罩圖像。當柵格上片塊產(chǎn)生加權(quán)的NCC分數(shù)中的峰值時，可使用內(nèi)插法來找到最大化此分數(shù)的精細對準。在搜索光罩圖像后，可選擇具有最大分數(shù)的經(jīng)對準片塊作為參考。如果最佳加權(quán)的NCC分數(shù)無法超過最小閥值，那么找不到任何合適參考。
[0049]對于主要為OD或ID的區(qū)域，可合成參考而非在光罩圖像中找到參考。如果整個區(qū)域已標記為OD(所述區(qū)域的中心附近的弱(和強)軸梯度除外)，那么可合成OD參考。所述合成參考內(nèi)的全部像素可設(shè)置為測試區(qū)域的邊限像素的平均值。此技術(shù)可建立最佳地擬合測試區(qū)域的邊限像素的純粹OD參考。如果整個區(qū)域已標記為1D(異常測試區(qū)域的中心附近的弱(和強)軸梯度除外)，那么可合成ID參考。對于水平圖案，合成參考中的每一行像素可設(shè)置為對于所述行的測試區(qū)域的邊限像素的平均值。對于垂直圖案，合成參考中的每一列像素可設(shè)置為對于所述列的測試區(qū)域的邊限像素的平均值。對于對角線圖案，概念可為相同的(例如，建立最佳地擬合測試區(qū)域的邊限像素的純粹ID合成參考)。
[0050]如果未找到或無法合成任何參考，那么特定“測試”或異常區(qū)域可標記為未經(jīng)檢驗且在所述區(qū)域上無法進行進一步處理。如果找到參考，那么收集和補償參考片段。所述收集可使用內(nèi)插法來并入精細對準偏移。所述補償可使用加權(quán)的擬合函數(shù)來計算校正項。較輕權(quán)重可用于區(qū)域的不確定區(qū)域中以便放寬所述區(qū)域中的擬合。一旦計算校正，就將所述校正應(yīng)用到參考片段。
[0051]每一異常事件的測試圖像可與對應(yīng)參考圖像(如果找到)進行比較。如果參考圖像和測試圖像的特定區(qū)域之間的差高于預(yù)定閥值，那么可將此區(qū)域(例如，每一峰值)識別為候選缺陷。
[0052]對于每一異常事件(針對其無法找到參考圖像)，可將所述異常事件的圖像存儲作為參考圖像以用于相同區(qū)域上的隨后重新檢定合格性檢驗(操作207)，如下文進一步描述。此事件可視為不可檢驗的。
[0053]接著，基線事件數(shù)據(jù)可用于光罩的隨后重新檢定合格性檢驗中，如本文中進一步描述。圖3為說明根據(jù)本發(fā)明的特定實施方案的用于產(chǎn)生檢驗報告的檢驗程序300的流程圖。在操作302中，光罩可用于一或多個光刻工藝中以制造一或多個晶片。
[0054]接著，在操作304中，可在光罩上執(zhí)行單裸片檢驗以識別異常事件?？蓤?zhí)行類似于上文所描述的對于基線光罩的檢驗的單裸片檢驗。然而，如果對于特定異常事件未找到或無法合成參考圖像，那么可獲得用于基線圖像中的相同位置且先前經(jīng)存儲的參考圖像且使所述參考圖像用于找到可對應(yīng)于候選缺陷的異常事件。
[0055]接著，在操作306中，可獲得第一事件，且在操作308中，可確定此當前事件是否匹配基線事件。例如，確定所述當前事件是否具有實質(zhì)上類似于基線事件的位置和強度(和可能為通道)。盡管此過程描述為一次分析一個事件，但是為易于論述而如此描述此經(jīng)說明的過程。在經(jīng)并行處理的圖像中識別事件時，將更可能并行分析所述事件，如本文中進一步描述。
[0056]如果確定來自當前檢驗的事件并不匹配基線事件，那么可執(zhí)行任何合適類型的進一步缺陷分析。例如，在操作310中可對當前事件任選執(zhí)行降低敏感度(desense)處理以確定所述當前事件是否為候選缺陷。一般來說，在操作312中，任何過程可用于確定當前事件是否為候選缺陷。例如，如與用于識別事件為異常事件的閥值或算法相比較不嚴格(或不同)的閥值或算法可用于確定當前事件是否為對于光罩的經(jīng)識別為對異常事件/人為產(chǎn)物較不敏感的特定預(yù)定義區(qū)域或特征類型的候選缺陷。即，用戶可已建立配方來以不同方式分析不同類型的特征(例如，邊緣等等)。
[0057]如果確定當前事件為候選缺陷，那么在操作314中可將包含缺陷圖像的所述當前候選事件的缺陷重檢數(shù)據(jù)寫入檢驗報告?；蛘?，可在不進行進一步缺陷分析的情況下將當前事件簡單地寫入檢驗報告。
[0058]對于異常事件的其它后處理可包含使所述事件為保存為檢驗報告的候選缺陷項目而做準備。對于并不匹配先前基線事件的每一候選事件，檢驗報告可含有任何合適缺陷重檢數(shù)據(jù)。例如，缺陷重檢數(shù)據(jù)可包含反射(R)和透射(T)通道圖像兩者、R圖像和T圖像之間的差異圖像、參考R圖像和T圖像(從單裸片過程產(chǎn)生)、縮略圖圖像、找到候選事件的中間計算等等。
[0059]相比之下，如果當前事件并不匹配基線事件，那么可跳過進一步缺陷分析。另外，并不將當前事件的重檢數(shù)據(jù)寫入檢驗報告(即，跳過操作314)。因為并未將包含許多圖像的缺陷重檢數(shù)據(jù)保存為檢驗報告中的項目，所以所述檢驗報告不太可能達到數(shù)據(jù)尺寸限制。在一些檢驗中，在過濾全部異常事件之前對于此類事件的數(shù)據(jù)管道可比最終經(jīng)保存用于檢驗報告的缺陷重檢數(shù)據(jù)大100倍。排除類似于基線事件的事件的檢驗報告的數(shù)據(jù)保存可為重要的。
[0060]如果基線事件和當前事件的位置相對于光罩原點處于相同位置或在彼此的預(yù)定距離內(nèi)(例如彼此的0.5um距離內(nèi))且所述基線事件和所述當前事件具有類似尺寸(如果尺寸值彼此相等或在彼此的30%內(nèi))，那么可確定所述基線事件和所述當前事件匹配。否則，將當前事件視為新的事件且保留用于檢驗報告。
[0061]在處理當前事件后，接著在操作316中可確定這是否為最后事件。如果這并非最后事件，那么可獲得且處理下一事件。否則，檢驗報告產(chǎn)生過程結(jié)束。
[0062]圖4說明根據(jù)一個實施例的檢驗和缺陷重檢程序400的綜述。如所展示，在操作402中，可從引起可接受良率的高良率光罩產(chǎn)生基線事件數(shù)據(jù)?？赏ㄟ^圖1的基線事件產(chǎn)生程序獲得基線事件數(shù)據(jù)。可使用任何合適檢驗工具獲得來自高良率光罩的圖像?；蛘?，可基于包含OPC裝飾的設(shè)計數(shù)據(jù)庫模擬圖像。例如，可相對于設(shè)計數(shù)據(jù)來模擬一光罩制造工藝。接著，例如通過單裸片過程分析光罩圖像以產(chǎn)生針對高良率光罩的基線事件列表。
[0063]接著，在操作404中可產(chǎn)生排除實質(zhì)上匹配任何基線事件的事件的候選缺陷和其相關(guān)聯(lián)缺陷重檢數(shù)據(jù)的檢驗報告。例如，可實施圖2的檢驗報告產(chǎn)生過程以從當前光罩產(chǎn)生并不包含匹配來自高良率光罩的基線事件的事件的候選缺陷事件列表。
[0064]接著，在操作406中可重檢來自檢驗報告的剩余候選事件和其重檢數(shù)據(jù)。例如，操作者可重檢每一缺陷的圖像以確定每一缺陷是否對應(yīng)于限制良率的顯著或真實缺陷。另夕卜，可通過將缺陷分類成若干類別使得操作者可有效地重檢每一類別的子集(與重檢全部候選缺陷相反)的分類器工具來分析剩余缺陷。
[0065]接著，在操作408中可基于此圖確定光罩是否通過檢驗。例如，可確定事件的尺寸值是否高于預(yù)定義閥值。如果所述尺寸高于所述預(yù)定義閥值，那么可接著更仔細地重檢對應(yīng)光罩部分以確定所述光罩是否有缺陷和是否不能再使用。
[0066]如果光罩未通過檢驗，那么在操作410中可修復(fù)或摒棄所述光罩且檢驗結(jié)束。然而，如果所述光罩通過檢驗，那么在操作402中可對于所述光罩再次產(chǎn)生事件的另一基線。即，光罩可確定為在規(guī)格內(nèi)，且可接著對于此高良率光罩確定新的基線事件集合。同樣地，在修復(fù)后，還可對于所述經(jīng)修復(fù)的光罩確定基線事件列表。
[0067]在再次使用光罩(經(jīng)修復(fù)或通過檢驗的光罩)后，可基于事件的新基線或先前基線而針對新的事件再次檢驗所述光罩。在經(jīng)修復(fù)的光罩的替代實施例中，事件的先前基線和修復(fù)位置列表可用于所述經(jīng)修復(fù)光罩的隨后檢驗。即，如果隨后檢驗引起并不匹配當前基線集合的位置或并不對應(yīng)于修復(fù)位置的額外事件，那么僅這些新的事件可包含于對于所述經(jīng)修復(fù)光罩的檢驗報告中。
[0068]本發(fā)明的某些實施例大體上提供用于以通過包含最小量的數(shù)據(jù)(例如，通過并不包含對于此類事件的圖像)而最小化文件大小的方式傳遞高良率光罩的異常事件的技術(shù)。例如，事件的基線在一些情況中可僅包含高良率光罩的每一經(jīng)檢測的異常事件的位置和尺寸數(shù)據(jù)(和可能關(guān)于使用哪一通道的指示)。因為基線數(shù)據(jù)傾向于獨立于檢驗工具，所以所述基線數(shù)據(jù)可在不同檢驗工具上用于光罩的隨后檢驗中。即，位置和尺寸跨不同檢驗工具而穩(wěn)定。
[0069]可使用以任何合適方式建立的任何檢驗工具(例如光學檢驗系統(tǒng))獲得單裸片光罩的圖像。通常使用操作參數(shù)集合或“配方”建立檢驗系統(tǒng)。配方設(shè)置可包含以下設(shè)置中的一或多者:用于以特定圖案、像素尺寸掃描光罩的設(shè)置、用于將來自單信號的相鄰信號進行分組的設(shè)置、焦點設(shè)置、照明或檢測孔徑設(shè)置、入射射束角和波長設(shè)置、檢測器設(shè)置、對經(jīng)反射或透射的光量的設(shè)置、空間模型化參數(shù)等等。相同或不同配方或相同或不同檢驗工具可用于針對基線而檢驗相同光罩和用于一或多個隨后重新檢定合格性檢驗。
[0070]在一些實施例中，用于不同檢驗的單裸片的圖像具有相同對準使得來自不同檢驗的經(jīng)成像圖案的尺寸和位置可互相比較。任何合適方法可用于使圖像跨檢驗對準到相同坐標系或原點。例如，每一檢驗可對準光罩使得相對于光罩上的相同原點獲得圖像。光罩原點可采取用于對準所述光罩的一或多個參考標記的形式。
[0071]可通常操作檢驗工具來將此經(jīng)檢測的光轉(zhuǎn)換成對應(yīng)于強度值的經(jīng)檢測信號。所述經(jīng)檢測的信號可采取具有對應(yīng)于在光罩的不同位置處的不同強度值的振幅值的電磁波形的形式。所述經(jīng)檢測的信號還可采取強度值和相關(guān)聯(lián)光罩點坐標的簡單列表的形式。所述經(jīng)檢測的信號還可采取具有對應(yīng)