的問題；達(dá)到了測試線路不會(huì)因?yàn)樘炀€效應(yīng)損壞工作電路的效果。
[0066]如圖2所示，其為圖1所示的陣列基板中斷開點(diǎn)A處的左視截面圖，測試線路103上每個(gè)斷開點(diǎn)A的兩端都設(shè)置有貫通到陣列基板上表面S的導(dǎo)電接點(diǎn)105。
[0067]進(jìn)一步的，如圖3所示，其示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖，該陣列基板在圖1所示的陣列基板的基礎(chǔ)上增加了更優(yōu)選的部件，從而使得本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板具有更好的性能。
[0068]其中，工作電路接口 101包括顯示區(qū)域的工作電路接口 1011和周邊區(qū)域的工作電路接口 1012。測試接口 102包括顯示區(qū)域的測試接口 1021和周邊區(qū)域的測試接口 1022。測試線路103包括顯示區(qū)域的測試線路1031和周邊區(qū)域的測試線路1032。其中，測試接口 102可以為氧化銦錫(英文:Indium tin oxide ;簡稱:IT0)接口，位于ITO層上。需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例不對(duì)測試接口的位置做出限定，實(shí)際應(yīng)用中，其位置可以調(diào)整。
[0069]連接方式為:顯示區(qū)域的測試線路1031連接顯示區(qū)域的工作電路接口 1011和顯示區(qū)域的測試接口 1021 ;周邊區(qū)域的測試線路1032連接周邊區(qū)域的工作電路接口 1012和周邊區(qū)域的測試接口 1022。
[0070]需要說明的是，顯示區(qū)域的測試線路1031和周邊區(qū)域的測試線路1032上設(shè)置的斷開點(diǎn)的位置可以相同也可以不同，且測試線路103還可以包含有測試其他工作電路的線路，本實(shí)施例不作出限制。
[0071]可選的，測試線路103中的至少一條線路的中點(diǎn)處設(shè)置有斷開點(diǎn)Α，即斷開點(diǎn)A將測試線路103中的至少一條線路分為長度相等的兩條子測試線路，因而中點(diǎn)處設(shè)置斷開點(diǎn)A能夠以一個(gè)斷開點(diǎn)就較大幅度的減小測試線路產(chǎn)生的天線效應(yīng)?？蛇x的，測試線路103中的至少一條線路的兩端設(shè)置有斷開點(diǎn)Α，斷開點(diǎn)A將測試線路與工作電路斷開，避免了測試線路因天線效應(yīng)積累的電荷傳導(dǎo)至工作電路中。其中，一種斷開點(diǎn)的設(shè)置方式為:顯示區(qū)域的測試線路1031和周邊區(qū)域的測試線路1032都設(shè)置有至少一個(gè)斷開點(diǎn)Α，優(yōu)選的，斷開點(diǎn)A設(shè)置在顯示區(qū)域的測試線路1031的中點(diǎn)處和周邊區(qū)域的測試線路1032的中點(diǎn)處，更為優(yōu)選的，顯示區(qū)域的測試線路1031的兩端和周邊區(qū)域的測試線路1032的兩端也都設(shè)置有斷開點(diǎn)Α。
[0072]可選的，如圖4所示，其為圖3所示的陣列基板中斷開點(diǎn)A處的左視截面圖，導(dǎo)電接點(diǎn)105為從斷開點(diǎn)一端貫通到陣列基板上S表面的過孔，過孔中設(shè)置有延伸到陣列基板上表面的導(dǎo)電物質(zhì)1051。每個(gè)斷開點(diǎn)的兩端的導(dǎo)電接點(diǎn)之間的距離I大于5微米。導(dǎo)電物質(zhì)1051可以為金屬或ITO等。
[0073]每個(gè)斷開點(diǎn)的兩端的導(dǎo)電接點(diǎn)都能夠通過導(dǎo)電銀膠(干燥后具有一定導(dǎo)電性能的膠黏劑)電連接，示例性的，在需要通過測試線路對(duì)工作電路進(jìn)行測試時(shí)，可以在每個(gè)斷開點(diǎn)處滴下導(dǎo)電銀膠，使每個(gè)斷開點(diǎn)的兩端的導(dǎo)電接點(diǎn)都分別連接。需要說明的是，每個(gè)斷開點(diǎn)的兩端的導(dǎo)電接點(diǎn)還可以通過焊接的方式連接。
[0074]可選的，至少一個(gè)斷開點(diǎn)將測試線路劃分為多條子測試線路，多條子測試線路形成于陣列基板上的同一層或不同層。圖4中所示的陣列基板中被斷開點(diǎn)A劃分的多條子測試線路形成于陣列基板上的同一層，其中，子測試線路103a與子測試線路103b形成于同一層。示例性的，測試線路可以與柵線圖案形成于同一層，或與源漏極圖案形成于同一層。
[0075]如圖5所示，其為多條子測試線路形成于陣列基板上不同層時(shí)陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖，可以將形成于基板上的子測試線稱為第一子測試線路，形成于絕緣層上的子測試線路稱為第二子測試線路，第一子測試線路103c與第二子測試線路103d形成于不同層，且形成于不同層的相鄰子測試線路之間可以認(rèn)為設(shè)置有斷開點(diǎn)A，且斷開點(diǎn)A的兩端都設(shè)置有貫通到陣列基板上表面S的導(dǎo)電接點(diǎn)105。
[0076]需要說明的是，多條子測試線路可以有多種排布方式，示例性的，子測試線路有5條，其中3條與柵線圖案形成于同一層，2條與源漏極圖案形成于同一層，本發(fā)明實(shí)施例不作出限制。
[0077]需要補(bǔ)充說明的是，本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板，通過測試線路中的至少一條線路的中點(diǎn)處設(shè)置的斷開點(diǎn)，將測試線路中的至少一條線路分為長度相等的兩條子測試線路，達(dá)到了以一個(gè)斷開點(diǎn)就較大幅度的減小測試線路產(chǎn)生的天線效應(yīng)的效果。
[0078]需要補(bǔ)充說明的是，本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板，通過測試線路中的至少一條線路的兩端設(shè)置的斷開點(diǎn)，將測試線路與工作電路斷開，達(dá)到了避免測試線路積累的電荷傳導(dǎo)至工作電路中的效果。
[0079]綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板，通過在形成測試線路時(shí)，在測試線路上設(shè)置至少一個(gè)斷開點(diǎn)，使斷開點(diǎn)分割而成的子測試線路都不會(huì)過長，減小了測試線路過長時(shí)產(chǎn)生的天線效應(yīng)，解決了相關(guān)技術(shù)中細(xì)長的測試線路容易因?yàn)樘炀€效應(yīng)而聚集較多的電荷，這些電荷可能損壞工作電路的問題；達(dá)到了測試線路不會(huì)因?yàn)樘炀€效應(yīng)損壞工作電路的效果。
[0080]圖6是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的一種陣列基板的制造方法的流程圖，本發(fā)明實(shí)施例以該方法應(yīng)用于制造陣列基板來舉例說明。該陣列基板制造方法可以包括如下幾個(gè)步驟:
[0081]在步驟601中，在基板上形成包含至少一個(gè)斷開點(diǎn)的測試線路，測試線路的兩端分別連接工作電路接口和測試接口。
[0082]在步驟602中，在測試線路上每個(gè)斷開點(diǎn)的兩端形成貫通到陣列基板上表面的導(dǎo)電接點(diǎn)。
[0083]在對(duì)工作電路進(jìn)行測試時(shí)，通過導(dǎo)通所有斷開點(diǎn)的兩端的導(dǎo)電接點(diǎn)能夠?qū)崿F(xiàn)測試線路的導(dǎo)通。
[0084]綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板的制造方法，通過在形成測試線路時(shí)，在測試線路上設(shè)置至少一個(gè)斷開點(diǎn)，使斷開點(diǎn)分割而成的子測試線路都不會(huì)過長，減小了測試線路過長時(shí)產(chǎn)生的天線效應(yīng)，解決了相關(guān)技術(shù)中細(xì)長的測試線路容易因?yàn)樘炀€效應(yīng)而聚集較多的電荷，這些電荷可能損壞工作電路的問題；達(dá)到了測試線路不會(huì)因?yàn)樘炀€效應(yīng)損壞工作電路的效果。
[0085]圖7是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的另一種陣列基板的制造方法的流程圖，本發(fā)明實(shí)施例以該方法應(yīng)用于制造陣列基板來舉例說明。該陣列基板制造方法可以包括如下幾個(gè)步驟:
[0086]在步驟701中，在基板上形成包含至少一個(gè)斷開點(diǎn)的測試線路，測試線路的兩端分別連接工作電路接口和測試接口。
[0087]首先可以在基板上形成包含至少一個(gè)斷開點(diǎn)的測試線路，測試線路的兩端分別連接工作電路接口和測試接口。其中，測試線路中的至少一條線路的中點(diǎn)處設(shè)置有斷開點(diǎn)，即斷開點(diǎn)將測試線路中的至少一條線路分為長度相等的兩條子測試線路，因而中點(diǎn)處設(shè)置斷開點(diǎn)能夠以一個(gè)斷開點(diǎn)就較大幅度的減小測試線路產(chǎn)生的天線效應(yīng)?？蛇x的，測試線路中的至少一條線路的兩端設(shè)置有斷開點(diǎn)，即斷開點(diǎn)將測試線路與工作電路斷開，避免了測試線路積累的電荷傳導(dǎo)至工作電路中。其中，每個(gè)斷開點(diǎn)的兩端的導(dǎo)電接點(diǎn)之間的距離大于5微米。
[0088]可選的，工作電路接口包括顯示區(qū)域的工作電路接口和周邊區(qū)域的工作電路接口，測試接口包括顯示區(qū)域的測試接口和周邊區(qū)域的測試接口，測試線路包括顯示區(qū)域的測試線路和周邊區(qū)域的測試線路。連接的方式為:顯示區(qū)域的測試線路連接顯示區(qū)域的工作電路接口和顯示區(qū)域的測試接口 ；周邊區(qū)域的測試線路連接周邊區(qū)域的工作電路接口和周邊區(qū)域的測試接口。需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例不對(duì)測試接口的位置做出限定，實(shí)際應(yīng)用中，其位置可以調(diào)整。
[0089]此外，根據(jù)測試線路形成位置的不同，步驟701可以包括下面三種情況。
[0090]第一種情況:在基板上形成包含至少一個(gè)斷開點(diǎn)的測試線路與柵極圖案，之后在形成有測試線路與柵極圖案的基板上形成陣列基板所需的其他膜層與圖案(如絕緣層、源漏極圖案和保護(hù)層)。此種情況陣列基板的結(jié)構(gòu)可以參照?qǐng)D8(圖8中未示出柵極圖案)，其中測試線路103形成于基板10上。
[0091]第二種情況:在形成有絕緣層的基板上形成包含至少一個(gè)斷開點(diǎn)的測試線路與源漏極圖案，之后在形成有測試線路與源漏極圖案的基板上形成陣列基板所需的其他膜層與圖案(如保護(hù)層)。此種情況基板的結(jié)構(gòu)可以參照?qǐng)D9(圖9中未示出源漏極圖案)，其中測試線路103形成于絕緣層106上。
[0092]第三種情況:
[0093]子步驟(I)在基板10上形成第一子測試線路103c的圖案與柵極圖案。子步驟
(I)結(jié)束時(shí)基板的結(jié)構(gòu)如圖10所示(圖10中未示出柵極圖案)。
[0094]子步驟(2)在形成有第一子測試線路103c的圖案與柵極圖案的基板10上形成絕緣層106。子步驟(2)結(jié)束時(shí)基板的結(jié)構(gòu)如圖11所示(圖11中未示出柵極圖案)。
[0095]子步驟(3)在形成有絕緣層106的基板10上形成第二子測試線路的圖案與源漏極圖案，第一子測試線路的圖案和第二子測試線路的圖案組成包含至少一個(gè)斷開點(diǎn)的測試線路。之后在形成有測試線路與源漏極圖案的基板上形成陣列基板所需的其他膜層與圖案(如保護(hù)層)，形成陣列基板所需的其他膜層與圖案后基板的結(jié)構(gòu)如圖12所示(圖12中未