護(hù)。

技術(shù)研發(fā)人員：李海旭;曹占鋒;姚琪
受保護(hù)的技術(shù)使用者：京東方科技集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.11
技術(shù)公布日：2017.09.08