1.一種用于晶圓蝕刻加工的可調(diào)式清洗花籃，包括一對支撐架(2)，一對支撐架(2)相對端壁上均轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有限位盤(3)，所述限位盤(3)內(nèi)端通過貫穿至支撐架(2)外部的轉(zhuǎn)動(dòng)柱(10)與其轉(zhuǎn)動(dòng)銜接，一對所述限位盤(3)之間固定有定位套(1)，其特征在于：所述定位套(1)內(nèi)部開設(shè)有兩端開口的圓柱腔，所述定位套(1)端壁上沿圓周方向開設(shè)有多組與圓柱腔連通且用于對晶圓(14)內(nèi)部進(jìn)行嵌設(shè)安裝的定位槽(101)，每組定位槽(101)沿水平方向前后均勻分布有多個(gè)，一對所述限位盤(3)之間沿其圓周方向滑動(dòng)安裝有多組與定位槽(101)位置對應(yīng)的u型定位架(4)，所述u型定位架(4)的頂端安裝有可沿豎直方向上下升降且用于對晶圓(14)外部進(jìn)行限位的限位結(jié)構(gòu)；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于晶圓蝕刻加工的可調(diào)式清洗花籃，其特征在于：所述滑動(dòng)槽(301)呈弧形結(jié)構(gòu)，所述u型定位架(4)前后兩側(cè)底端壁均固定連接有與滑動(dòng)槽(301)滑動(dòng)安裝的磁性滑條(401)，所述滑動(dòng)槽(301)上下兩端分別嵌設(shè)安裝有電磁片(302)和磁吸塊(303)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于晶圓蝕刻加工的可調(diào)式清洗花籃，其特征在于：所述限位結(jié)構(gòu)包括滑動(dòng)安裝于u型定位架(4)相對端壁之間的嵌合條(5)，所述u型定位架(4)相對端壁上均開設(shè)有與嵌合條(5)端部相匹配的滑腔，所述嵌合條(5)左右兩端分別貫穿至滑腔外部，所述滑腔的上下端壁之間還固定連接有與嵌合條(5)端部貫穿設(shè)置的導(dǎo)向柱(6)，所述導(dǎo)向柱(6)上端部套接有固定連接于嵌合條(5)上端壁以及滑腔內(nèi)頂壁之間的拉伸彈簧(7)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于晶圓蝕刻加工的可調(diào)式清洗花籃，其特征在于：所述導(dǎo)向柱(6)的內(nèi)部嵌合安裝有電磁柱，所述嵌合條(5)與導(dǎo)向柱(6)相接觸的內(nèi)部嵌套有與電磁柱相匹配的磁套。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于晶圓蝕刻加工的可調(diào)式清洗花籃，其特征在于：所述嵌合條(5)的下端壁沿水平方向開設(shè)有多個(gè)與定位槽(101)位置相對應(yīng)的嵌合槽(501)，所述嵌合槽(501)的內(nèi)壁上包覆有緩沖套二(502)，所述定位槽(101)的內(nèi)壁上包覆有緩沖套一(102)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于晶圓蝕刻加工的可調(diào)式清洗花籃，其特征在于：所述噴洗組件包括固定安裝于一對限位盤(3)之間且與定位套(1)同軸心設(shè)置的套筒(8)，所述套筒(8)內(nèi)部軸心嵌設(shè)安裝有流通管(9)，所述套筒(8)上沿其水平方向嵌設(shè)安裝有多組環(huán)形分布設(shè)置的噴射管(902)，所述噴射管(902)與噴洗槽(103)位置相對應(yīng)設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于晶圓蝕刻加工的可調(diào)式清洗花籃，其特征在于：所述流通管(9)一端固定連接有內(nèi)進(jìn)水管(901)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)柱(10)上套接有內(nèi)端與內(nèi)進(jìn)水管(901)旋轉(zhuǎn)對接的連接的旋轉(zhuǎn)接頭(11)，所述旋轉(zhuǎn)接頭(11)外端與外進(jìn)水管(12)固定連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種用于晶圓蝕刻加工的可調(diào)式清洗花籃，其特征在于：所述噴射管(902)沿流通管(9)軸向方向設(shè)置有多組，每組噴射管(902)設(shè)有一對，一對所述噴射管(902)對稱分布于定位槽(101)兩側(cè)，每對噴射管(902)沿流通管(9)圓周方向設(shè)置有多個(gè)，且噴射管(902)朝安裝于定位槽(101)一側(cè)晶圓(14)方向傾斜設(shè)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于晶圓蝕刻加工的可調(diào)式清洗花籃，其特征在于：所述定位套(1)位于定位槽(101)、噴洗槽(103)之間的端壁上開設(shè)有濾孔，所述嵌合條(5)上同樣開設(shè)有濾孔，且緩沖套一(102)、緩沖套二(502)均采用透水性材料制成。