且，術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語(yǔ)句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。
[0085]對(duì)所公開的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會(huì)被限制于本文所示的實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種陣列基板的封裝結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括: 陣列基板，所述陣列基板的顯示區(qū)形成有多個(gè)有機(jī)發(fā)光顯示單元； 位于所述陣列基板顯示區(qū)覆蓋所述多個(gè)有機(jī)發(fā)光顯示單元的第一無(wú)機(jī)膜層； 位于所述陣列基板顯示區(qū)周緣的凸起結(jié)構(gòu)； 位于所述凸起結(jié)構(gòu)圍成的顯示區(qū)內(nèi)，背離所述第一無(wú)機(jī)膜層一側(cè)的有機(jī)膜層； 其中，所述凸起結(jié)構(gòu)的表面對(duì)所述有機(jī)膜層的形成溶液具有排斥性，且所述有機(jī)膜層的厚度大于所述凸起結(jié)構(gòu)的高度。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述有機(jī)膜層的厚度與所述凸起結(jié)構(gòu)的高度之間的差值d滿足0 < d <h，其中，h為所述凸起結(jié)構(gòu)的高度。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的封裝結(jié)構(gòu)，其特征在于，10% < d/h < 50 %。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的封裝結(jié)構(gòu)，其特征在于，0ym<h< 20μηι。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)包括擋墻結(jié)構(gòu)，所述擋墻結(jié)構(gòu)的表面對(duì)所述有機(jī)膜層的形成溶液具有排斥性。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)包括擋墻結(jié)構(gòu)和位于所述擋墻結(jié)構(gòu)表面的無(wú)機(jī)膜覆蓋層，所述無(wú)機(jī)膜覆蓋層的表面對(duì)所述有機(jī)膜層的形成溶液具有排斥性。7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的封裝結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述封裝結(jié)果還包括: 位于所述有機(jī)膜層背離所述第一無(wú)機(jī)膜層一側(cè)的第二無(wú)機(jī)膜層。8.一種陣列基板的封裝方法，其特征在于，該方法包括: 提供陣列基板，所述陣列基板表面的顯示區(qū)形成有多個(gè)有機(jī)發(fā)光顯示單元； 在所述陣列基板表面顯示區(qū)形成覆蓋所述有機(jī)發(fā)光顯示單元的第一無(wú)機(jī)膜層； 在所述陣列基板顯示區(qū)周緣形成凸起結(jié)構(gòu)； 對(duì)所述凸起結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行處理，使得所述凸起結(jié)構(gòu)的表面對(duì)于待形成的有機(jī)膜層的形成溶液具有排斥性； 在所述凸起結(jié)構(gòu)圍成的顯示區(qū)內(nèi)，所述第一無(wú)機(jī)膜層背離所述陣列基板一側(cè)表面形成有機(jī)膜層，所述有機(jī)膜層的厚度大于所述凸起結(jié)構(gòu)的高度； 其中，所述有機(jī)膜層的形成工藝為噴墨打印工藝。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的封裝方法，其特征在于，對(duì)所述凸起結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行處理包括: 利用等離子體處理所述凸起結(jié)構(gòu)的表面，或利用紫外線照射所述凸起結(jié)構(gòu)的表面。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的封裝方法，其特征在于，所述等離子體為含氟基氣體和氧氣的混合氣體的等離子體，或氧氣的等離子體。11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的封裝方法，其特征在于，在所述凸起結(jié)構(gòu)圍成的顯示區(qū)內(nèi)，所述第一無(wú)機(jī)膜層背離所述陣列基板一側(cè)表面形成有機(jī)膜層，所述有機(jī)膜層的厚度大于所述凸起結(jié)構(gòu)的高度包括: 根據(jù)所述凸起結(jié)構(gòu)的高度計(jì)算所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想體積； 根據(jù)所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想體積，設(shè)置所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的實(shí)際體積，所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的實(shí)際體積大于所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想體積； 根據(jù)所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的實(shí)際體積，在所述凸起結(jié)構(gòu)圍成的顯示區(qū)內(nèi)，所述第一無(wú)機(jī)膜層背離所述陣列基板一側(cè)表面形成有機(jī)膜層。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的封裝方法，其特征在于，所述根據(jù)所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想體積，設(shè)置所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的實(shí)際體積，所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的實(shí)際體積大于所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想體積包括: 根據(jù)所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想體積以及所述待形成有機(jī)膜層形成時(shí)所用設(shè)備的參數(shù)，計(jì)算所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想數(shù)量和每個(gè)墨滴的理想體積； 根據(jù)所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想數(shù)量和每個(gè)墨滴的理想體積，設(shè)置所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的實(shí)際數(shù)量和每個(gè)墨滴的實(shí)際體積，使得所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的實(shí)際體積大于所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想體積。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的封裝方法，其特征在于，所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的實(shí)際數(shù)量等于所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想數(shù)量，每個(gè)墨滴的實(shí)際體積大于每個(gè)墨滴的理想體積； 或，每個(gè)墨滴的實(shí)際體積等于每個(gè)墨滴的理想體積，所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的實(shí)際數(shù)量大于所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想數(shù)量； 或，所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的實(shí)際數(shù)量大于所述待形成有機(jī)膜層所需墨滴的理想數(shù)量，每個(gè)墨滴的實(shí)際體積大于每個(gè)墨滴的理想體積。14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的封裝方法，其特征在于，在所述陣列基板顯示區(qū)周緣形成凸起結(jié)構(gòu)包括: 在所述陣列基板顯示區(qū)周緣形成擋墻結(jié)構(gòu)； 相應(yīng)的，對(duì)所述凸起結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行處理，使得所述凸起結(jié)構(gòu)的表面對(duì)于待形成的有機(jī)膜層的形成溶液具有排斥性包括: 對(duì)所述擋墻結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行處理，使得所述擋墻結(jié)構(gòu)的表面對(duì)于待形成的有機(jī)膜層的形成溶液具有排斥性。15.根據(jù)權(quán)利要求8所述的封裝方法，其特征在于，在所述陣列基板顯示區(qū)周緣形成凸起結(jié)構(gòu)包括: 在所述陣列基板顯示區(qū)周緣形成擋墻結(jié)構(gòu)； 在所述擋墻結(jié)構(gòu)表面形成無(wú)機(jī)膜覆蓋層，所述無(wú)機(jī)膜覆蓋層與所述第一無(wú)機(jī)膜層同時(shí)形成； 相應(yīng)的，對(duì)所述凸起結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行處理，使得所述凸起結(jié)構(gòu)的表面對(duì)于待形成的有機(jī)膜層的形成溶液具有排斥性包括: 對(duì)所述無(wú)機(jī)膜覆蓋層表面進(jìn)行處理，使得所述無(wú)機(jī)膜覆蓋層的表面對(duì)于待形成的有機(jī)膜層的形成溶液具有排斥性。16.根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的封裝方法，其特征在于，在所述陣列基板顯示區(qū)周緣形成擋墻結(jié)構(gòu)包括: 在所述陣列基板顯示區(qū)周緣形成至少一層絕緣層； 對(duì)所述至少一層絕緣層進(jìn)行刻蝕，在所述陣列基板顯示區(qū)周緣形成擋墻結(jié)構(gòu)。17.根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的封裝方法，其特征在于，在所述陣列基板顯示區(qū)周緣形成擋墻結(jié)構(gòu)包括: 采用打印工藝，在所述陣列基板顯示區(qū)周緣直接形成擋墻結(jié)構(gòu)。18.根據(jù)權(quán)利要求8所述的封裝方法，其特征在于，該封裝方法還包括:在所述有機(jī)膜層背離所述陣列基板一側(cè)形成第二無(wú)機(jī)膜層。19.一種顯示面板，其特征在于，該顯示面板包括權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的封裝結(jié)構(gòu)。
【專利摘要】本發(fā)明實(shí)施例公開了一種陣列基板的封裝結(jié)構(gòu)及封裝方法以及一種包括該陣列基板封裝結(jié)構(gòu)的顯示面板，該陣列基板的封裝結(jié)構(gòu)包括：陣列基板，陣列基板的顯示區(qū)形成有多個(gè)有機(jī)發(fā)光顯示單元；位于陣列基板顯示區(qū)覆蓋多個(gè)有機(jī)發(fā)光顯示單元的第一無(wú)機(jī)膜層；位于陣列基板顯示區(qū)周緣的凸起結(jié)構(gòu)；位于凸起結(jié)構(gòu)圍成的顯示區(qū)內(nèi)，背離第一無(wú)機(jī)膜層一側(cè)的有機(jī)膜層，其中，有機(jī)膜層的厚度大于凸起結(jié)構(gòu)的高度，從而避免有機(jī)膜層無(wú)法完全覆蓋顯示區(qū)的現(xiàn)象，且凸起結(jié)構(gòu)的表面對(duì)有機(jī)膜層的形成溶液具有排斥性，從而在有機(jī)膜層的厚度大于凸起結(jié)構(gòu)的高度時(shí)，避免有機(jī)膜層的形成溶液溢過(guò)凸起結(jié)構(gòu)，蔓延至凸起結(jié)構(gòu)背離顯示區(qū)一側(cè)的現(xiàn)象。
【IPC分類】H01L51/52, H01L51/56
【公開號(hào)】CN105489786
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610112413
【發(fā)明人】金健, 蘇聰藝
【申請(qǐng)人】上海天馬有機(jī)發(fā)光顯示技術(shù)有限公司, 天馬微電子股份有限公司
【公開日】2016年4月13日
【申請(qǐng)日】2016年2月29日